发明公开
- 专利标题: 蒸镀源及蒸镀方法
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申请号: CN202111659856.6申请日: 2021-12-30
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公开(公告)号: CN114277339A公开(公告)日: 2022-04-05
- 发明人: 刘金彪 , 李元星 , 刘文豪 , 肖昂 , 罗楠 , 晋亚杰 , 胡斌 , 李靖 , 加新星 , 姬磊 , 沈萌 , 孙尚书 , 高俊 , 周杰 , 刘飞 , 李端瑞 , 兰代江 , 党博谭 , 王天昊 , 祁泽宙 , 尹茂吉
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- 代理商 申健
- 主分类号: C23C14/24
- IPC分类号: C23C14/24 ; C23C14/26 ; C23C14/54
摘要:
本公开一些实施例公开了蒸镀源及蒸镀方法,涉及显示装置制备技术领域,用于提高速率调控响应速度,从而提蒸镀高速率稳定性。所述蒸镀源包括:坩埚本体、喷嘴、坩埚载体和坩埚本体加热器,所述坩埚本体具有开口端、封闭端以及被配置为容纳蒸镀材料的腔室;所述喷嘴设置于所述坩埚本体的开口端,并通过所述开口端与所述腔室连通;所述坩埚本体设置于所述坩埚载体内部;所述坩埚本体加热器设置于所述坩埚本体的外表面上,所述坩埚本体加热器包括加热环。所述蒸镀源用于制造显示面板。
公开/授权文献
- CN114277339B 蒸镀源及蒸镀方法 公开/授权日:2024-07-16
IPC分类: