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公开(公告)号：CN114823263A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202210014555.6
申请日：2022-01-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种能够兼顾旋转臂的旋转机构向真空处理容器的中央部的设置和排气路径的简单化的基板处理装置。基板处理装置具有真空处理容器和旋转轴位于真空处理容器的中央部的旋转臂，在旋转臂中，内部为中空的旋转筒构成旋转轴，旋转筒的中空部构成真空处理容器的排气路径。
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公开(公告)号：CN114724977A
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202111596530.3
申请日：2021-12-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明涉及处理模块和处理方法。检测在处理容器内进行输送时的晶圆的位置偏移。处理模块具有处理容器、旋转臂和传感器。处理容器在内部具有多个处理空间，该多个处理空间各自的中心位于同一圆周上且分别配置有载置台。旋转臂具有多个保持部，该多个保持部能够保持分别在多个处理空间的载置台载置的晶圆，该旋转臂设为能够以圆周的中心为旋转轴线进行旋转。传感器位于相邻的处理空间之间，能够在旋转臂的旋转动作时检测被旋转臂保持着的晶圆的位置。
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公开(公告)号：CN114203620A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202111055240.8
申请日：2021-09-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 森淳
IPC: H01L21/687 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供旋转机构和基板处理装置。不使用联轴器并容许第1旋转部与第2旋转部之间的安装误差地将第1旋转部和第2旋转部连接。被旋转体具有第1旋转部和第1固定部。平板固定于被旋转体的第1固定部，该平板在第1旋转部的旋转方向上具有刚性，并在相对于旋转方向而言的轴向上具有挠性。马达具有与被旋转体的第1旋转部同轴地固定着的第2旋转部和固定于平板的第2固定部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115132601A
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202210202354.9
申请日：2022-03-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 森淳
Abstract: 本发明涉及基板处理装置和基板处理装置的控制方法。在处理容器内进行与基板载置台或载置于基板载置台的基板相关的各种测量。基板处理装置具有处理容器、基板载置台、旋转臂、传感器和旋转机构。处理容器在内部形成有多个处理空间。基板载置台分别配置于多个处理空间。旋转臂包括能够保持基板的末端执行器，旋转轴线位于距多个处理空间分别为等距离的位置。传感器设于旋转臂的末端执行器的与基板保持面相反的一侧的背面。旋转机构使旋转臂旋转，以在处理容器内使传感器向与基板载置台或载置于基板载置台的基板相对的位置移动。
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公开(公告)号：CN114078682A
公开(公告)日：2022-02-22
申请号：CN202110891051.8
申请日：2021-08-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 森淳
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供真空处理装置和真空处理装置的控制方法。能够调整载置台的倾斜度并且抑制处理容器内的微粒的产生。载置台设于处理容器内，用于载置基板。支承构件贯穿在处理容器的底部形成的开口部并自下方支承载置台。保持部位于处理容器的外侧，支承构件的端部固定于该保持部，从而该保持部能够与载置台一体地移动，该保持部以自处理容器的外侧覆盖开口部的方式形成，该保持部沿着开口部的周向形成有构成球面轴承的可动部的内圈部。凸缘部配置于处理容器的外侧的、开口部的周围，该凸缘部形成有与内圈部卡合而构成球面轴承的固定部的外圈部。密封部能够伸缩，沿着开口部的周向设于球面轴承的内侧，该密封部至少将凸缘部与保持部之间气密地密封。
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公开(公告)号：CN114078682B
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202110891051.8
申请日：2021-08-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 森淳
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供真空处理装置和真空处理装置的控制方法。能够调整载置台的倾斜度并且抑制处理容器内的微粒的产生。载置台设于处理容器内，用于载置基板。支承构件贯穿在处理容器的底部形成的开口部并自下方支承载置台。保持部位于处理容器的外侧，支承构件的端部固定于该保持部，从而该保持部能够与载置台一体地移动，该保持部以自处理容器的外侧覆盖开口部的方式形成，该保持部沿着开口部的周向形成有构成球面轴承的可动部的内圈部。凸缘部配置于处理容器的外侧的、开口部的周围，该凸缘部形成有与内圈部卡合而构成球面轴承的固定部的外圈部。密封部能够伸缩，沿着开口部的周向设于球面轴承的内侧，该密封部至少将凸缘部与保持部之间气密地密封。
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公开(公告)号：CN116013838A
公开(公告)日：2023-04-25
申请号：CN202211254661.8
申请日：2022-10-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/687 , H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/68
Abstract: 本发明提供一种被处理体的搬送方法和处理装置，能够抑制被处理体在载置台的载置面上产生位置偏移和从升降销产生灰尘。被处理体的搬送方法包括工序a)、工序b)、工序c)以及工序d)。在工序a)中，调整具有能够载置被处理体的载置面的载置台的倾斜度，以使载置面相对于水平面倾斜。在工序b)中，在工序a)之前或之后，使设置于载置台的多个升降销上升，来从搬送被处理体的搬送装置接受被处理体。在工序c)中，通过使多个升降销下降和/或使载置台上升，来将被处理体载置于倾斜的载置面。在工序d)中，调整载置台的倾斜度，以使载置有被处理体的载置面相对于水平面平行。
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公开(公告)号：CN113903697A
公开(公告)日：2022-01-07
申请号：CN202110728639.1
申请日：2021-06-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 森淳
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供真空处理装置和真空处理装置的控制方法。改善由处理容器的变形引起的载置台的位置和倾斜度的偏离。真空处理装置具有：处理容器，其能够将其内部维持为真空气氛；载置台，其设于处理容器内，用于载置基板；支承构件，其贯穿处理容器的底部的孔而自下方支承载置台；基体构件，其与支承构件的位于处理容器的外部的端部卡合，该基体构件能够与载置台一体地移动；以及多个致动器，它们在处理容器的底部与基体构件之间互相排列地设置，该多个致动器使基体构件相对于处理容器的底部相对地移动，从而调整载置台的位置和倾斜度。
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