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公开(公告)号：CN108998794B
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN201810953644.0
申请日：2018-08-21
申请人： 中国科学院金属研究所
摘要： 本发明公开了一种Re‑Si共改性铝化物涂层及其制备方法，属于高温防护涂层技术领域。采用复合电镀加电弧离子镀的工艺，在Ni基高温合金上沉积Re‑Si共改性铝化物涂层。具体包括以下步骤：表面处理；采用复合电镀技术在基体上沉积Ni‑Re层；在电镀后得到的Ni‑Re层上使用电弧离子镀沉积AlSiY获得沉积态涂层；对获得的沉积态涂层在真空退火炉中退火获得Re‑Si共改性高温防护铝化物涂层。本发明的优点：制备工艺简单；成分可控性高；涂层中分布有带状的γ’‑Ni3Al相，有利于提高涂层的韧性；可获得CrReW均匀分布于β‑NiAl外层的涂层结构。
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公开(公告)号：CN109136849A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201810955190.0
申请日：2018-08-21
申请人： 中国科学院金属研究所
摘要： 本发明公开了一种Pt改性的梯度Al涂层及其制备方法，属于高温防护涂层技术领域。首先采用电弧离子镀，在高温合金基体上镀一层MCrAlY底层；然后采用电镀的方法在MCrAlY底层上镀一层纯Pt层，并且在真空条件下进行退火；最后采用电弧离子镀在表面镀一层纯Al顶层并进行相应的退火处理，获得Pt改性梯度Al涂层。该涂层外层富Al内层富Cr，外层为β‑(Ni,Pt)Al和PtAl2相。本发明的优点：可以显著增加MCrAlY底层中的Al含量，提高其抗高温氧化性能；涂层的中Pt元素含量和涂层厚度可控。
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公开(公告)号：CN104513954A
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201310445407.0
申请日：2013-09-26
申请人： 中国科学院金属研究所
CPC分类号： C23C14/35 , C23C14/067
摘要： 本发明公开了一种AlB2型WB2硬质涂层及其制备工艺，属于金属材料表面沉积硬质耐磨涂层技术领域。通过调控涂层组成成分、沉积温度和衬底偏压，采用直流磁控溅射的方法，在高速钢或硬质合金基体上成功制备了WB2（AlB2型）硬质耐磨涂层。该结构涂层呈现较高的显微硬度、较低的平均摩擦系数及磨损率。本发明所涉及的这种WB2（AlB2型）硬质涂层被成功合成，可显著改善刀具或工件表面的硬度及耐磨性，对于超硬硼化物涂层的理论研究和实际应用具有重要意义。
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公开(公告)号：CN101310972B
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN200710011432.2
申请日：2007-05-25
申请人： 中国科学院金属研究所
摘要： 本发明主要涉及涂层技术，具体地说是一种用于高温合金防护的梯度MCrAlY涂层及制备方法；本发明通过电弧离子镀(AIP，即Arc Ion Plating)共沉积加真空扩散退火的方法，制备Al元素浓度沿深度方向呈梯度分布的MCrAlY涂层。与现有的常规MCrAlY高温防护涂层相比，本发明所涉及的这种梯度MCrAlY涂层有效地提高了涂层中Al存储相含量，从而可以提高涂层抗高温氧化、抗热腐蚀性能，并能有效地延长涂层使用寿命。该梯度涂层及其制备方法可应用于Ni基、Co基高温合金的防护。
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公开(公告)号：CN101310972A
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200710011432.2
申请日：2007-05-25
申请人： 中国科学院金属研究所
摘要： 本发明主要涉及涂层技术，具体地说是一种用于高温合金防护的梯度MCrAlY涂层及制备方法；本发明通过电弧离子镀(AIP，即Arc Ion Plating)共沉积加真空扩散退火的方法，制备Al元素浓度沿深度方向呈梯度分布的MCrAlY涂层。与现有的常规MCrAlY高温防护涂层相比，本发明所涉及的这种梯度MCrAlY涂层有效地提高了涂层中Al存储相含量，从而可以提高涂层抗高温氧化、抗热腐蚀性能，并能有效地延长涂层使用寿命。该梯度涂层及其制备方法可应用于Ni基、Co基高温合金的防护。
