公开(公告)号：CN1061592A

公开(公告)日：1992-06-03

申请号：CN91108088.0

申请日：1991-10-23

Applicant: 久光制药株式会社

Inventor： 齐田胜 ,  井上寿孝 ,  八谷照美 ,  八寻重德 ,  野田宽治

IPC: C07D207/20

CPC classification number: C07D207/27 ,  C07D211/76 ,  C07D223/10

Abstract: 本发明涉及以通式(I)表示，在医药、农药品领域内具有促进吸收作用的高纯度氮杂环烷衍生物的制备方法。

公开(公告)号：CN1020605C

公开(公告)日：1993-05-12

申请号：CN91109720.1

申请日：1987-02-12

Applicant: 久光制药株式会社

Inventor： 迁正义 ,  井上寿孝 ,  八谷照美 ,  中岛干夫 ,  齐田胜 ,  下园雄治 ,  境美智顺 ,  中川晃

IPC: C07D227/087 ,  A61K31/395

CPC classification number: C07D207/267 ,  C07D207/27 ,  C07D211/76 ,  C07D223/10 ,  C07D263/18 ,  C07D265/32 ,  C07D277/14 ,  C07D279/12 ,  C07D281/06 ,  Y10S514/946

Abstract: 本发明公开了一种制备式(Ⅰ)所示衍生物的方法，其特征在于在0-300℃下，在溶剂中和在碱催化剂或间界层转移催化剂存在下处理环状化合物(Ⅱ)，生成化合物(Ⅲ)，然后用式R(CH2)nX的烷基卤处理化合物(Ⅲ)，生成氮杂环烷烃衍生物(Ⅰ)，式中各取代基定义见说明书。

公开(公告)号：CN87100171A

公开(公告)日：1988-01-20

申请号：CN87100171

申请日：1987-01-15

Applicant: 久光制药株式会社

Inventor： 辻正义 ,  中川晃 ,  井上寿孝 ,  八谷照美 ,  田上义洋 ,  池末公一 ,  齐田胜 ,  口威伸 ,  青木哲雄 ,  佐藤宽伸 ,  野田宽治

IPC: C07D277/60 ,  A61K31/41

CPC classification number: C07D277/60 ,  C07D417/12

Abstract: 本发明提供了茚并噻唑衍生物及其制备方法。此茚并噻唑衍生物由下式代表：式中各取代基见说明书。另外，本发明还提供了由上面式(Ia)代表的化合物的互变异构体，其中除R3限定为氢原子外，所有符号如上定义。

公开(公告)号：CN1026320C

公开(公告)日：1994-10-26

申请号：CN91108088.0

申请日：1991-10-23

Applicant: 久光制药株式会社

Inventor： 齐田胜 ,  井上寿孝 ,  八谷照美 ,  八寻重德 ,  野田宽治

IPC: C07D207/27

CPC classification number: C07D207/27 ,  C07D211/76 ,  C07D223/10

Abstract: 本发明涉及以通式表示，在医药、农药晶领域内具有促进吸收作用的高纯度氮杂环烷衍生物的制备方法。

公开(公告)号：CN1060465A

公开(公告)日：1992-04-22

申请号：CN91109721.X

申请日：1991-10-16

Applicant: 久光制药株式会社

Inventor： 辻正义 ,  井上寿孝 ,  八谷照美 ,  中岛幹夫 ,  齐田胜 ,  下园雄治 ,  境美智顺 ,  中川晃

IPC: C07D227/087 ,  A61K31/395

Abstract: 本发明公开了一种制备式(I)所示衍生物的方法，其特征在于在0-150℃下，在溶剂中和在自由基聚合引发剂存在下，化合物(V)与式RH化合物反应，生成氮杂环烷烃衍生物(I)，式中各取代基定义见说明书。

公开(公告)号：CN1060287A

公开(公告)日：1992-04-15

申请号：CN91109720.1

申请日：1987-02-12

Applicant: 久光制药株式会社

Inventor： 辻正义 ,  井上寿孝 ,  八谷照美 ,  中岛幹夫 ,  齐田胜 ,  下园雄治 ,  境美智顺 ,  中川晃

IPC: C07D227/087 ,  A61K31/395

CPC classification number: C07D207/267 ,  C07D207/27 ,  C07D211/76 ,  C07D223/10 ,  C07D263/18 ,  C07D265/32 ,  C07D277/14 ,  C07D279/12 ,  C07D281/06 ,  Y10S514/946

