成形模及透镜
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112638612A

    公开(公告)日:2021-04-09

    申请号:CN201980055209.9

    申请日:2019-08-30

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种无需在成形模的表面设置脱模材料层的成形模。此外,本发明的目的还在于提供一种耐久性优异并且表面具有拒水性的透镜。本发明涉及一种成形模,具备基底部与具有设置在基底部的表面的凹凸的图案部,图案部的凸部与凸部的中心间的距离为15~50nm,图案部的凹凸部比率(凸/凸部与凸部的中心间的距离)为0.5以下,图案部的凸部的高度为2nm以上,图案部的缺陷密度为10×1010cm2以下。此外,本发明还涉及一种透镜,具备基底部与具有设置在基底部的表面的凹凸的图案部,图案部的凸部与凸部的中心间的距离为15~50nm。

    晶片上监测系统
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100375245C

    公开(公告)日:2008-03-12

    申请号:CN03804732.2

    申请日:2003-02-03

    CPC classification number: H01L22/34 H01L2924/0002 H01L2924/00

    Abstract: 一种晶片上监测系统(200),设置在等离子体处理装置(100)中的要处理的基板位置。该晶片上监测系统(200)包括:各种检测器;数据I/O单元(210),用于光学地向外部输出信号和从外部输入信号,以及一内部电源单元(250),用于对上述各部分提供电力。该晶片上数据I/O单元(210)与一激光二极管(LD)(320)和一光电二极管(PD)(330)连接,该光电二极管是安装在外部的光学I/O单元。该数据I/O单元(210)从外部接收指令并且将所监测的数据传送到外部。设置在基板上的检测器为一离子能量分析器(400),VUV光子探测器(500),以及自由基离子种类发射分光光度计(600)。

    晶片上监测系统
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1639850A

    公开(公告)日:2005-07-13

    申请号:CN03804732.2

    申请日:2003-02-03

    CPC classification number: H01L22/34 H01L2924/0002 H01L2924/00

    Abstract: 一种晶片上监测系统(200),设置在等离子体处理装置(100)中的要处理的基板位置。该晶片上监测系统(200)包括:各种检测器;数据I/O单元(210),用于光学地向外部输出信号和从外部输入信号,以及一内部电源单元(250),用于对上述各部分提供电力。该晶片上数据I/O单元(210)与一激光二极管(LD)(320)和一光电二极管(PD)(330)连接,该光电二极管是安装在外部的光学I/O单元。该数据I/O单元(210)从外部接收指令并且将所监测的数据传送到外部。设置在基板上的检测器为一离子能量分析器(400),VUV光子探测器(500),以及自由基离子种类发射分光光度计(600)。

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