光隔离器
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104145209A

    公开(公告)日:2014-11-12

    申请号:CN201280060030.0

    申请日:2012-12-07

    CPC classification number: G02F1/093 G02B27/281 H01F7/0273 H01S5/0064

    Abstract: 本发明提供一种小型光隔离器,适合作为用于医疗、光学计测用等用途的半导体激光中使用的光隔离器。一种光隔离器,是用于320nm~633nm波长带,其特征在于,包括:波长405nm中的费尔德常数为0.70分钟/(Oe·cm)以上的法拉第转子;以及第1中空磁铁与第2中空磁铁单元及第3中空磁铁单元,第1中空磁铁配置于法拉第转子的外周,第2中空磁铁单元及第3中空磁铁单元是在光轴上夹着第1中空磁铁而配置,第2中空磁铁单元及第3中空磁铁单元包含相对于光轴而在90度方向上等分割的2个以上的磁铁,对法拉第转子施加的磁通密度B(Oe)处于下述式(1)的范围内,配置法拉第转子的样品长L(cm)处于下述式(2)的范围内。0.8×104≦B≦1.5×104 (1),0.25≦L≦0.45 (2)。

    光隔离器
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104280901A

    公开(公告)日:2015-01-14

    申请号:CN201410332275.5

    申请日:2014-07-11

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种600nm~800nm波长范围用的小型化光隔离器,其适合于作为在医疗、光测量中使用的半导体激光器中的光隔离器。本发明是600nm~800nm波长范围用的光隔离器,其特征在于,该光隔离器具备法拉第转子和配置在该法拉第转子外周的中空磁铁,所述法拉第转子由包含99%以上的下式(I)所示的氧化物的氧化物材料构成,并且,在633nm波长的费尔德常数为0.90min/(Oe·cm)以上,其中,配置法拉第转子的样品长L(cm)处于下述式(1)的范围内,对法拉第转子施加的磁通密度B(Oe)处于下述式(2)的范围内。(TbxR1-x)2O3(I)在上式(I)中,x为0.5≦x≦1.0;R包含选自由钪、钇和除Tb以外的镧系元素组成的集合中的至少一种以上的元素。0.6≦L≦1.1(1)B≦0.5×104(2)。

    透明陶瓷、其制造方法和磁光学设备

    公开(公告)号:CN110240480A

    公开(公告)日:2019-09-17

    申请号:CN201910173615.7

    申请日:2019-03-08

    Abstract: 本发明涉及一种透明陶瓷、其制造方法和磁光学设备。通过下述操作制造透明陶瓷材料:将原料粉末成型为成型体,该原料粉末包括稀土氧化物和烧结助剂,该稀土氧化物由至少40mol%的氧化铽和余量的其他稀土氧化物组成;通过以至少100℃/h的速率从室温加热至T1(1200℃≤T1≤T)和任选地以1-95℃/h的速率从T1加热在温度T(1,300℃≤T≤1,650℃)下将该成型体烧结;和在1,300-1,650℃下对烧结的成型体进行HIP处理。该陶瓷材料在可见区域中具有改善的漫透射率并且在从可见区域至NIR区域的宽范围中作为磁光学部件发挥功能。

    透明陶瓷、其制造方法和磁光学设备

    公开(公告)号:CN110240480B

    公开(公告)日:2022-10-21

    申请号:CN201910173615.7

    申请日:2019-03-08

    Abstract: 本发明涉及一种透明陶瓷、其制造方法和磁光学设备。通过下述操作制造透明陶瓷材料:将原料粉末成型为成型体,该原料粉末包括稀土氧化物和烧结助剂,该稀土氧化物由至少40mol%的氧化铽和余量的其他稀土氧化物组成;通过以至少100℃/h的速率从室温加热至T1(1200℃≤T1≤T)和任选地以1‑95℃/h的速率从T1加热在温度T(1,300℃≤T≤1,650℃)下将该成型体烧结;和在1,300‑1,650℃下对烧结的成型体进行HIP处理。该陶瓷材料在可见区域中具有改善的漫透射率并且在从可见区域至NIR区域的宽范围中作为磁光学部件发挥功能。

    光隔离器
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104280901B

    公开(公告)日:2017-03-22

    申请号:CN201410332275.5

    申请日:2014-07-11

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种600nm~800nm波长范围用的小型化光隔离器,其适合于作为在医疗、光测量中使用的半导体激光器中的光隔离器。本发明是600nm~800nm波长范围用的光隔离器,其特征在于,该光隔离器具备法拉第转子和配置在该法拉第转子外周的中空磁铁,所述法拉第转子由包含99%以上的下式(I)所示的氧化物的氧化物材料构成,并且,在633nm波长的费尔德常数为0.90min/(Oe·cm)以上,其中,配置法拉第转子的样品长L(cm)处于下述式(1)的范围内,对法拉第转子施加的磁通密度B(Oe)处于下述式x为0.5≦x≦1.0;R包含选自由钪、钇和除Tb以外的镧系元素组成的集合中的至少一种以上的元素。0.6≦L≦1.1   (1)B≦0.5×104   (2)。(2)的范围内。(TbxR1-x)2O3   (I) 在上式(I)中,

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