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公开(公告)号：CN113718204B
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202111011382.4
申请日：2021-08-31
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
发明人： 李端瑞 , 何然干 , 李元星 , 李远恒 , 周杰 , 党博谭 , 刘飞 , 王天昊 , 祁泽宙 , 刘文豪 , 姬磊 , 尹茂吉 , 兰代江 , 刘金彪 , 晋亚杰 , 罗楠 , 胡斌 , 刘雅楼 , 肖昂
摘要： 本公开实施例提供了一种金属蒸发源设备，包括：外壳、第一内胆层、第二内胆层、加热丝；其中，第一内胆层，贴附在外壳的内壁；第二内胆层，与第一内胆层连接或与第一内胆层共同作用，用于固定加热丝；第一内胆层与第二内胆层均采用绝缘材料，且绝缘材料的热稳定性在加热丝处于预定工作温度时为稳定状态。本公开实施例增加了由绝缘材料制作的第一内胆层，通过第一内胆层作为中间介质，进而阻隔钽挥发后附着钽的PBN环直接与外壳连接，进而避免了短路情况的发生，减少加热源短路的情况，降低了宕机成本与维修成本。
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公开(公告)号：CN112259594B
公开(公告)日：2024-05-07
申请号：CN202011147211.X
申请日：2020-10-23
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本申请提供一种色阻结构、显示面板及显示装置，以在显示面板处于显示状态时，实现降低反射的作用；在显示面板处于非显示状态时，有效增大屏幕的透光率。该色阻结构包括：遮光膜层、多个彩色滤光膜层、第一电极层和第二电极层；多个彩色滤光膜层和遮光膜层同层设置，且遮光膜层将相邻的彩色滤光膜层相互隔开；第一电极层和第二电极层沿厚度方向分别设置于遮光膜层的两侧，且均与遮光膜层连接；遮光膜层被配置为在对遮光膜层施加正向电压时，遮光膜层为不透明状态；在对遮光膜层施加反向电压时，遮光膜层为透明状态。该显示面板在显示区域沿出光方向包括依次叠设阵列基板、像素发光层、封装层和该色阻结构。该显示装置包括该显示面板。
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公开(公告)号：CN113981379A
公开(公告)日：2022-01-28
申请号：CN202111299900.7
申请日：2021-11-04
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
发明人： 刘文豪 , 加新星 , 刘金彪 , 罗楠 , 肖昂 , 姬磊 , 李靖 , 晋亚杰 , 李元星 , 胡斌 , 周杰 , 蒲红均 , 兰代江 , 李端瑞 , 王天昊 , 黄瑮 , 党博谭 , 尹茂吉 , 刘飞 , 熊呈祥 , 祁泽宙 , 汪泽峰 , 刘雅楼
摘要： 本公开实施例提供了一种蒸镀速率检测设备、蒸镀设备及蒸镀速率检测方法，至少包括：旋转挡板、带孔盖和晶振盘；其中，晶振盘上设置有多个晶振片；带孔盖设置在晶振盘外侧，带孔盖的投影面积覆盖晶振盘，带孔盖上设置有两个第一通孔，第一通孔用于完全露出晶振盘上的整个晶振片；旋转挡板设置在带孔盖外侧，旋转挡板上设置有预定形状的第二通孔，第二通孔用于在旋转挡板按照预定速度旋转至第一通孔所在位置时完全露出第一通孔内的全部第一晶振片和部分第二晶振片，以通过露出的部分第二晶振片在第二晶振片整体上蒸镀第一预定厚度的蒸镀材料。通过运用本公开实施例，在切换晶振片时蒸镀速率不会波动，提升了产品质量。
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公开(公告)号：CN113503860A
公开(公告)日：2021-10-15
申请号：CN202111007067.4
申请日：2021-08-30
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
发明人： 李元星 , 刘金彪 , 罗楠 , 晋亚杰 , 刘文豪 , 李靖 , 姬磊 , 加新星 , 肖昂 , 胡斌 , 周杰 , 兰代江 , 李端瑞 , 党博谭 , 刘飞 , 祁泽宙 , 黄瑮 , 汪泽峰
IPC分类号： G01C9/00
摘要： 一种水平度检测治具及检测方法，所述水平度检测治具用于对待检测件上的多个检测位的水平度进行检测，包括治具本体，以及设于所述治具本体上的控制面板和多个测距传感器；所述治具本体设置为定位在所述待检测件上；所述多个测距传感器位于同一水平面上，并设置为测量与对应的所述多个检测位之间的距离；所述控制面板包括控制器并设有多个指示灯，所述控制器设置为判断所述多个测距传感器的测量数据是否在预设范围，并设置为根据所述判断结果控制所述多个指示灯的指示状态。本公开实施例的水平度检测治具及检测方法，可以快速地对待检测件上的多个检测位的水平度进行检测，测量结果准确，不易出现漏测。
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公开(公告)号：CN110144550B
公开(公告)日：2021-09-21
申请号：CN201910528411.0
申请日：2019-06-18
