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公开(公告)号：CN109324476B
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN201811402119.6
申请日：2015-01-20
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/00
Abstract: 公开了压印装置和制造物品的方法。本发明提供了通过使用模具使基板的压射区域上的压印材料成型的压印装置，该压印装置包括：检测单元，被配置成检测照射模具的第一标记和基板的第二标记的第一光并测量第一标记与第二标记之间的位置偏差；加热单元，被配置成用第二光照射基板以便加热基板并使压射区域变形；以及控制单元，被配置成基于位置偏差控制模具与基板之间的对准，其中，检测单元或加热单元的参数被设定成在检测第一光并且用第二光照射基板时检测单元不检测第二光。
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公开(公告)号：CN107272347B
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN201710207996.7
申请日：2017-03-31
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供照射装置、光学装置、压印装置、投影装置和物品的制造方法。该照射装置执行倾斜照射并且包括：第一光学元件，其由多个光学部件的阵列形成，各个光学部件被构造为产生点光源；以及第二光学元件，其被构造为接收来自所述第一光学元件的光并形成照射区域，所述第二光学元件在一个方向上的屈光力不同于所述第二光学元件在与所述一个方向垂直的方向上的屈光力，其中，所述第一光学元件和所述第二光学元件中的至少一个具有围绕光学元件的光轴的旋转角度，以对由所述倾斜照射而引起的所述照射区域的失真进行补偿。
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公开(公告)号：CN1412622A
公开(公告)日：2003-04-23
申请号：CN02145784.0
申请日：2002-10-17
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03F7/70525 , G03F7/70633 , G03F9/7046
Abstract: 在运行中，管理作为管理对象设备的设备管理方法，设定用于运行作为管理对象设备的参数(S205)；按照该设定的参数，运行设备(S220)；在该设备的运行中检查运行设备的结果的检查(S225)。从表示对由检查求出的第1参数值的运行结果的第1评价量，和按照与第1参数值不同的第2参数值(S215)表示运行结果的第2评价量(S210、S230)中决定参数值(S255、S260)。把第1参数值更新为决定的参数值，按照该更新后的参数值运行设备。
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公开(公告)号：CN105917442B
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：CN201580005034.2
申请日：2015-01-20
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L21/027 , B29C59/02 , G03F7/20
CPC classification number: B29C43/58 , B29C35/0805 , B29C43/52 , B29C2035/0827 , B29C2043/5816 , B29C2043/585 , B29L2031/34 , G01B11/14 , G02B5/1861 , G02B5/20 , G02B27/141 , G03F7/0002 , H01L21/565
Abstract: 本发明提供了通过使用模具使基板的压射区域上的压印材料成型的压印装置，该压印装置包括：检测单元，被配置成检测照射模具的第一标记和基板的第二标记的第一光并测量第一标记与第二标记之间的位置偏差；加热单元，被配置成用第二光照射基板以便加热基板并使压射区域变形；以及控制单元，被配置成基于位置偏差控制模具与基板之间的对准，其中，检测单元或加热单元的参数被设定成在检测第一光并且用第二光照射基板时检测单元不检测第二光。
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公开(公告)号：CN107272347A
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201710207996.7
申请日：2017-03-31
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供照射装置、光学装置、压印装置、投影装置和物品的制造方法。该照射装置执行倾斜照射并且包括：第一光学元件，其由多个光学部件的阵列形成，各个光学部件被构造为产生点光源；以及第二光学元件，其被构造为接收来自所述第一光学元件的光并形成照射区域，所述第二光学元件在一个方向上的屈光力不同于所述第二光学元件在与所述一个方向垂直的方向上的屈光力，其中，所述第一光学元件和所述第二光学元件中的至少一个具有围绕光学元件的光轴的旋转角度，以对由所述倾斜照射而引起的所述照射区域的失真进行补偿。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103048878A
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：CN201210385057.9
申请日：2012-10-12
