公开(公告)号：CN1412622A

公开(公告)日：2003-04-23

申请号：CN02145784.0

申请日：2002-10-17

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 稻秀树 ,  铃木武彦 ,  千德孝一 ,  松本隆宏 ,  大石哲

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/02

CPC classification number: G03F7/70525 ,  G03F7/70633 ,  G03F9/7046

Abstract: 在运行中，管理作为管理对象设备的设备管理方法，设定用于运行作为管理对象设备的参数(S205)；按照该设定的参数，运行设备(S220)；在该设备的运行中检查运行设备的结果的检查(S225)。从表示对由检查求出的第1参数值的运行结果的第1评价量，和按照与第1参数值不同的第2参数值(S215)表示运行结果的第2评价量(S210、S230)中决定参数值(S255、S260)。把第1参数值更新为决定的参数值，按照该更新后的参数值运行设备。

公开(公告)号：CN100419576C

公开(公告)日：2008-09-17

申请号：CN02145784.0

申请日：2002-10-17

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 稻秀树 ,  铃木武彦 ,  千德孝一 ,  松本隆宏 ,  大石哲

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/02

Abstract: 提供一种曝光设备，具备：对准部件，检测形成在晶片上的对准标记；晶片台，保持上述晶片；以及存储部，存储由关于上述晶片的第1信息、关于上述晶片的第2信息、以及通过检查基于上述第1信息而被曝光的上述晶片而求出的重合检查结果所决定的对准参数的值，其中，上述第1信息是通过把对准参数作为第1值来处理通过驱动上述对准部件和上述晶片台而获得的对准信号而获得的，上述第2信息是通过把上述对准参数作为不同于上述第1值的第2值来处理上述对准信号而获得的，其中预测上述晶片基于上述第2信息被曝光时可能产生的重合误差，当上述预测的重合误差好于上述重合检查结果时，将上述第2值决定为上述决定的上述对准参数的值。