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公开(公告)号：CN112596339B
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202011023249.6
申请日：2020-09-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/38 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种能够以高生产率进行处理且占地面积较小的涂敷、显影装置和涂敷、显影方法，其具备：处理模块，其设置有包括曝光前处理组件的处理组件；和中继模块，其设置有曝光后处理组件和第1送入送出组件，在各层设置有所述处理组件，在设置有所述曝光前处理组件的层的所述中继模块侧端，设置有在将基板在两模块之间交接之际载置该基板的交接部，所述中继模块在沿着所述宽度方向与所述处理模块的所述交接部相邻的区域设置有第2送入送出组件，在中继侧输送区域设置有所述第1送入送出组件，在所述深度方向上，在将所述第2送入送出组件夹在中间地与所述曝光后处理组件相对的区域，设置有使基板中继的中继机构。
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公开(公告)号：CN112596351A
公开(公告)日：2021-04-02
申请号：CN202011021474.6
申请日：2020-09-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂布显影装置和涂布显影方法。所述涂布显影装置具备：处理块，其设置有对基板进行处理的处理模块；以及中继块，其将所述处理块与所述曝光装置沿宽度方向进行连结，其中，所述中继块设置有进行基板的搬入和搬出的搬入搬出机构，所述处理块沿上下方向被进行多层化，所述处理块在沿所述宽度方向延伸的搬送区域设置搬送机构，在所述处理块中的、所述中继块的所述搬入搬出机构可访问的高度位置的层中，在所述中继块侧端设置有交接部，在与所述宽度方向正交的深度方向上隔着所述搬送区域设置的两个区域中的至少一个区域，沿所述宽度方向设置有多个曝光前收容部，在所述两个区域中的未设置所述曝光前收容部的部分设置有非处理单元。
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公开(公告)号：CN111025850B
公开(公告)日：2024-09-17
申请号：CN201910954931.8
申请日：2019-10-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种在多个基板之间进行均匀性高的处理的涂布显影装置和涂布显影方法。该涂布显影装置构成为具备：处理块，其具备上下地层叠并且彼此划分开的多个基板搬送区域；处理模块，其分别设置于多个基板搬送区域；搬送机构，其分别设置于多个基板搬送区域，在搬送块与处理模块之间搬送基板；温度调整模块，其为了调整多个处理模块中的至少一个处理模块中的基板的温度，而调整向该一个处理模块搬送前的该基板的温度，被搬送机构进行温度调整后的该基板的搬出；温度传感器，其检测多个基板搬送区域中的至少一个基板搬送区域的气氛温度；以及温度变更机构，其基于由温度传感器检测出的所述气氛温度来变更温度调整模块中的基板的温度。
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公开(公告)号：CN113363193A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202110231949.2
申请日：2021-03-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。使基板处理装置得到较高的生产率并减小占地面积。该装置包括：第1单位模块，其包括第1基板输送区域、分别设为面向第1基板输送区域的左右的一侧、另一侧的第1处理组件、第2处理组件、分别设于第1基板输送区域的左右的一侧、另一侧且分别用于向第1处理组件、第2处理组件交接基板的第1输送机构、第2输送机构；第2单位模块，其包括第2基板输送区域和第3输送机构，与第1单位模块层叠；基板送入送出模块，其相对于单位模块的层叠体设于左右的一侧，分别向第1输送机构、第3输送机构交接基板；中继模块，其相对于单位模块的层叠体设于左右的另一侧，分别向第2输送机构、第3输送机构交接基板。
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公开(公告)号：CN115938982A
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN202211185806.3
申请日：2022-09-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。提高基板处理装置的生产率并抑制专用地面面积。装置构成为具备：载体模块，其具备包含基板送入送出用的载体载置部的多个载体载置部；处理模块，其相对于载体模块设于左右的一侧；第1载体载置部和第2载体载置部，其均是载体载置部且俯视时在前后方向上排列地设置，至少一者是基板送入送出用的载体载置部；沿纵向排列的多个基板载置部，其相对于在俯视时的第1载体载置部与第2载体载置部之间形成的基板的输送区域设于左右的一侧；第1基板输送机构，其设于输送区域；和第2基板输送机构，其在第1基板载置部与包含在多个基板载置部内并且用于相对于处理模块交接基板的第2基板载置部之间交接基板。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114551284A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202111357630.0