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种蒸发源及蒸镀设备，该蒸发源包括：支撑体，设置有第一容置腔；坩埚，包括用于容置蒸镀材料的第二容置腔；所述坩埚设置于所述第一容置腔内，且位于所述支撑体的支撑面上，通过所述支撑面，所述支撑体能够支撑所述坩埚；压力传感器，设置于所述支撑面上，且所述坩埚抵压在所述压力传感器上。采用该蒸发源，通过在用于支撑坩埚的支撑体上设置压力传感器，以能够通过压力传感器实时监测坩埚内剩余的蒸镀材料，获得剩余蒸镀材料的精确重量值，根据所获得的剩余蒸镀材料的精确重量值，能够确定需要切换蒸发源的预加热时间点和蒸发源切换时间点，以避免造成材料浪费和对蒸镀速率造成影响。
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公开(公告)号：CN106847872B
公开(公告)日：2020-03-20
申请号：CN201710182796.0
申请日：2017-03-24
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种显示装置，包括显示面板和指纹识别模块，所述显示面板包括显示基板，所述显示基板被划分为多个像素区和位于每相邻两个像素区之间的间隔区，每个所述像素区内均设置有发光单元，所述显示基板还包括设置在多个所述发光单元背光侧的遮光层，所述遮光层上形成有多个位于所述间隔区的通光孔，所述遮光层朝向所述发光单元出光的一侧还设置有与所述通光孔一一对应的聚光透镜；所述指纹识别模块设置在所述遮光层背离所述发光单元的一侧，用于在所述显示面板发光时透过所述通光孔采集并识别位于所述显示面板出光侧的指纹图像。本发明能够在显示区实现指纹识别并达到良好的识别效果。
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公开(公告)号：CN113503860B
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202111007067.4
申请日：2021-08-30
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
发明人： 李元星 , 刘金彪 , 罗楠 , 晋亚杰 , 刘文豪 , 李靖 , 姬磊 , 加新星 , 肖昂 , 胡斌 , 周杰 , 兰代江 , 李端瑞 , 党博谭 , 刘飞 , 祁泽宙 , 黄瑮 , 汪泽峰
IPC分类号： G01C9/00
摘要： 一种水平度检测治具及检测方法，所述水平度检测治具用于对待检测件上的多个检测位的水平度进行检测，包括治具本体，以及设于所述治具本体上的控制面板和多个测距传感器；所述治具本体设置为定位在所述待检测件上；所述多个测距传感器位于同一水平面上，并设置为测量与对应的所述多个检测位之间的距离；所述控制面板包括控制器并设有多个指示灯，所述控制器设置为判断所述多个测距传感器的测量数据是否在预设范围，并设置为根据所述判断结果控制所述多个指示灯的指示状态。本公开实施例的水平度检测治具及检测方法，可以快速地对待检测件上的多个检测位的水平度进行检测，测量结果准确，不易出现漏测。
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公开(公告)号：CN107277316A
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201710438562.8
申请日：2017-06-12
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种显示装置及其制造方法，属于显示技术领域。所述显示装置包括：显示基板，封装在所述显示基板上的玻璃盖板，以及至少一个摄像头模组，所述玻璃盖板对应每个摄像头模组的玻璃盖板区域构成所述每个摄像头模组的光学镜片组中的至少一层光学镜片。本发明减小了显示装置的厚度。本发明用于显示图像。
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公开(公告)号：CN114277339A
公开(公告)日：2022-04-05
申请号：CN202111659856.6
申请日：2021-12-30
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
发明人： 刘金彪 , 李元星 , 刘文豪 , 肖昂 , 罗楠 , 晋亚杰 , 胡斌 , 李靖 , 加新星 , 姬磊 , 沈萌 , 孙尚书 , 高俊 , 周杰 , 刘飞 , 李端瑞 , 兰代江 , 党博谭 , 王天昊 , 祁泽宙 , 尹茂吉
摘要： 本公开一些实施例公开了蒸镀源及蒸镀方法，涉及显示装置制备技术领域，用于提高速率调控响应速度，从而提蒸镀高速率稳定性。所述蒸镀源包括：坩埚本体、喷嘴、坩埚载体和坩埚本体加热器，所述坩埚本体具有开口端、封闭端以及被配置为容纳蒸镀材料的腔室；所述喷嘴设置于所述坩埚本体的开口端，并通过所述开口端与所述腔室连通；所述坩埚本体设置于所述坩埚载体内部；所述坩埚本体加热器设置于所述坩埚本体的外表面上，所述坩埚本体加热器包括加热环。所述蒸镀源用于制造显示面板。
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公开(公告)号：CN113957407A
公开(公告)日：2022-01-21
申请号：CN202111249713.8
申请日：2021-10-26
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开一种真空监控器及蒸镀设备，涉及蒸镀技术领域，以减小更换真空监控器所造成的蒸镀空间内的真空度波动，减少不良品产出，提高良品率。该真空监控器包括真空监控组件和抽真空组件。其中，真空监控组件内设有真空腔，且真空监控组件上设有连通真空腔的进样口和出气口。进样口用于连接蒸镀设备的蒸镀机；抽真空组件与出气口连接，用于对真空腔进行抽真空。本发明用于监控蒸镀机的蒸镀空间内的真空度。
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