量子点的制造方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115362238A

    公开(公告)日:2022-11-18

    申请号:CN202180026031.2

    申请日:2021-03-02

    Abstract: 本发明提供一种量子点的制造方法,所述量子点为结晶性纳米颗粒荧光体,所述制造方法中,使用含有彼此不同的元素的第一前驱体溶液及第二前驱体溶液,将第二前驱体溶液制成气溶胶并向已加热的第一前驱体溶液进行喷雾、或者将第一前驱体溶液及第二前驱体溶液分别制成气溶胶并向已加热的溶剂进行喷雾,由此使第一前驱体溶液与第二前驱体溶液进行反应,合成含有彼此不同的元素的核颗粒。由此,提供一种能够在大规模的合成中抑制量子点的粒径的不均匀性及伴随于此的发射波长的分布的增大的量子点的制造方法。

    研磨组合物以及研磨方法

    公开(公告)号:CN106687552A

    公开(公告)日:2017-05-17

    申请号:CN201580047692.8

    申请日:2015-07-02

    Inventor: 野岛义弘

    Abstract: 本发明提供一种研磨组合物,其包含金属氧化物颗粒作为磨粒,所述研磨组合物的特征在于,作为所述金属氧化物颗粒,包含:在粉末X射线衍射图案中的衍射强度达到最大的峰部分的半值宽度不足1°的金属氧化物颗粒;进一步地,作为选择比调节剂,包含:2种以上的具有不同重均分子量的水溶性聚合物,该水溶性聚合物的不同重均分子量的比值为10以上。由此,提供一种研磨组合物以及使用该研磨组合物的半导体基板的研磨方法,所述研磨组合物维持高研磨速率,并能够抑制产生划痕、碟型凹陷、磨损等由研磨所引起的缺陷,并且能够任意地调节金属层与绝缘体层的研磨速度的比例即选择比。

    含量子点组合物及其制备方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119998695A

    公开(公告)日:2025-05-13

    申请号:CN202380070954.7

    申请日:2023-09-26

    Abstract: 本发明提供一种含量子点组合物,其为使通过激发光发出荧光的量子点分散于树脂组合物而得到的含量子点组合物,其特征在于,所述量子点具有配位于其表面的配体与同所述配体键合并含有硅氧烷键的表面包覆层,所述表面包覆层含有所述树脂组合物中包含的高分子所具有的取代基、能够与所述树脂组合物中包含的高分子聚合的取代基、或者具有与所述高分子相同的骨架结构的化合物中的至少一种以上。由此,可提供一种维持了量子点的特性,同时提升了稳定性且改善了与高极性溶剂和光敏树脂组合物的相容性的含量子点组合物及其制备方法。

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