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公开(公告)号：CN1783390A
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：CN200510126030.8
申请日：2003-01-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: C25D11/02 , C25D11/005 , C25D11/32 , C25D17/005 , Y10S204/07
Abstract: 本发明涉及阳极生成装置和阳极生成方法。它将被处理基板作为阳极，向其照射光线而进行电化学处理，使得在该阳极生成装置和阳极生成方法中，可利用更小型的结构要件处理大型的被处理基板。利用多个接触部件，使接触部件与被处理基板形成电接触，或者利用接触部件的移动改变位置。被处理基板的被处理部分的每一部分的导电层分别与多个接触部件的接触部分形成连接，由此开始制造。利用该被处理基板和接触部件的组合，由切换开关实现只与一部分接触部件形成通电，或者，利用接触部件的移动，对被处理基板的一部分导电层形成向接触部件的通电，使得处理所需的电流值，获得仅与被处理部分的一部分相对应的量。
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公开(公告)号：CN1225011C
公开(公告)日：2005-10-26
申请号：CN02805687.6
申请日：2002-11-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3063 , C25F3/12 , C25F7/00
CPC classification number: C25D11/02 , C25D11/005 , H01L21/3063 , H01L21/67115
Abstract: 本发明提供一种阳极氧化装置及阳极氧化方法，对被处理基板的被处理部的光照射均匀，由此在被处理基板面内能进行更均匀的阳极氧化处理。其具备：放射光的灯；设置于放射的光到达的位置上、可以保持被处理基板的被处理基板保持部；设置于放射的光到达被处理基板的途中、具有用于使光通过的开口部并具有不透过光的导体部的阴极电极；使阴极电极、上述灯或被处理基板保持部的空间位置周期振动的振动机构。维持灯、阴极电极、保持被处理基板的被处理基板保持部的这三者的大概位置关系，使其中的至少一个的空间位置周期地振动，由此，阴极电极的影子在被处理基板上随时间的推移而分散。
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公开(公告)号：CN102224570A
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN200980146808.8
申请日：2009-11-19
Applicant: 国立大学法人长冈技术科学大学 , 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/205 , C23C16/452 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H01L21/316
CPC classification number: C23C16/44 , C23C16/407 , C23C16/45523 , H01L21/02181 , H01L21/02238 , H01L21/0228 , H01L21/02565 , H01L21/02573 , H01L21/0262 , H01L21/31138 , H01L21/3141 , H01L21/31645 , H01L21/31662 , H01L21/321
Abstract: 本发明公开的基板处理装置包括：反应室；基板支承部，所述基板支承部设置在所述反应室内，并被构成为支承基板；以及多个催化剂反应部，其中每一个催化剂反应部面对所述基板支承部而布置在所述反应室内，并被构成为通过使从气体导入部导入的原料气体与催化剂接触来生成反应气体，并将生成的所述反应气体向反应室的内部空间喷出，被支承在所述基板支承部上的所述基板通过喷出的所述反应气体被处理。
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公开(公告)号：CN1279580C
公开(公告)日：2006-10-11
申请号：CN03106486.8
申请日：2003-01-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 牛岛满
Abstract: 利用一边由移动机构从溶剂喷嘴排出冲淡剂，一边沿衬底的各边移动例如2个来回或3个来回，去除衬底的仅周边部的光刻胶膜，使在进行粘附处理时形成的HMDS气体的处理膜露出。其次，利用一边由光纤辐照紫外线，一边沿衬底的各边移动例如2个来回或3个来回，去除仅在衬底的周边部露出的处理膜。这样，因为不从衬底周边部上露出的处理膜产生胺系气体，所以能防止使曝光装置中的曝光透镜和反射镜及其他的机器类产生白色污浊。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1494736A
公开(公告)日：2004-05-05
申请号：CN02805687.6
申请日：2002-11-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3063 , C25F3/12 , C25F7/00
CPC classification number: C25D11/02 , C25D11/005 , H01L21/3063 , H01L21/67115
