公开(公告)号：CN111378959B

公开(公告)日：2022-10-14

申请号：CN201911364275.2

申请日：2019-12-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 神尾卓史 ,  齐藤哲也 ,  盐野海

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/46 ,  C23C16/16 ,  C23C16/52

Abstract: 本发明提供一种成膜装置和成膜处理方法。提供一种能够使基板处理的面内均匀性提高并且抑制微粒的技术。提供一种成膜装置，该成膜装置具备：处理容器，其在内部形成真空气氛；载置台，其用于载置基板，具有设置到所述处理容器内的加热部件；气体喷出机构，其设置到与所述载置台相对的位置；以及排气部件，其从所述处理容器内排气，所述气体喷出机构包括：气体导入口，其用于向所述处理容器内导入处理气体；第1板状构件，其在比所述气体导入口靠外侧的位置具有第1开口部；以及喷淋板，其设置于所述第1板状构件与所述载置台之间，从所述第1开口部经由多个气孔向工艺空间供给所述处理气体。

公开(公告)号：CN111378959A

公开(公告)日：2020-07-07

申请号：CN201911364275.2

申请日：2019-12-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 神尾卓史 ,  齐藤哲也 ,  盐野海

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/46 ,  C23C16/16 ,  C23C16/52

Abstract: 本发明提供一种成膜装置和成膜处理方法。提供一种能够使基板处理的面内均匀性提高并且抑制微粒的技术。提供一种成膜装置，该成膜装置具备：处理容器，其在内部形成真空气氛；载置台，其用于载置基板，具有设置到所述处理容器内的加热部件；气体喷出机构，其设置到与所述载置台相对的位置；以及排气部件，其从所述处理容器内排气，所述气体喷出机构包括：气体导入口，其用于向所述处理容器内导入处理气体；第1板状构件，其在比所述气体导入口靠外侧的位置具有第1开口部；以及喷淋板，其设置于所述第1板状构件与所述载置台之间，从所述第1开口部经由多个气孔向工艺空间供给所述处理气体。