非水电解质二次电池用负极及非水电解质二次电池

    公开(公告)号:CN105981202B

    公开(公告)日:2019-05-07

    申请号:CN201480074958.3

    申请日:2014-12-03

    Abstract: 本发明是一种非水电解质二次电池用负极,其含有多个负极活性物质,所述非水电解质二次电池用负极的特征在于,前述负极活性物质至少含有硅系活性物质SiOx及碳系活性物质,其中,0.5≤x≤1.6,并且前述硅系活性物质的内部含有Li2SiO3及Li4SiO4中的至少一种,前述硅系活性物质的表层被Li2CO3、LiF及碳中的至少一种覆盖,前述硅系活性物质相对于前述负极活性物质的总量的比是6质量%以上。由此,可以提供一种负极电极和具有此负极电极的锂离子二次电池,所述负极电极当作为锂离子二次电池的负极电极使用时,能够增加电池容量,并提高循环特性和初始充放电特性。

    一氧化硅的制造方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117597307A

    公开(公告)日:2024-02-23

    申请号:CN202280046915.9

    申请日:2022-06-29

    Abstract: 本发明为一种一氧化硅的制造方法,其为制造一氧化硅的方法,其具有:以包含氧气与非活性气体的第一混合气体为载体,将作为原料的金属硅粉末或金属硅粉末与二氧化硅粉末的混合粉供给至燃烧装置的操作A;及对所述燃烧装置供给包含可燃性气体、氧气及非活性气体的第二混合气体来形成火焰,在该火焰中使源自所述金属硅粉末的硅成分与所述氧气反应,由此获得产物的操作B,在进行所述操作B时也同时进行操作A,通过调整供给至所述燃烧装置的所述金属硅粉末的量与所述第一混合气体中包含的氧气和所述第二混合气体中包含的氧气的合计量之比,从而在生成一氧化硅粉末的条件下进行所述硅成分与氧气的反应。由此,提供一种生产性高的一氧化硅的制造方法。

    制造磁记录介质衬底的方法

    公开(公告)号:CN1577512A

    公开(公告)日:2005-02-09

    申请号:CN200410071640.8

    申请日:2004-07-15

    CPC classification number: G11B5/8404 B23K26/40 B23K2101/40 B23K2103/50

    Abstract: 本发明提供了一种用于改善取芯步骤产率的方法。更具体地说,本发明提供了一种用于制造用作磁记录介质衬底的衬底的方法,其包括:取芯步骤,以从具有至少150mm和至多300mm直径的单晶硅晶片获得具有至多55mm直径的多个环形衬底,其中,取芯的执行使得不包括多个衬底的残余晶片保留在一片内。在所述取芯步骤中,优选使用激光切割或水喷射切割来执行取芯,使得所述残余晶片的所述表面的所述最小宽度是所述晶片厚度的1.5至2.5倍。

    用于插入装置的磁铁块组件

    公开(公告)号:CN1199232A

    公开(公告)日:1998-11-18

    申请号:CN98106910.X

    申请日:1998-04-14

    CPC classification number: H01F7/0278 H01F13/00 H05H7/04

    Abstract: 公开了一种用于Halbach型或混合型的插入装置的新颖的复合磁铁组件,本发明的磁铁块组件由多个对面放置的复合磁铁块组成,它们各自由一个单一的具有多条槽的基础磁铁块形成,在这些槽里插着镶嵌磁铁片或镶嵌磁极片,这样为改善磁场的规则性的沿磁铁块组件长度方向的尺寸精度要求大大下降。在Halbach型组件中的基础磁铁块与镶嵌磁铁片一样能用脉冲磁场在组装后被磁化。

    磁记录介质用衬底及其制造方法和磁记录介质

    公开(公告)号:CN1577510A

    公开(公告)日:2005-02-09

    申请号:CN200410071638.0

    申请日:2004-07-15

    CPC classification number: C30B29/06 C30B29/60 C30B33/00

    Abstract: 本发明提供一种磁记录介质用衬底,优选提供一种具有不大于65mm直径的小直径衬底,其在物理特性和成本方面都具有优势。更具体地,本发明提供一种使用了之前经历过至少一次加热和/或腐蚀的单晶硅晶片的磁记录介质用衬底。此外,本发明提供一种制造磁记录介质用衬底的方法,该方法包括:取芯步骤,用于从经历过至少一次加热和/或腐蚀的直径至少为150mm和至多为300mm的单晶硅晶片上裁剪得到多个外径不大于65mm的环形衬底。所述方法优选地进一步包括倒棱步骤,用于将所述环形衬底内外圆周面上的棱除去;以及圆周面抛光步骤,用于抛光经过倒棱的内外圆周面。

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