公开(公告)号：CN110491770A

公开(公告)日：2019-11-22

申请号：CN201910402577.8

申请日：2019-05-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 菅野至 ,  清瀬浩巳 ,  五师源太郎 ,  滨村直彦 ,  增住拓朗 ,  关口贤治 ,  田中晓 ,  南辉臣

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法、存储介质以及基板处理装置，能够抑制在基板的表面残留微粒。在基于本发明的基板处理方法中，在基板的表面形成保护液的液膜，使用超临界流体使基板干燥，并从基板的表面去除保护液。在使基板干燥之后，去除残留于基板的表面的微粒。

公开(公告)号：CN110663101A

公开(公告)日：2020-01-07

申请号：CN201880033994.3

申请日：2018-05-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 清瀬浩巳

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/66

Abstract: 实施方式所涉及的基板处理装置具备液处理部、摄像部(41)、判定部(19b)以及后处理部。液处理部向基板供给液体来在基板形成液膜。摄像部(41)拍摄形成有液膜的基板的表面。判定部(19b)基于拍摄到的基板的图像，来判定液膜的形成状态是否良好。在判定为液膜的形成状态良好的情况下，后处理部对形成有液膜的基板进行处理。

公开(公告)号：CN109768001A

公开(公告)日：2019-05-17

申请号：CN201811314848.6

申请日：2018-11-06

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 清瀬浩巳

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法以及存储介质。基板处理装置具备：至少一个液膜形成部，其在基板形成干燥防止用的液体的液膜；至少一个干燥处理部，其使形成有液膜的基板干燥；以及搬送机构，其从液膜形成部取出形成有液膜的基板，搬送到干燥处理部。通过搬送时间调节操作或者初始液膜厚度调节操作，使得在干燥处理部中开始干燥处理时存在于基板上的液膜的厚度处于目标范围内，其中，所述搬送时间调节操作是调节利用搬送机构将形成有液膜的基板从液膜形成部搬送到干燥处理部的搬送时间来调节构成存在于基板上的液膜的液体在基板的搬送中的挥发量的操作，所述初始液膜厚度调节操作是调节通过液膜形成部在基板上形成的液膜的厚度的操作。

公开(公告)号：CN110491770B

公开(公告)日：2024-04-09

申请号：CN201910402577.8

申请日：2019-05-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 菅野至 ,  清瀬浩巳 ,  五师源太郎 ,  滨村直彦 ,  增住拓朗 ,  关口贤治 ,  田中晓 ,  南辉臣

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法、存储介质以及基板处理装置，能够抑制在基板的表面残留微粒。在基于本发明的基板处理方法中，在基板的表面形成保护液的液膜，使用超临界流体使基板干燥，并从基板的表面去除保护液。在使基板干燥之后，去除残留于基板的表面的微粒。

公开(公告)号：CN109768001B

公开(公告)日：2023-10-17

申请号：CN201811314848.6

申请日：2018-11-06

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 清瀬浩巳

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法以及存储介质。基板处理装置具备：至少一个液膜形成部，其在基板形成干燥防止用的液体的液膜；至少一个干燥处理部，其使形成有液膜的基板干燥；以及搬送机构，其从液膜形成部取出形成有液膜的基板，搬送到干燥处理部。通过搬送时间调节操作或者初始液膜厚度调节操作，使得在干燥处理部中开始干燥处理时存在于基板上的液膜的厚度处于目标范围内，其中，所述搬送时间调节操作是调节利用搬送机构将形成有液膜的基板从液膜形成部搬送到干燥处理部的搬送时间来调节构成存在于基板上的液膜的液体在基板的搬送中的挥发量的操作，所述初始液膜厚度调节操作是调节通过液膜形成部在基板上形成的液膜的厚度的操作。

公开(公告)号：CN110663101B

公开(公告)日：2023-08-18

申请号：CN201880033994.3

申请日：2018-05-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 清瀬浩巳

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/66

Abstract: 实施方式所涉及的基板处理装置具备液处理部、摄像部(41)、判定部(19b)以及后处理部。液处理部向基板供给液体来在基板形成液膜。摄像部(41)拍摄形成有液膜的基板的表面。判定部(19b)基于拍摄到的基板的图像，来判定液膜的形成状态是否良好。在判定为液膜的形成状态良好的情况下，后处理部对形成有液膜的基板进行处理。