Abstract: 本发明公开了一种制备式(I)所示衍生物的方法，其特征在于在0-300℃下，在溶剂中和在碱催化剂或间界层转移催化剂存在下处理环状化合物(II)，生成化合物(III)，然后用式R(CH2)nX的烷基卤处理化合物(III)，生成氮杂环烷烃衍生物(I)，式中各取代基定义见说明书。

公开(公告)号：CN1046935C

公开(公告)日：1999-12-01

申请号：CN93100167.6

申请日：1993-01-06

Applicant: 久光制药株式会社

Inventor： 齐田胜 ,  井上寿孝 ,  别府孝一 ,  八谷照美 ,  篠原郁夫 ,  谷口恭章 ,  出口芳树 ,  滨口芳浩

IPC: C07C59/88 ,  A61K31/19 ,  C07C59/90 ,  C07C69/73 ,  C07C69/738 ,  C07C205/56 ,  C07C59/56

Abstract: 下式及下式[在上述二式中，n表示1或2的整数，X表示卤原子、烷基或硝基，R表示氢原子或烷基，Z表示氢原子或乙酰基]所表示的新苯基烷酸衍生物、该衍生物的制造方法、衍生物光学异构体的分离方法、以及含有该衍生物的抗炎症剂、镇痛剂及外用制剂。

公开(公告)号：CN1019573B

公开(公告)日：1992-12-23

申请号：CN91109721.X

申请日：1987-02-12

Applicant: 久光制药株式会社

Inventor： 辻正义 ,  井上寿孝 ,  八谷照美 ,  中岛幹夫 ,  齐田胜 ,  下园雄治 ,  境美智顺 ,  中川晃

IPC: C07D227/087 ,  A61K31/395

Abstract: 本发明公开了一种制备式(I)所示衍生物的方法，其特征在于在0-150℃下，在溶剂中和在自由基聚合引发剂存在下，化合物(V)与式RH化合物反应，生成氮杂环烷烃衍生物(I)，式中各取代基定义见说明书。

公开(公告)号：CN1018452B

公开(公告)日：1992-09-30

申请号：CN87100666

申请日：1987-02-12

Applicant: 久光制药株式会社

Inventor： 辻正义 ,  井上寿孝 ,  八谷照美 ,  中岛幹夫 ,  下园雄治 ,  境美智顺 ,  中川晃

IPC: C07D207/27 ,  C07D227/087 ,  A61K31/40

CPC classification number: C07D207/267 ,  C07D207/27 ,  C07D211/76 ,  C07D223/10 ,  C07D263/18 ,  C07D265/32 ,  C07D277/14 ,  C07D279/12 ,  C07D281/06 ,  Y10S514/946

Abstract: 制备式(I)所示衍生物的方法，其特征在于在0-300℃下，在溶剂中和在碱催化剂或间界层转换催化剂存在下处理环状化合物(II)，生成化合物(III)，用式X(CH2)nX的烷基卤处理化合物(III)，生成化含物(IV)，然后在0-300℃下，在溶剂中和在脱卤剂或碱催化剂存在下，用硫醇或醇处理化合物(IV)，从而制得氟杂环烷烃衍生物(I)。式中各取代基定义见说明书。

公开(公告)号：CN87100666A

公开(公告)日：1987-10-21

申请号：CN87100666

申请日：1987-02-12

Applicant: 久光制药株式会社

Inventor： 辻正义 ,  井上寿孝 ,  八谷照美 ,  中岛幹夫 ,  下园雄治 ,  境美智顺

IPC: C07D227/06 ,  C07D269/00 ,  C07D283/00 ,  C07D207/12 ,  A61K31/395 ,  A61K31/40 ,  A01N43/34 ,  A01N43/72

CPC classification number: C07D207/267 ,  C07D207/27 ,  C07D211/76 ,  C07D223/10 ,  C07D263/18 ,  C07D265/32 ,  C07D277/14 ,  C07D279/12 ,  C07D281/06 ,  Y10S514/946

Abstract: 本发明涉及用于促进药物吸收的氮杂环烷烃衍生物，下述通式(I)代表该衍生物，式中各项定义详见说明书。