公开(公告)号：CN1476057A

公开(公告)日：2004-02-18

申请号：CN03146681.8

申请日：2003-07-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 山泽阳平 ,  岩田学 ,  舆水地盐 ,  樋口文彦 ,  清水昭贵 ,  山下朝夫 ,  岩间信浩 ,  东浦勉 ,  张东胜 ,  中谷理子 ,  村上范和

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/00 ,  H05H1/00

CPC classification number: H01J37/32174 ,  H01J37/321

Abstract: 一种使用等离子体来对被处理基板实施等离子体处理的装置，包含在处理室内相互对向的第一及第二电极。在第一和第二电极间，形成激励并等离子体化处理气体的RF电场。RF电源经匹配电路连接于第一及第二电极，提供RF电力。匹配电路自动进行输入阻抗相对RF电力的匹配。可变阻抗设定部经布线连接于在与等离子体电耦合的规定部件上。阻抗设定部设定作为与从等离子体输入规定部件的RF分量对应的阻抗的反方向阻抗。配置控制部，向阻抗设定部提供关于反方向阻抗设定值的控制信号。

公开(公告)号：CN101160014A

公开(公告)日：2008-04-09

申请号：CN200710182349.1

申请日：2003-07-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 山泽阳平 ,  岩田学 ,  舆水地盐 ,  樋口文彦 ,  清水昭贵 ,  山下朝夫 ,  岩间信浩 ,  东浦勉 ,  张东胜 ,  中谷理子 ,  村上范和

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/00 ,  H01L21/02

Abstract: 一种使用等离子体来对被处理基板实施等离子体处理的装置，包含在处理室内相互对向的第一及第二电极。在第一和第二电极间，形成激励并等离子体化处理气体的RF电场。RF电源经匹配电路连接于第一及第二电极，提供RF电力。匹配电路自动进行输入阻抗相对RF电力的匹配。可变阻抗设定部经布线连接于在与等离子体电耦合的规定部件上。阻抗设定部设定作为与从等离子体输入规定部件的RF分量对应的阻抗的反方向阻抗。配置控制部，向阻抗设定部提供关于反方向阻抗设定值的控制信号。

公开(公告)号：CN1860594A

公开(公告)日：2006-11-08

申请号：CN200480028545.8

申请日：2004-09-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  先进能源工业公司

Inventor： 三好秀明 ,  格姆努·兰吉特·达马塞纳 ,  东浦勉 ,  杰克A·吉尔摩 ,  约瑟夫J·奥瑟伯恩 ,  特蕾莎·贝泽

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01J37/32174 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32935

Abstract: 本发明提供一种等离子处理系统(100)，包括具有基板支架(130)和电极(125)的处理腔(120)。处理系统包括压力控制系统、气体供给系和监控装置(160)。多频RF电源(110)经由具有单一可变元件的匹配电路(115)与电极(125)连结。多频RF电源设定为第一频率将等离子点火，设定为第二频率维持等离子。

公开(公告)号：CN101160014B

公开(公告)日：2011-12-28

申请号：CN200710182349.1

申请日：2003-07-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 山泽阳平 ,  岩田学 ,  舆水地盐 ,  樋口文彦 ,  清水昭贵 ,  山下朝夫 ,  岩间信浩 ,  东浦勉 ,  张东胜 ,  中谷理子 ,  村上范和

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/00 ,  H01L21/02

Abstract: 一种使用等离子体来对被处理基板实施等离子体处理的装置，包含在处理室内相互对向的第一及第二电极。在第一和第二电极间，形成激励并等离子体化处理气体的RF电场。RF电源经匹配电路连接于第一及第二电极，提供RF电力。匹配电路自动进行输入阻抗相对RF电力的匹配。可变阻抗设定部经布线连接于在与等离子体电耦合的规定部件上。阻抗设定部设定作为与从等离子体输入规定部件的RF分量对应的阻抗的反方向阻抗。配置控制部，向阻抗设定部提供关于反方向阻抗设定值的控制信号。

公开(公告)号：CN100442451C

公开(公告)日：2008-12-10

申请号：CN200480028545.8

申请日：2004-09-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 三好秀明 ,  格姆努·兰吉特·达马塞纳 ,  东浦勉 ,  杰克A·吉尔摩 ,  约瑟夫J·奥瑟伯恩 ,  特蕾莎·贝泽

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01J37/32174 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32935

Abstract: 本发明提供一种等离子处理系统(100)，包括具有基板支架(130)和电极(125)的处理腔(120)。处理系统包括压力控制系统、气体供给系和监控装置(160)。多频RF电源(110)经由具有单一可变元件的匹配电路(115)与电极(125)连结。多频RF电源设定为第一频率将等离子点火，设定为第二频率维持等离子。

公开(公告)号：CN100355038C

公开(公告)日：2007-12-12

申请号：CN03146681.8

申请日：2003-07-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 山泽阳平 ,  岩田学 ,  舆水地盐 ,  樋口文彦 ,  清水昭贵 ,  山下朝夫 ,  岩间信浩 ,  东浦勉 ,  张东胜 ,  中谷理子 ,  村上范和

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/00 ,  H05H1/00

CPC classification number: H01J37/32174 ,  H01J37/321

Abstract: 一种使用等离子体来对被处理基板实施等离子体处理的装置，包含在处理室内相互对向的第一及第二电极。在第一和第二电极间，形成激励并等离子体化处理气体的RF电场。RF电源经匹配电路连接于第一及第二电极，提供RF电力。匹配电路自动进行输入阻抗相对RF电力的匹配。可变阻抗设定部经布线连接于在与等离子体电耦合的规定部件上。阻抗设定部设定作为与从等离子体输入规定部件的RF分量对应的阻抗的反方向阻抗。配置控制部，向阻抗设定部提供关于反方向阻抗设定值的控制信号。