公开(公告)号：CN1020605C

公开(公告)日：1993-05-12

申请号：CN91109720.1

申请日：1987-02-12

Applicant: 久光制药株式会社

Inventor： 迁正义 ,  井上寿孝 ,  八谷照美 ,  中岛干夫 ,  齐田胜 ,  下园雄治 ,  境美智顺 ,  中川晃

IPC: C07D227/087 ,  A61K31/395

CPC classification number: C07D207/267 ,  C07D207/27 ,  C07D211/76 ,  C07D223/10 ,  C07D263/18 ,  C07D265/32 ,  C07D277/14 ,  C07D279/12 ,  C07D281/06 ,  Y10S514/946

Abstract: 本发明公开了一种制备式(Ⅰ)所示衍生物的方法，其特征在于在0-300℃下，在溶剂中和在碱催化剂或间界层转移催化剂存在下处理环状化合物(Ⅱ)，生成化合物(Ⅲ)，然后用式R(CH2)nX的烷基卤处理化合物(Ⅲ)，生成氮杂环烷烃衍生物(Ⅰ)，式中各取代基定义见说明书。