光电计算反相器及其制备方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117666698A

    公开(公告)日:2024-03-08

    申请号:CN202311659915.9

    申请日:2023-12-05

    Abstract: 本发明公开了一种光电计算反相器,包括:衬底;第一感光单元和第二感光单元,形成在衬底上;其中,响应于输入的偏振光信号,第一感光单元和第二感光单元择一导通,输出与偏振光信号对应的反相电压信号,反相电压信号被定义成具有与偏振光信号相反的序列。本发明提供的光电计算反相器,实现感算一体,即同时实现对偏振光的探测和探测信息处理,有利于降低功耗、减少延迟时间。

    一种新型IV-VI族半导体晶圆级薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN118087031A

    公开(公告)日:2024-05-28

    申请号:CN202410242108.5

    申请日:2024-03-04

    Abstract: 本申请提供一种新型IV‑VI族半导体晶圆级薄膜及其制备方法,涉及半导体材料领域。制备方法包括:在衬底的表面物理气相沉积前驱体膜层,前驱体膜层包括M膜以及分散于M膜中的X颗粒,M包括Ge或Sn,X包括S或Se。在前驱体膜层的表面利用原子层沉积法形成盖层,获得中间体,其中盖层的生长温度≤200℃,盖层与衬底连接并形成容置前驱体膜层的限域空间;在常压惰性氛围下,使中间体先升温至220‑280℃低温热处理1‑5h,接着升温至IV‑VI族半导体的生长温度并高温热处理至少3h,其能够制得厚度可控且均一的晶圆级IV‑VI族半导体薄膜。

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