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公开(公告)号：CN113710615B
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202080030274.9
申请日：2020-02-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C01B19/04 , C01B25/08 , C01G3/00 , C01G5/00 , C01G9/08 , C09K11/08 , C09K11/56 , C09K11/62 , C09K11/70 , C09K11/88 , B82Y20/00 , B82Y40/00 , H01L33/50
Abstract: 本发明为一种量子点，其为作为结晶性纳米颗粒荧光体的量子点，其中，所述量子点具有核壳结构，所述核壳结构包括包含第一金属元素的核颗粒与包含第二金属元素的壳层，在所述核颗粒与所述壳层的界面存在与所述第一金属元素及所述第二金属元素不同的第三金属元素，以摩尔比计，所述第三金属元素的量相对于所述核颗粒所含的所述第一金属元素的量为10％以下。由此，提供一种发射波长的控制性优异、且同时具有高发光特性及发光效率的量子点。
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公开(公告)号：CN115362238A
公开(公告)日：2022-11-18
申请号：CN202180026031.2
申请日：2021-03-02
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种量子点的制造方法，所述量子点为结晶性纳米颗粒荧光体，所述制造方法中，使用含有彼此不同的元素的第一前驱体溶液及第二前驱体溶液，将第二前驱体溶液制成气溶胶并向已加热的第一前驱体溶液进行喷雾、或者将第一前驱体溶液及第二前驱体溶液分别制成气溶胶并向已加热的溶剂进行喷雾，由此使第一前驱体溶液与第二前驱体溶液进行反应，合成含有彼此不同的元素的核颗粒。由此，提供一种能够在大规模的合成中抑制量子点的粒径的不均匀性及伴随于此的发射波长的分布的增大的量子点的制造方法。
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公开(公告)号：CN113874466A
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN202080038558.2
申请日：2020-04-17
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种量子点，所述量子点为结晶性纳米颗粒荧光体，所述量子点的表面经含有氟的配体修饰。由此，提供一种具有高稳定性、在添加至含氟树脂中时也不易引起凝集的为结晶性纳米颗粒荧光体的量子点。
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公开(公告)号：CN111433320A
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN201880078304.6
申请日：2018-11-06
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 野岛义弘
Abstract: 本发明提供一种量子点，其含有粒径为20nm以下的半导体晶体颗粒，所述量子点的特征在于，具有2个以上与该半导体晶体颗粒进行相互作用的官能团的配体以二齿以上的方式配位于所述半导体晶体颗粒表面。由此，提供一种使用具有2个以上与半导体晶体颗粒进行相互作用的官能团且以二齿以上的方式配位于半导体颗粒表面的配体，对半导体晶体颗粒表面进行修饰，从而提高了稳定性的量子点。
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公开(公告)号：CN106687552A
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201580047692.8
申请日：2015-07-02
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 野岛义弘
IPC: C09K3/14 , B24B37/00 , C09G1/02 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种研磨组合物，其包含金属氧化物颗粒作为磨粒，所述研磨组合物的特征在于，作为所述金属氧化物颗粒，包含：在粉末X射线衍射图案中的衍射强度达到最大的峰部分的半值宽度不足1°的金属氧化物颗粒；进一步地，作为选择比调节剂，包含：2种以上的具有不同重均分子量的水溶性聚合物，该水溶性聚合物的不同重均分子量的比值为10以上。由此，提供一种研磨组合物以及使用该研磨组合物的半导体基板的研磨方法，所述研磨组合物维持高研磨速率，并能够抑制产生划痕、碟型凹陷、磨损等由研磨所引起的缺陷，并且能够任意地调节金属层与绝缘体层的研磨速度的比例即选择比。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN120019329A
公开(公告)日：2025-05-16
申请号：CN202380071191.8
申请日：2023-09-26
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F2/44 , C08F292/00 , G02B5/20 , G03F7/038 , G03F7/075 , H10H20/851
Abstract: 本发明提供一种光敏树脂组合物，其特征在于，包含：(A)具有酚羟基的有机硅树脂、(B)光致产酸剂及(C)量子点，所述量子点具有含有硅氧烷的表面包覆层。由此，可提供能够容易形成具有高光刻分辨率、良好的发光特性的覆膜的光敏树脂组合物，使用该光敏树脂组合物获得的光敏树脂覆膜、光敏干膜及使用它们的图案形成方法、以及使用所述光敏树脂组合物获得的发光元件。
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公开(公告)号：CN119998695A
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202380070954.7
申请日：2023-09-26
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种含量子点组合物，其为使通过激发光发出荧光的量子点分散于树脂组合物而得到的含量子点组合物，其特征在于，所述量子点具有配位于其表面的配体与同所述配体键合并含有硅氧烷键的表面包覆层，所述表面包覆层含有所述树脂组合物中包含的高分子所具有的取代基、能够与所述树脂组合物中包含的高分子聚合的取代基、或者具有与所述高分子相同的骨架结构的化合物中的至少一种以上。由此，可提供一种维持了量子点的特性，同时提升了稳定性且改善了与高极性溶剂和光敏树脂组合物的相容性的含量子点组合物及其制备方法。
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公开(公告)号：CN115698780A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202180036783.7
申请日：2021-04-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G02B5/20 , C09K11/00 , C09K11/02 , C09K11/08 , C09K11/56 , C09K11/70 , C09K11/88 , B82Y20/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明涉及一种含量子点的聚合物，其是含有通过激发光而发出荧光的量子点的含量子点的聚合物，其中，该含量子点的聚合物为在最表面配位有具有反应性取代基的配体的所述量子点与具有可聚合的取代基的有机硅化合物的聚合物。由此，可通过温和的条件而提供一种稳定化的含量子点的聚合物。
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公开(公告)号：CN110546233A
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201880024428.6
申请日：2018-03-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明为一种合成石英玻璃基板用研磨剂，其含有研磨颗粒及水而成，其特征在于，所述研磨颗粒以二氧化硅颗粒为母体颗粒，在该母体颗粒的表面担载有铈与选自除铈以外的其他三价稀土元素中的至少一种稀土元素的复合氧化物颗粒。由此，可提供一种具有高研磨速度且能够充分降低因研磨导致的缺陷的产生的合成石英玻璃基板用研磨剂。
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