公开(公告)号：CN101859723A

公开(公告)日：2010-10-13

申请号：CN201010151153.8

申请日：2010-04-01

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 石沢繁 ,  小泉浩 ,  大木达也

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67745 ,  H01L21/67748

Abstract: 本发明提供一种基板交换方法以及基板处理装置，通过在进行基板处理室的清洁处理的期间也使运送装置进行工作，能够发挥运送装置本来所具有的总处理能力，能够提高基板处理装置整体的总处理能力。在包括基板处理室、进片室、以及能够通过两个运送部件将基板在基板处理室和进片室运入运出的运送装置的基板处理装置中，当进行在第一基板处理室中处理的基板的交换时，在进行将第一基板(W1)通过第一运送部件从第一基板处理室运出的第一运出工序(S1)之后、并在进行将第二基板(W3)通过第二运送部件运入到第一基板处理室的第一运入工序(S4)之前执行以下工序：将第二基板(W3)通过第二运送部件从第一进片室运出的第二运出工序(S2)以及将第一基板(W1)通过第一运送部件运入到第一进片室的第二运入工序(S3)。

公开(公告)号：CN102612739A

公开(公告)日：2012-07-25

申请号：CN201080050835.8

申请日：2010-11-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 石沢繁 ,  近藤昌树

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/07

CPC classification number: H01L21/6833 ,  H01L21/67742

Abstract: 提供一种基板处理装置，包括：运送臂，所述运送臂能够载放所述基板、并具有吸附被载放的所述基板的静电吸盘，并且所述运算臂进行所述基板的运送；以及控制部，当在所述基板被载放在所述运送臂上的情况下所述运送臂的动作处于停止时，所述控制部不向所述静电吸盘的电极间施加用于使所述静电吸盘吸附所述基板的电压，当在所述基板被载放在所述运送臂上的情况下所述运送臂进行动作时，所述控制部向所述电极间施加所述电压。

公开(公告)号：CN101859723B

公开(公告)日：2012-05-09

申请号：CN201010151153.8

申请日：2010-04-01

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 石沢繁 ,  小泉浩 ,  大木达也

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67745 ,  H01L21/67748

Abstract: 本发明提供一种基板交换方法以及基板处理装置，通过在进行基板处理室的清洁处理的期间也使运送装置进行工作，能够发挥运送装置本来所具有的总处理能力，能够提高基板处理装置整体的总处理能力。在包括基板处理室、进片室、以及能够通过两个运送部件将基板在基板处理室和进片室运入运出的运送装置的基板处理装置中，当进行在第一基板处理室中处理的基板的交换时，在进行将第一基板(W1)通过第一运送部件从第一基板处理室运出的第一运出工序(S1)之后、并在进行将第二基板(W3)通过第二运送部件运入到第一基板处理室的第一运入工序(S4)之前执行以下工序：将第二基板(W3)通过第二运送部件从第一进片室运出的第二运出工序(S2)以及将第一基板(W1)通过第一运送部件运入到第一进片室的第二运入工序(S3)。