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/00 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/682 , B29C35/0805 , B29C59/026 , B29C59/16 , B29C2035/0822 , B29K2101/00 , B29L2009/00 , B29L2031/34 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L21/0271 , H01L21/324 , H01L21/67115 , H01L21/6715 , H01L21/6838 , H01L22/20 , H01L23/544
Abstract: 本发明涉及一种压印方法、压印装置和设备制造方法。本发明的压印方法包括以下步骤：把基板保持在保持面上的保持步骤；使在基板上形成图案处的基板侧图案区的形状变形的变形步骤；使经变形的基板侧图案区上的树脂与模具接触的接触步骤；固化树脂的固化步骤；和使模具脱离与模具接触的树脂的脱模步骤。其中在变形步骤中，在沿着基板的表面的方向上对基板施加变形力，所述变形力大于作用于与基板侧图案区对应的基板的背面和所述保持面之间的最大静摩擦力。
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公开(公告)号：CN105372932B
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201510493985.0
申请日：2015-08-12
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 松本隆宏
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明提供一种压印装置、照明光学系统及物品制造方法。该压印装置包括：加热单元，其被构造为对所述基板上进行压印处理的压印区域加热并且改变所述压印区域的形状。所述加热单元包括：第一光学系统，其被构造为发射在与光轴垂直的第一方向和第二方向上扩展的光束；改变单元，其被构造为改变从所述第一光学系统发射的光束在所述第一方向与所述第二方向上的宽度的比率；以及强度分布调节单元，其被构造为调节所述比率已被改变的光束的强度分布；并且所述加热单元通过用来自所述强度分布调节单元的光束照射所述压印区域来加热所述压印区域。
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公开(公告)号：CN105372932A
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201510493985.0
申请日：2015-08-12
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 松本隆宏
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明提供一种压印装置、照明光学系统及物品制造方法。该压印装置包括：加热单元，其被构造为对所述基板上进行压印处理的压印区域加热并且改变所述压印区域的形状。所述加热单元包括：第一光学系统，其被构造为发射在与光轴垂直的第一方向和第二方向上扩展的光束；改变单元，其被构造为改变从所述第一光学系统发射的光束在所述第一方向与所述第二方向上的宽度的比率；以及强度分布调节单元，其被构造为调节所述比率已被改变的光束的强度分布；并且所述加热单元通过用来自所述强度分布调节单元的光束照射所述压印区域来加热所述压印区域。
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公开(公告)号：CN103175468B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201210559946.2
申请日：2012-12-21
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 松本隆宏
CPC classification number: G01B11/14 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F9/7042 , G03F9/7049
Abstract: 本发明公开了位置检测装置、压印装置和用于制造器件的方法。一种用来自光源的光照射形成在两个物体上的衍射光栅并从所述衍射光栅接收衍射光以获取所述两个物体的相对位置的位置检测装置包括：光学系统，其被构造为使来自所述衍射光栅中的每一个的+n级衍射光和-n级衍射光彼此干涉，其中，n为自然数；光接收单元；和处理单元，其中，所述光接收单元从所述衍射光栅中的每一个接收双束干涉光，并且其中，所述处理单元通过使用来自所述衍射光栅中的每一个的衍射光的双束干涉光之中的、下述区域处的双束干涉光来获取所述两个物体的相对位置，在所述区域，来自各个衍射光栅的衍射光的双束干涉光彼此不重叠。
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公开(公告)号：CN103175468A
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN201210559946.2
申请日：2012-12-21
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 松本隆宏
CPC classification number: G01B11/14 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F9/7042 , G03F9/7049
Abstract: 本发明公开了位置检测装置、压印装置和用于制造器件的方法。一种用来自光源的光照射形成在两个物体上的衍射光栅并从所述衍射光栅接收衍射光以获取所述两个物体的相对位置的位置检测装置包括：光学系统，其被构造为使来自所述衍射光栅中的每一个的+n级衍射光和-n级衍射光彼此干涉，其中，n为自然数；光接收单元；和处理单元，其中，所述光接收单元从所述衍射光栅中的每一个接收双束干涉光，并且其中，所述处理单元通过使用来自所述衍射光栅中的每一个的衍射光的双束干涉光之中的、下述区域处的双束干涉光来获取所述两个物体的相对位置，在所述区域，来自各个衍射光栅的衍射光的双束干涉光彼此不重叠。
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