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公开(公告)号：CN108998794A
公开(公告)日：2018-12-14
申请号：CN201810953644.0
申请日：2018-08-21
申请人： 中国科学院金属研究所
摘要： 本发明公开了一种Re-Si共改性铝化物涂层及其制备方法，属于高温防护涂层技术领域。采用复合电镀加电弧离子镀的工艺，在Ni基高温合金上沉积Re-Si共改性铝化物涂层。具体包括以下步骤：表面处理；采用复合电镀技术在基体上沉积Ni-Re层；在电镀后得到的Ni-Re层上使用电弧离子镀沉积AlSiY获得沉积态涂层；对获得的沉积态涂层在真空退火炉中退火获得Re-Si共改性高温防护铝化物涂层。本发明的优点：制备工艺简单；成分可控性高；涂层中分布有带状的γ’-Ni3Al相，有利于提高涂层的韧性；可获得CrReW均匀分布于β-NiAl外层的涂层结构。
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公开(公告)号：CN101314853A
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN200710011525.5
申请日：2007-06-01
申请人： 中国科学院金属研究所
摘要： 本发明涉及涂层技术，具体地说是一种Al－O－N扩散阻挡层及制备方法，与MCrAlY(M＝Ni，Co或Ni+Co)防护涂层结合应用；采用电弧离子镀技术，以纯铝为靶材，控制反应过程中O2和N2的流量，在高温合金基体上沉积Al－O－N扩散阻挡层，然后采用电弧离子镀技术沉积MCrAlY涂层。本发明所涉及的这种Al－O－N扩散阻挡层，组织致密，与基体结合良好，在高温氧化条件下能有效降低MCrAlY涂层与高温合金基体间金属元素互扩散，改善MCrAlY涂层的高温性能；而且工艺简单，容易实现工业化生产，是一种性能优异、有应用前景的扩散阻挡层，适用于镍基高温合金。
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公开(公告)号：CN101307424A
公开(公告)日：2008-11-19
申请号：CN200710011312.2
申请日：2007-05-16
申请人： 中国科学院金属研究所
摘要： 本发明涉及涂层制备技术，具体地说是一种氧化锆涂层的制备工艺，采用电弧离子镀技术在合金基体或电弧离子镀MCrAlY涂层上利用纯Zr或ZrY合金靶材在O2气氛内反应沉积ZrO2或Zr(Y)O2涂层。本发明所涉及的这种氧化锆涂层制备工艺具有好的工艺重复性和容易实现工业化生产等优点，制得的ZrO2和Zr(Y)O2涂层组织均匀致密，为柱状晶结构，具有良好的结合强度，Zr(Y)O2涂层抗热冲击性能优良。
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公开(公告)号：CN1781875A
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：CN200410087691.X
申请日：2004-11-29
申请人： 中国科学院金属研究所
IPC分类号： C04B35/56 , C04B35/626
摘要： 一种碳化钨－钴/二硫化钼复合粉末，其特征在于：粉末成分为WC－Co 94～99％重量，MoS21～6％重量。本发明碳化钨－钴/二硫化钼复合粉末可以在保证涂层的硬度、致密度和结合强度的前提下，降低涂层的摩擦系数末，从而使涂层的磨损率大幅下降，得到一种优良的复合自润滑硬质耐磨涂层。
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公开(公告)号：CN1621559A
公开(公告)日：2005-06-01
申请号：CN200310105218.5
申请日：2003-11-28
申请人： 中国科学院金属研究所
IPC分类号： C23C14/35
摘要： 本发明涉及一种可提高靶材利用率的磁控溅射靶。由水冷靶材和可移动的磁体组成平面靶或圆柱靶结构；平面靶结构中磁体通过滚动轴承与水冷背板安装在一起，电机通过传动盘驱动金属板和固定其上的磁体一起运动；圆柱靶结构中磁体套在不锈钢管上安装在圆柱靶内，置于冷却水中，并通过连接机构与电机相连。本发明采用了移动磁体技术，通过对普通磁控溅射平面靶和圆柱靶磁体的改进，使其磁体在溅射镀膜过程中能够移动，从而使靶材表面的刻蚀区域更宽，刻蚀更均匀，靶材的利用率有明显的提高，同时保留了磁控溅射工艺的优点，而没有影响其工艺性能；本发明还具有结构简单，性能可靠，易操作等特点，可显著提高靶材的利用率，具有广泛的应用领域。
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