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公开(公告)号：CN115692249A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202210856574.3
申请日：2022-07-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理系统和基板处理方法，能够缩短在基板处理系统中使用流量测定装置进行的气体的流量测定所花费的时间。基板处理系统具备包括多个腔室的腔室组、包括多个气体箱的气体箱组、流量测定装置、以及排气装置，所述流量测定装置包括测定器和测定配管，所述测定配管包括与所述多个气体箱的各气体箱连接的多个支管、与所述多个支管的各支管及所述测定器连接的主管以及设置于所述多个支管的支管阀，所述测定器包括一个以上的压力传感器、温度传感器、测定器一次阀以及测定器二次阀。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113465819A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202110275286.4
申请日：2021-03-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G01L27/00
Abstract: 本发明提供一种多个腔室压力传感器的校准方法。在基板处理系统的多个腔室压力传感器的校准方法中，基板处理系统具备多个腔室和多个腔室压力传感器，所述多个腔室压力传感器以分别测定多个腔室内的压力的方式设置。通过针对全部的腔室压力传感器将通过腔室压力传感器测定出的关于通过使预先设定的流量的气体流动到腔室而产生的腔室的压力变化率的测定值与将该流量的气体视作理想气体而计算出的腔室的压力变化率的计算值进行比较，来对全部的腔室压力传感器进行校准。在计算腔室的压力变化率的时，计算使用基板处理系统的多个气体流路的容积，通过使用气体流路的压力测定值并且将气体视作理想气体来预先计算出气体流路的容积。
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公开(公告)号：CN111678640A
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN202010138159.5
申请日：2020-03-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 在示例性实施方式所涉及的基板处理系统中，多个气体供给部分别构成为经由其第1气体流路向多个腔室中的对应的腔室内供给气体。多个腔室压力传感器分别构成为测定对应的腔室内的压力。第2气体流路与多个气体供给部各自的第1气体流路连接。基准压力传感器构成为测定第2气体流路内的压力。在示例性实施方式所涉及的方法中，多个腔室压力传感器分别使用对应的腔室、对应的气体供给部的第1气体流路及第2气体流路内的压力被维持的状态下的其压力测定值及基准压力传感器的压力测定值来进行校正。
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公开(公告)号：CN113295225B
公开(公告)日：2025-05-09
申请号：CN202110175393.X
申请日：2021-02-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种流量测量方法和流量测量装置，能高精度地测量气体的流量。在流量测量方法中：测量第一、第二流路的气体的第一压力；重复进行向第一流路的气体的供给和停止，来向第一、第二流路供给气体；在供给气体时，测量从各开信号到关信号期间的气体供给时间；测量第一、第二流路的气体的第二压力和温度；在将第一、第二流路间关闭并从第二流路进行了排气后，测量第二流路的气体的第三压力；在第一、第二流路进行了连接的状态下，测量第一、第二流路的气体的第四压力；基于第一～第四压力和温度来计算被供给到第一、第二流路的气体流量；计算与重复次数相应的量的气体供给时间的平均时间；以及基于理论上的气体供给时间和平均时间来校正流量。
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公开(公告)号：CN113394130A
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN202110241710.3
申请日：2021-03-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法和基板处理系统，高精度地监视为了进行基板处理而供给的气体的总流量。作为使用被供给至腔室的气体来处理基板的方法，该方法包括以下工序：工序(a)，在测定向所述腔室供给的气体的压力来控制该气体的流量的流量控制器中，设定作为控制对象的气体的压力的阈值；工序(b)，向所述腔室的内部供给气体；工序(c)，测定所述流量控制器中的气体的压力；工序(d)，停止向所述腔室的内部供给气体；工序(e)，计算在所述工序(c)中测定出的气体的压力为所述阈值以上的时间；以及工序(f)，基于在所述工序(c)中测定出的气体的压力和在所述工序(e)中计算出的时间来计算向所述腔室供给的气体的总流量。
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公开(公告)号：CN113295225A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202110175393.X
申请日：2021-02-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种流量测量方法和流量测量装置，能高精度地测量气体的流量。在流量测量方法中：测量第一、第二流路的气体的第一压力；重复进行向第一流路的气体的供给和停止，来向第一、第二流路供给气体；在供给气体时，测量从各开信号到关信号期间的气体供给时间；测量第一、第二流路的气体的第二压力和温度；在将第一、第二流路间关闭并从第二流路进行了排气后，测量第二流路的气体的第三压力；在第一、第二流路进行了连接的状态下，测量第一、第二流路的气体的第四压力；基于第一～第四压力和温度来计算被供给到第一、第二流路的气体流量；计算与重复次数相应的量的气体供给时间的平均时间；以及基于理论上的气体供给时间和平均时间来校正流量。
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