申请日：2021-11-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。抑制基板处理装置的占地面积。基板处理装置包括：载体模块，其载置收纳基板的载体；一个处理模块，自载体模块向一个处理模块输送基；另一处理模块，其与一个处理模块重叠并且自另一处理模块向载体模块输送基板；升降移载机构，其具备沿横向延伸的轴和与基板相对并进行支承的支承面，使轴和支承部在用于相对于第1处理模块输送机构交接基板的位置和用于相对于第2处理模块交接基板的位置之间升降；以及转动机构，其使支承部绕轴转动，以当升降移载部位于第1区域和第2区域时使支承面成为第1朝向，当升降移载部在第1区域与第2区域之间升降时使支承面成为相对于水平面的倾斜度大于第1朝向的第2朝向。
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公开(公告)号：CN117476500A
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202310900828.1
申请日：2023-07-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/027 , H01L21/32
Abstract: 本发明提供一种包括湿式地进行曝光处理以外的光刻用处理的湿式处理系统且与曝光装置连接的生产率高的基板处理系统，基板处理系统包括：湿式处理系统，具有湿式处理装置且与曝光装置连结，以湿式方式进行从抗蚀剂膜向基板上的形成处理至曝光后的抗蚀剂膜的显影处理的任一基板处理；干式处理系统，具有干式处理装置，以干式方式进行与湿式处理装置相同种类的基板处理；和中继输送系统，在湿式处理系统与干式处理系统之间输送基板，湿式处理系统配设为从湿式处理系统与曝光装置之间的连结方向观察时，曝光装置在俯视时从与连结方向垂直的进深方向的一侧突出，干式处理系统配设为与湿式处理系统的进深方向的一侧相邻。
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公开(公告)号：CN114551285A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202111371565.7
申请日：2021-11-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。提高基板处理装置的生产率。装置构成为包括：载体模块；第1处理模块，其由互相层叠的第1下侧处理模块、第1上侧处理模块构成；第2处理模块，其由互相层叠的第2下侧处理模块、第2上侧处理模块构成；中继模块，其包括升降输送机构；以及旁路输送机构，其在作为所述上侧处理模块和下侧处理模块中的一者的旁路输送通路形成模块设于每个第1处理模块、第2处理模块，以与该旁路输送通路形成模块的主输送机构一起形成前进路径或返回路径的方式进行动作，在该旁路输送通路形成模块，该旁路输送机构使得能够利用第1处理模块的主输送机构和第2处理模块的主输送机构中的一者朝向下游侧的模块输送基板。
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公开(公告)号：CN114551281A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202111347980.9
申请日：2021-11-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供其能够提高基片处理装置中的吞吐量并且抑制专用占地面积的基片处理装置、基片处理方法和存储介质。装置构成为包括：设置在承载器区块的承载器载置部的俯视时左右之一侧的一处理区块和另一处理区块；具有设置于承载器区块的第1输送机构的基片的输送区域；载置部的层叠体，其将由第1输送机构、一处理区块的主输送机构、另一处理区块的主输送机构分别交接基片的第1载置部、第2载置部、第3载置部彼此在纵向上重叠地构成，并设置在俯视时第1输送机构的前后之一侧；以及第2输送机构，其以俯视时与第1输送机构一起从前后夹着层叠体的方式设置于输送区域，用于在第1载置部与第2载置部之间、第1载置部与第3载置部之间分别输送基片。
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公开(公告)号：CN111081598B
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN201910989235.0
申请日：2019-10-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法，该基板处理装置减少使收纳有基板的基板处理容器暂时待机的保管部所占的地面专有面积。对基板进行处理的基板处理装置具有：保管部，其设置于所述基板处理装置的最上部，载置用于收纳基板的基板收纳容器；搬入搬出部，其在所述基板处理装置中载置所述基板收纳容器，并且与基板处理装置的处理部侧之间进行基板的搬入和搬出；以及移载装置，其与所述保管部之间直接或间接地进行所述基板收纳容器的交接，其中，所述移载装置能够与在所述基板处理装置的上方移动的顶面行驶车之间进行所述基板收纳容器的交接。
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