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公开(公告)号：CN114662047A
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202210355359.5
申请日：2022-04-06
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明适用于光学加工技术领域，提供了一种去除函数误差修正能力表征方法、系统和介质，去除函数误差修正能力表征方法包括如下步骤：获取面形误差体积变化量和加工时间，所述面形误差体积变化量为预设空间频率下加工前后面形误差的体积差值；通过面形误差体积变化量和加工时间计算所述去除函数的有效去除速率谱。本发明提供的一种用于子口径抛光的去除函数误差修正能力表征方法、系统和介质能够实现去除函数空间频率误差修正能力的定量表征，为后续实现根据误差分布快速自动匹配最优的工艺参数奠定了基础。
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公开(公告)号：CN114425732B
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202210355185.2
申请日：2022-04-06
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 发明适用于光学加工技术领域，提供了一种子口径加工工艺的自动优选方法、系统和介质，子口径加工工艺的自动优选方法包括如下步骤：获取不同去除函数的有效去除速率谱，所述有效去除速率谱为去除函数修正各空间频率误差体积的收敛速率；获取光学元件的体积谱密度函数，所述体积谱密度函数为光学元件的面形误差在各频率下所含残余误差材料体积的密度；通过所述有效去除速率谱和体积谱密度函数得到优选加工工艺。本发明提供的一种子口径加工工艺的自动优选方法、系统和介质具有加工效率高、生产成本低的优势。
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公开(公告)号：CN113076633A
公开(公告)日：2021-07-06
申请号：CN202110311761.9
申请日：2021-03-23
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明适用于光学元件的匀滑技术领域，本发明在常见模型的基础上进行补充和修正，提出了一种适用于大口径光学元件复杂周期波纹误差匀滑的多参数匀滑方法，包括以下步骤：步骤H1：对光学元件进行子区域划分；步骤H2：计算各子区域初始波纹误差值RMS0；步骤H3：对光学元件进行预处理试验；步骤H4：得出ΔRMS与RMS曲线的拟合斜率k'；步骤H5：获得各子区域面形波纹收敛因子矩阵；步骤H6：获得各子区域中频误差预测曲线；步骤H7：获得各子区域的加工次数；其中，RMS表示元件表面波纹误差值，RMS0表示元件表面初始波纹误差值，ΔRMS表示经过单次匀滑加工后元件表面波纹误差的变化量。可以达到较为精确的理论预测效果，为后续工艺指导提供定量化支持。
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公开(公告)号：CN110954016A
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201911099655.8
申请日：2019-11-12
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明涉及一种高精度光学元件干涉检测中的装夹装置，包括底座；底座两侧各设置一组支撑柱；每一组连接推动部一侧均与支撑柱连接；每一组连接推动部另一侧均对应连接一组夹持部，且使两组夹持部沿相对方向做夹紧或放松运动；每一组夹持部上均具有与光学元件侧面抵接的弹性件；力传感器固定于连接推动部上用于测量夹持部对光学元件夹持力的反作用力。光学元件通过底座、两侧的夹持部三点夹持，保证了光学元件装夹的稳定，弹性件有利于改善夹持部对光学元件的夹持力的均匀性，从而减小光学元件变形及其对检测精度的影响；力传感器用于测量夹持部对光学元件夹持力的反作用力，为夹持过程中调节夹持力的大小提供参照。
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公开(公告)号：CN106926134B
公开(公告)日：2019-12-17
申请号：CN201710181800.1
申请日：2017-03-24
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： B24B49/12
摘要： 本发明提供一种非球面磨削圆弧金刚石砂轮三维形状误差的在位精密测量方法，该方法包含：1)螺旋式连续扫描测量砂轮表面各点的高度数据；2)将数据按螺旋轨迹模型进行插值拟合处理，得到砂轮表面三维几何形貌矩阵，并进行最小二乘圆弧拟合，得到砂轮圆弧半径、圆弧中心坐标和圆弧中心偏差；3)建立砂轮表面的平均三维几何形貌矩阵，并与形貌矩阵相减，得到三维误差分布矩阵、圆弧度误差和径向跳动误差；4)测量砂轮外圆周高度数据，通过最小二乘圆弧拟合，得到砂轮基础部分半径。本发明实现对圆弧金刚石砂轮所有重要几何参数的高效精密非接触式测量，测量结果可直接用于非球面光学元件超精密磨削加工砂轮运动控制点坐标的精确插补计算。