Abstract: 本发明提供一种阳极氧化装置及阳极氧化方法，对被处理基板的被处理部的光照射均匀，由此在被处理基板面内能进行更均匀的阳极氧化处理。其具备：放射光的灯；设置于放射的光到达的位置上、可以保持被处理基板的被处理基板保持部；设置于放射的光到达被处理基板的途中、具有用于使光通过的开口部并具有不透过光的导体部的阴极电极；使阴极电极、上述灯或被处理基板保持部的空间位置周期振动的振动机构。维持灯、阴极电极、保持被处理基板的被处理基板保持部的这三者的大概位置关系，使其中的至少一个的空间位置周期地振动，由此，阴极电极的影子在被处理基板上随时间的推移而分散。
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公开(公告)号：CN1509350A
公开(公告)日：2004-06-30
申请号：CN03800238.8
申请日：2003-01-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C25D17/00 , H01L21/304
CPC classification number: C25D11/02 , C25D11/005 , C25D11/32 , C25D17/005 , Y10S204/07
Abstract: 本发明涉及阳极生成装置和阳极生成方法。它将被处理基板作为阳极，向其照射光线而进行电化学处理，使得在该阳极生成装置和阳极生成方法中，可利用更小型的结构要件处理大型的被处理基板。利用多个接触部件，使接触部件与被处理基板形成电接触，或者利用接触部件的移动改变位置。被处理基板的被处理部分的每一部分的导电层分别与多个接触部件的接触部分形成连接，由此开始制造。利用该被处理基板和接触部件的组合，由切换开关实现只与一部分接触部件形成通电，或者，利用接触部件的移动，对被处理基板的一部分导电层形成向接触部件的通电，使得处理所需的电流值，获得仅与被处理部分的一部分相对应的量。
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公开(公告)号：CN1434481A
公开(公告)日：2003-08-06
申请号：CN03106486.8
申请日：2003-01-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 牛岛满
Abstract: 利用一边由移动机构从溶剂喷嘴排出冲淡剂，一边沿衬底的各边移动例如2个来回或3个来回，去除衬底的仅周边部的光刻胶膜，使在进行粘附处理时形成的HMDS气体的处理膜露出。其次，利用一边由光纤辐照紫外线，一边沿衬底的各边移动例如2个来回或3个来回，去除仅在衬底的周边部露出的处理膜。这样，因为不从衬底周边部上露出的处理膜产生胺系气体，所以能防止使曝光装置中的曝光透镜和反射镜及其他的机器类产生白色污浊。
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公开(公告)号：CN102224571A
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN200980146826.6
申请日：2009-11-19
Applicant: 国立大学法人长冈技术科学大学 , 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/205 , C23C16/452 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H01L21/316
CPC classification number: C23C16/45523 , C23C16/407 , C23C16/44 , H01L21/02181 , H01L21/02233 , H01L21/0228 , H01L21/02565 , H01L21/02573 , H01L21/0262 , H01L21/31138 , H01L21/3141 , H01L21/31645 , H01L21/31662 , H01L21/321
Abstract: 本发明公开的基板处理方法包括：在容器内布置基板的工序；导入工序，在所述导入工序中，向容纳催化剂的催化剂反应部内以第一流量导入H2气体，与所述H2气体相独立地以第二流量导入O2气体，并且从所述催化剂反应部向所述基板喷出由与所述催化剂接触的所述H2气体以及O2气体生成的H2O气体；以及将向所述催化剂反应部导入的所述O2气体的流量减少到比所述第二流量少的第三流量的O2流量减少工序；其中，按照所述导入工序、所述O2流量减少工序的顺序以预定的重复频率重复所述导入工序和所述O2流量减少工序，由此处理所述基板。
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公开(公告)号：CN1279218C
公开(公告)日：2006-10-11
申请号：CN03800238.8
申请日：2003-01-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C25D17/00 , H01L21/304
CPC classification number: C25D11/02 , C25D11/005 , C25D11/32 , C25D17/005 , Y10S204/07
Abstract: 本发明涉及阳极生成装置和阳极生成方法。它将被处理基板作为阳极，向其照射光线而进行电化学处理，使得在该阳极生成装置和阳极生成方法中，可利用更小型的结构要件处理大型的被处理基板。利用多个接触部件，使接触部件与被处理基板形成电接触，或者利用接触部件的移动改变位置。被处理基板的被处理部分的每一部分的导电层分别与多个接触部件的接触部分形成连接，由此开始制造。利用该被处理基板和接触部件的组合，由切换开关实现只与一部分接触部件形成通电，或者，利用接触部件的移动，对被处理基板的一部分导电层形成向接触部件的通电，使得处理所需的电流值，获得仅与被处理部分的一部分相对应的量。
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