公开(公告)号：CN100413024C

公开(公告)日：2008-08-20

申请号：CN200480030636.5

申请日：2004-08-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  住友电气工业株式会社

Inventor： 田中澄 ,  斋藤哲也 ,  夏原益宏 ,  仲田博彦

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/68792 ,  H01L21/67103

Abstract: 本发明的目的在于，在保持被处理基板的基板保持构件中，抑制由基板保持台的热应力所造成的破损。在支柱末端部设有基板保持台的基板保持台构件中，在上述支柱和上述基板保持台的接合部形成有由内周面和外周面区划成的凸缘部，此时由上述凸缘部的内径向着上述基板保持台的下表面连续地增大的倾斜面形成上述内周面，而且在上述凸缘部所结合的上述基板保持台的下表面上，与上述凸缘部的外周面对应地形成U字型槽。

公开(公告)号：CN1868031A

公开(公告)日：2006-11-22

申请号：CN200480030636.5

申请日：2004-08-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  住友电气工业株式会社

Inventor： 田中澄 ,  斋藤哲也 ,  夏原益宏 ,  仲田博彦

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/68792 ,  H01L21/67103

Abstract: 本发明的目的在于，在保持被处理基板的基板保持构件中，抑制由基板保持台的热应力所造成的破损。在支柱末端部设有基板保持台的基板保持台构件中，在上述支柱和上述基板保持台的接合部形成有由内周面和外周面区划成的凸缘部，此时由上述凸缘部的内径向着上述基板保持台的下表面连续地增大的倾斜面形成上述内周面，而且在上述凸缘部所结合的上述基板保持台的下表面上，与上述凸缘部的外周面对应地形成U字型槽。

公开(公告)号：CN101501244B

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN200780029097.7

申请日：2007-07-31

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 成嶋健索 ,  多田国弘 ,  若林哲 ,  斋藤哲也

IPC: C23C16/455 ,  H01L21/31

CPC classification number: C23C16/45565 ,  C23C16/45574

Abstract: 本发明提供一种气体供给装置以及基板处理装置，在称为气体喷淋头等的气体供给装置中，对于从基板的中心部向外周部的气流，通过比现有技术更加均衡地整理圆周方向之间的流速分布，来抑制例如十字状的颗粒密集区域的产生，而且能够提高处理条件的自由度。设置气体供给装置的喷淋板上所穿设的气体供给孔的配置图案，使得这些气体供给孔配置在多个同心圆上，并且使同心圆上的气体供给孔和与内侧邻接的同心圆以及与外侧邻接的同心圆的各自最接近的气体供给孔不在同心圆的半径上排列。

公开(公告)号：CN101501244A

公开(公告)日：2009-08-05

申请号：CN200780029097.7

申请日：2007-07-31

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 成嶋健索 ,  多田国弘 ,  若林哲 ,  斋藤哲也

IPC: C23C16/455 ,  H01L21/31

CPC classification number: C23C16/45565 ,  C23C16/45574

Abstract: 本发明提供一种气体供给装置以及基板处理装置，在称为气体喷淋头等的气体供给装置中，对于从基板的中心部向外周部的气流，通过比现有技术更加均衡地整理圆周方向之间的流速分布，来抑制例如十字状的颗粒密集区域的产生，而且能够提高处理条件的自由度。设置气体供给装置的喷淋板上所穿设的气体供给孔的配置图案，使得这些气体供给孔配置在多个同心圆上，并且使同心圆上的气体供给孔和与内侧邻接的同心圆以及与外侧邻接的同心圆的各自最接近的气体供给孔不在同心圆的半径上排列。