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公开(公告)号：CN108381330B
公开(公告)日：2019-09-06
申请号：CN201810222611.9
申请日：2018-03-16
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： B24B13/00 , B24B13/005
摘要： 本发明提供了一种抛光装置及抛光设备，属于抛光设备领域。抛光装置包括机架、抛光盘、第一驱动装置、支撑架、活动架、第二驱动装置和夹具，抛光盘可转动的设置于机架。第一驱动装置用于驱动抛光盘相对机架绕第一竖轴线转动。支撑架设于机架上。活动架与支撑架活动连接。第二驱动装置用于驱动活动架相对支撑架竖向移动。夹具可转动的设置于活动架，夹具能够相对活动架绕第二竖轴线转动，夹具位于抛光盘的上方。在抛光过程中，由于夹具与活动架转动连接，抛光盘在转动的同时将带动整个夹具转动，从而带动晶体转动，进而提高了对晶体的抛光效果。
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公开(公告)号：CN118832490A
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202410997559.X
申请日：2024-07-24
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： B24B13/005
摘要： 本发明涉及一种用于抛光机床的超大尺寸重型高精度气浮转台，包括转台基座，其中部竖直布置有第一安装孔；转台转盘中部竖直布置有第二安装孔，所述转台转盘底部具有凸台；中空式中心轴穿过第一安装孔和第二安装孔；中心供气件为环形，套设于中空式中心轴下部外壁上，位于第一安装孔内，且其顶面与转台基座顶面齐平；中心供气件顶面具有第一气流分配结构，转台基座顶面具有与第一气流分配结构对应的第二气流分配结构；第二安装孔内安装有径向气浮轴承组件，且套设于中空式中心轴上部外壁上。本发明实现了超大尺寸重型气浮转台的支撑和高精度旋转运动。
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公开(公告)号：CN118664440A
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202410854928.X
申请日：2024-06-28
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本申请公开了一种复杂曲面磁流变加工误差收敛评估方法，在量产复杂曲面之前，可以通过不同分层加工策略对复杂曲面进行加工实验，测得加工实验后的第一精度评估参数和加工时长。一般来说第一精度评估参数较高时，其加工时长也较长，本申请通过模糊理论对各个分层加工策略的第一精度评估参数和加工时长进行分析，得出模糊评价值，通过模糊评价值挑选出推荐分层加工策略，以便于后续量产采用该推荐分层加工策略对应的分层方案参数进行生产。
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公开(公告)号：CN110788699B
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN201911270844.7
申请日：2019-12-11
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本申请提供了抛光盘及抛光系统，涉及光学元件精密加工技术领域。一种抛光盘，抛光盘的内部具有用于储存抛光液的储存腔，抛光盘的抛光面开设有出液口，出液口通过设置于抛光盘内部的通道与储存腔连通。该抛光盘的储存腔内储存有抛光液，在抛光时，抛光盘的抛光层与元件紧密接触，同时抛光液通过出液口流出，实现抛光液在抛光时均匀分布在元件表面，避免多次停止抛光再喷洒抛光液，提高抛光效率。由于抛光液由储存腔经由出液口流出，使得不同出液口流出的抛光液量和压力大致相等，有助于元件表面的抛光液分布均匀。
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公开(公告)号：CN113231964B
公开(公告)日：2022-05-20
申请号：CN202110563181.9
申请日：2021-05-21
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明适用于及光学元件加工领域技术领域，提供了一种双真空泵体抛光液回收装置，包括真空腔体、第一真空泵体、第二真空泵体及抛光液存储装置；所述真空腔体包括输入接口、第一真空接口、第二真空接口；抛光液通过所述输入接口进入所述真空腔体，所述第一真空泵体通过所述第一真空接口与所述真空腔体连通，所述第二真空泵体通过所述第二真空接口与所述真空腔体连通，所述抛光液存储装置与所述第一真空泵体相连通。该装置可以实现抛光液无残留的高效回收，提高抛光液的稳定工作状态。
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