公开(公告)号：CN1257537C

公开(公告)日：2006-05-24

申请号：CN02805768.6

申请日：2002-03-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 牧谷敏幸 ,  斋藤孝规 ,  爱库曼香留树 ,  S·卡夏卢 ,  A·迪普 ,  D·L·奥迈拉

IPC: H01L21/31 ,  H01L21/22 ,  G01K7/02 ,  C23C16/46

CPC classification number: G01K7/04 ,  G01K1/20

Abstract: 在配置在热处理装置的处理容器1内的热电偶42的表面，设有防反射膜50，以改善热电偶42的过渡响应能力。在典型的实施方式中，热电偶42是通过将结合铂丝43A和铂铑合金丝43B结合而形成，防反射膜50是由氮化硅层50C、硅层50B以及氮化硅层50A依次层叠而构成的。

公开(公告)号：CN1494738A

公开(公告)日：2004-05-05

申请号：CN02805768.6

申请日：2002-03-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 牧谷敏幸 ,  斋藤孝规 ,  爱库曼香留树 ,  S·卡夏卢 ,  A·迪普 ,  D·L·奥迈拉

IPC: H01L21/31 ,  H01L21/22 ,  G01K7/02 ,  C23C16/46

CPC classification number: G01K7/04 ,  G01K1/20

Abstract: 在配置在热处理装置的处理容器1内的热电偶42的表面，设有防反射膜50，以改善热电偶42的过渡响应能力。在典型的实施方式中，热电偶42是通过将结合铂丝43A和铂铑合金丝43B结合而形成，防反射膜50是由氮化硅层50C、硅层50B以及氮化硅层50A依次层叠而构成的。

公开(公告)号：CN100505167C

公开(公告)日：2009-06-24

申请号：CN02822002.1

申请日：2002-09-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 斋藤孝规 ,  牧谷敏幸 ,  长内长荣 ,  泷泽刚 ,  岛津和久 ,  长谷部一秀 ,  山本博之 ,  斋藤幸正 ,  山贺健一

IPC: H01L21/205

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01L21/67098

Abstract: 本发明提供一种热处理装置，包括：上端部形成有开口部的加热炉主体；该开口部处设置的加热炉主体用罩盖部件；设置在加热炉主体内壁处的加热组件；收装在加热炉主体内部处、单管构成的反应容器；形成在反应容器上部、贯通所述罩盖部件的排气配管连接部；和设置在排气配管连接部周围、控制排气配管连接部温度的第一温度控制组件，排气配管连接部处连接有排出反应容器内的气体的排气配管，排气配管连接部的端部处和排气配管的端部处都形成有凸缘部，排气配管连接部端部处与排气配管端部处的凸缘部被连接，在排气配管连接部的端部处的凸缘部和排气配管端部处的凸缘部中的至少一个上设置有对凸缘部彼此连接部分处的温度实施控制用的第三温度控制组件。

公开(公告)号：CN1608312A

公开(公告)日：2005-04-20

申请号：CN02822002.1

申请日：2002-09-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 斋藤孝规 ,  牧谷敏幸 ,  长内长荣 ,  泷泽刚 ,  岛津和久 ,  长谷部一秀 ,  山本博之 ,  斋藤幸正 ,  山贺健一

IPC: H01L21/205

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01L21/67098

Abstract: 本发明提供了一种热处理装置，它包括：在上端部形成有开口部的加热炉主体：设置在所述加热炉主体内壁处的加热组件；收装在所述加热炉主体内部处的、由单管构成的反应容器：形成在所述反应容器上部处的排气配管连接部；以及设置在所述排气配管连接部周围位置处的第一温度控制组件。

公开(公告)号：CN100477086C

公开(公告)日：2009-04-08

申请号：CN02829689.3

申请日：2002-09-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 牧谷敏幸 ,  斋藤孝规 ,  滝泽刚 ,  爱库曼香留树

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/22

CPC classification number: H01L21/67109

Abstract: 一种处理方法，它具有将多个被处理体在高度方向放置成多段的保持夹具收容在处理容器内的工序；和通过利用加热装置加热，进行规定的热处理的工序。预先，求出进行被处理体的热处理的加热装置的特定的目标发热量。处理装置具有处理容器和设在处理容器内的控制用温度检测器和校正用的温度检测器。校正用的温度检测器由在高度方向延伸的保护管主体部，和从该保护管主体部在水平方向延伸出来的多个支管构成。在各个支管上配置热电偶，各个支管插入高度位置互不相同的被处理体之间。

公开(公告)号：CN1669125A

公开(公告)日：2005-09-14

申请号：CN02829689.3

申请日：2002-09-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 牧谷敏幸 ,  斋藤孝规 ,  滝泽刚 ,  爱库曼香留树

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/22

CPC classification number: H01L21/67109

Abstract: 一种处理方法，它具有将多个被处理体在高度方向放置成多段的保持夹具收容在处理容器内的工序；和通过利用加热装置加热，进行规定的热处理的工序。预先，求出进行被处理体的热处理的加热装置的特定的目标发热量。处理装置具有处理容器和设在处理容器内的控制用温度检测器和校正用的温度检测器。校正用的温度检测器由在高度方向延伸的保护管主体部，和从该保护管主体部在水平方向延伸出来的多个支管构成。在各个支管上配置热电偶，各个支管插入高度位置互不相同的被处理体之间。

公开(公告)号：CN2573509Y

公开(公告)日：2003-09-17

申请号：CN02282982.2

申请日：2002-09-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 斋藤孝规 ,  牧谷敏幸 ,  长内长荣 ,  泷泽刚 ,  岛津和久 ,  长谷部一秀 ,  山本博之 ,  斋藤幸正 ,  山贺健一

IPC: C23C16/00

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01L21/67098

Abstract: 本实用新型提供了一种热处理装置，它包括：在上端部形成有开口部的加热炉主体；设置在所述加热炉主体内壁处的加热组件；收装在所述加热炉主体内部处的、由单管构成的反应容器；形成在所述反应容器上部处的排气配管连接部；以及设置在所述排气配管连接部周围位置处的第一温度控制组件。所述排气配管连接部呈弯曲形式。

公开(公告)号：CN2591770Y

公开(公告)日：2003-12-10

申请号：CN02287353.8

申请日：2002-09-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 牧谷敏幸 ,  斋藤孝规 ,  泷泽刚 ,  艾克曼香留树

IPC: H01L21/324 ,  H01L21/22

Abstract: 本实用新型提供一种热处理装置，能够高精度地检测出被处理体的温度，从而能够正确地控制加热组件的发热量，对被处理体稳定地实施所希望的热处理。包括：处理容器；将多个被处理体保持在成水平状态的被处理体保持件；设置在处理容器外部的加热组件；设置在处理容器内的用于温度补偿的温度检测器；其中，用于温度补偿的温度检测器具有直管状保护管本体部和多个支管部；在各支管部处配设有热电偶；各支管部以插在高度位置彼此不同的被处理体之间的方式进行配置；用于温度补偿的温度检测器的保护管本体部是按照以管轴为中心可旋转的方式来进行设置的；在用于温度补偿的温度检测器中，在保护本体部的底端侧部分，环绕其四周形成环状沟槽。