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公开(公告)号：CN1197848A
公开(公告)日：1998-11-04
申请号：CN98100854.2
申请日：1998-02-26
Applicant: 住友重机械工业株式会社 , 日本板硝子株式会社
IPC: C23C14/32
CPC classification number: H01J37/32422 , H01J37/3266
Abstract: 一种校正机构包括一个用以校正等离子体束扭转和/或偏移的磁体(51),它被置放在真空腔(21)和导引线圈(23)之间的一个位置处,在那里有由导引线圈产生的磁力线。
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公开(公告)号：CN1160478C
公开(公告)日：2004-08-04
申请号：CN98100854.2
申请日：1998-02-26
Applicant: 住友重机械工业株式会社 , 日本板硝子株式会社
IPC: C23C14/32
CPC classification number: H01J37/32422 , H01J37/3266
Abstract: 一种真空薄膜生长设备，其特征在于：它包括：一个真空腔，一个装在所述真空腔上的等离子体源，一个置于所述真空腔内的阳极，以及一个设在真空腔外将由所述等离子体源产生的等离子体束引导进入所述阳极的导引线圈；所述真空薄膜生长设备适用于将所述等离子体束引导向所述阳极并在一块衬底上形成一层薄膜；所述真空薄膜生长设备还包括一个用以校正所述等离子体束的扭转和/偏移的校正机构，所述校正机构包含设置于在所述导引线圈处、或者设置于所述导引线圈和所述真空腔之间另一位置处的一个磁体，在该另一位置处有从所述导引线圈产生的磁力线。
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公开(公告)号：CN1202535A
公开(公告)日：1998-12-23
申请号：CN98101786.X
申请日：1998-05-08
Applicant: 住友重机械工业株式会社
Inventor： 田中胜
IPC: C23C14/32
Abstract: 由在真空室内产生的等离子束通过汽化一种材料在物件上沉积一种膜的等离子沉积装置中,炉子被放置在真空室中,炉衬和炉子部分接触以在炉子和炉衬之间保持较低的热传导性。炉衬中放置有材料。
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公开(公告)号：CN1135061C
公开(公告)日：2004-01-14
申请号：CN94120714.5
申请日：1994-12-21
Applicant: 住友重机械工业株式会社
Inventor： 田中胜
IPC: H05H1/24
CPC classification number: H01J37/32623 , H01J37/32357 , H01J37/3266 , H01J37/32688 , H05H1/54
Abstract: 在等离子体束产生装置中，包括一个等离子体源和一个用于接受等离子体束的阳极部分。一个磁场产生装置沿着等离子体束的轨迹设置在等离子体源和阳极部分之间，用于产生具有磁场梯度的磁场，从而产生空间电荷。磁场产生装置加速等离子体束中的电子流并向阳极部分输送加速的电子流。
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公开(公告)号：CN1232511A
公开(公告)日：1999-10-20
申请号：CN97198505.7
申请日：1997-09-26
Applicant: 住友重机械工业株式会社
IPC: C23C14/32 , H01L21/203
Abstract: 一种离子喷镀装置是在真空容器11内配设的炉床30a、30b的周围各自设有内带环状永久磁铁的辅炉床31a、31b。在相邻的2个等离子体枪1A和1B上所设的环状永久磁铁21a和21b的磁极取向、电磁线圈22a和22b的磁极取向、导向线圈24a和24b的磁极取向以及内藏内2个炉床内的2个环状永久磁铁的磁极取向互为反向。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102339737B
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：CN201110199347.X
申请日：2011-07-15
Applicant: 住友重机械工业株式会社 , 斯伊恩股份有限公司
IPC: H01L21/265 , H01L21/223 , H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32412 , H01J37/3244 , H01L21/2236
Abstract: 本发明提供的等离子体掺杂装置及等离子体掺杂方法，有助于基于等离子体掺杂的杂质注入的实用化。用于向半导体基板(W)添加杂质的等离子体掺杂装置(10)具备：腔室(12)；气体供给部(14)，用于向腔室(12)供给气体；及等离子体源(16)，用于在腔室(12)产生所供给的气体的等离子体。包括含有应添加到基板(W)的杂质元素的原料气体、氢气及用于稀释原料气体的稀释气体的混合气体供给至腔室(12)。
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公开(公告)号：CN1149303C
公开(公告)日：2004-05-12
申请号：CN97198505.7
申请日：1997-09-26
Applicant: 住友重机械工业株式会社
IPC: C23C14/32 , H01L21/203
Abstract: 一种离子喷镀装置是在真空容器11内配设的炉床30a、30b的周围各自设有内带环状永久磁铁的辅炉床31a、31b。在相邻的2个等离子体枪1A和1B上所设的环状永久磁铁21a和21b的磁极取向、电磁线圈22a和22b的磁极取向、导向线圈24a和24b的磁极取向以及内藏在2个炉床内的2个环状永久磁铁的磁极取向互为反向。
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公开(公告)号：CN1180122C
公开(公告)日：2004-12-15
申请号：CN98100026.6
申请日：1998-01-14
Applicant: 住友重机械工业株式会社
CPC classification number: H01J37/32422 , C23C14/081 , C23C14/325 , H01J37/3266
Abstract: 将具有环形永磁铁31的辅助阳极30放置在真空室11中，使辅助阳极和炉20的中心轴同轴且使其围绕着炉的上面的区域放置。将由使用弧光放电的等离子束发生器13产生的等离子束引入炉中。在炉中将镁用作汽化材料。向真空室中提供和氧混合的气体，因此，由炉中升华的氧化镁粒子和由等离子体产生的氧等离子体起反应以在基片40上形成氧化镁(MgO)膜。
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公开(公告)号：CN1135538A
公开(公告)日：1996-11-13
申请号：CN95121151.X
申请日：1995-12-28
Applicant: 住友重机械工业株式会社
IPC: C23C14/24
CPC classification number: H01J37/32422 , H01J37/32623 , H01J37/3266
Abstract: 在包括真空容器和设置在该真空容器内的等离子束发生器以及配置在真空容器内的主蒸发台，并使从等离子发生器发生的等离子束入射至主蒸发台上的等离子处理装置中，在主蒸发台附近相对主蒸发台的中心轴线同轴地配置永久磁铁和蒸发台线圈。通过使供给该蒸发台线圈的电流变化调整物质熔化的能力并且调整蒸镀物质蒸发粒子的飞行分布。
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