芯片制造工艺和芯片
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105097492A

    公开(公告)日:2015-11-25

    申请号:CN201410209548.7

    申请日:2014-05-16

    发明人: 俞颖 江博渊

    IPC分类号: H01L21/3105

    摘要: 本申请提供了一种芯片制造工艺和芯片。芯片制造工艺包括对晶圆钝化层进行平坦化处理。由于对晶圆钝化层进行平坦化处理后,晶圆钝化层的表面更为平坦、凹凸感降低、细小凹槽得以消除,因而使得沉积在晶圆钝化层上的金属层与晶圆钝化层连接更加稳固、均匀,从而避免金属层松动,并解决了金属层沿着晶圆钝化层的凹槽向外延伸与周围金属层导通而导致芯片短路的问题,进而保证了芯片的成品质量和使用可靠性。同时,本申请中的芯片制造工艺具有工艺简单、制造可靠性高的特点。

    一种晶圆的切割方法
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105328804B

    公开(公告)日:2017-04-05

    申请号:CN201410279926.9

    申请日:2014-06-20

    IPC分类号: H01L21/50 B28D5/00 B81C1/00

    摘要: 本发明提供一种晶圆的切割方法,包括:提供晶圆,所述晶圆包括器件晶圆和位于所述器件晶圆之上的封盖晶圆,所述器件晶圆上形成有对准图形,所述封盖晶圆包括若干工作区和位于所述工作区之间的分别沿第一方向延伸和沿与第一方向垂直的第二方向延伸的若干切割道;将所述晶圆固定于切割承载盘上,使所述封盖晶圆位于上方;分别沿所述第一方向和所述第二方向对所述封盖晶圆的每个切割道两侧进行非穿透切割,以在所述切割道的两个边缘各形成一道半切割槽;在所述封盖晶圆表面上形成贴膜;去除贴膜,以移除封盖晶圆上的切割道内的材料。根据本发明的方法,有效避免封盖晶圆切割过程中产生的碎屑对器件晶圆造成的影响,提高了器件的性能和良率。

    一种晶圆的切割方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105328804A

    公开(公告)日:2016-02-17

    申请号:CN201410279926.9

    申请日:2014-06-20

    IPC分类号: B28D5/00 B81C1/00

    摘要: 本发明提供一种晶圆的切割方法,包括:提供晶圆,所述晶圆包括器件晶圆和位于所述器件晶圆之上的封盖晶圆,所述器件晶圆上形成有对准图形,所述封盖晶圆包括若干工作区和位于所述工作区之间的分别沿第一方向延伸和沿与第一方向垂直的第二方向延伸的若干切割道;将所述晶圆固定于切割承载盘上,使所述封盖晶圆位于上方;分别沿所述第一方向和所述第二方向对所述封盖晶圆的每个切割道两侧进行非穿透切割,以在所述切割道的两个边缘各形成一道半切割槽;在所述封盖晶圆表面上形成贴膜;去除贴膜,以移除封盖晶圆上的切割道内的材料。根据本发明的方法,有效避免封盖晶圆切割过程中产生的碎屑对器件晶圆造成的影响,提高了器件的性能和良率。

    晶圆的清洗方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105206505A

    公开(公告)日:2015-12-30

    申请号:CN201410307467.0

    申请日:2014-06-30

    发明人: 肖启明 江博渊

    IPC分类号: H01L21/02

    摘要: 一种晶圆的清洗方法,包括:提供器件晶圆,所述器件晶圆具有第一表面,所述第一表面具有多个芯片;提供覆盖晶圆,所述覆盖晶圆具有第二表面,所述第二表面具有与所述器件晶圆中的芯片一一对应的多个凹槽;将所述覆盖晶圆与所述器件晶圆键合,使所述覆盖晶圆的凹槽与所述器件晶圆的芯片对应键合,且形成多个空腔结构;对键合后的所述覆盖晶圆进行切割,使各空腔结构分立;在进行所述切割工艺之后,将所述第一表面朝下设置;对所述空腔结构外表面和朝下设置的所述第一表面进行清洗。所述晶圆的清洗方法能够使得清洗后的晶圆更加干净,提高晶圆上芯片的良率。