公开(公告)号：CN101160014A

公开(公告)日：2008-04-09

申请号：CN200710182349.1

申请日：2003-07-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 山泽阳平 ,  岩田学 ,  舆水地盐 ,  樋口文彦 ,  清水昭贵 ,  山下朝夫 ,  岩间信浩 ,  东浦勉 ,  张东胜 ,  中谷理子 ,  村上范和

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/00 ,  H01L21/02

Abstract: 一种使用等离子体来对被处理基板实施等离子体处理的装置，包含在处理室内相互对向的第一及第二电极。在第一和第二电极间，形成激励并等离子体化处理气体的RF电场。RF电源经匹配电路连接于第一及第二电极，提供RF电力。匹配电路自动进行输入阻抗相对RF电力的匹配。可变阻抗设定部经布线连接于在与等离子体电耦合的规定部件上。阻抗设定部设定作为与从等离子体输入规定部件的RF分量对应的阻抗的反方向阻抗。配置控制部，向阻抗设定部提供关于反方向阻抗设定值的控制信号。

公开(公告)号：CN1476057A

公开(公告)日：2004-02-18

申请号：CN03146681.8

申请日：2003-07-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 山泽阳平 ,  岩田学 ,  舆水地盐 ,  樋口文彦 ,  清水昭贵 ,  山下朝夫 ,  岩间信浩 ,  东浦勉 ,  张东胜 ,  中谷理子 ,  村上范和

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/00 ,  H05H1/00

CPC classification number: H01J37/32174 ,  H01J37/321

Abstract: 一种使用等离子体来对被处理基板实施等离子体处理的装置，包含在处理室内相互对向的第一及第二电极。在第一和第二电极间，形成激励并等离子体化处理气体的RF电场。RF电源经匹配电路连接于第一及第二电极，提供RF电力。匹配电路自动进行输入阻抗相对RF电力的匹配。可变阻抗设定部经布线连接于在与等离子体电耦合的规定部件上。阻抗设定部设定作为与从等离子体输入规定部件的RF分量对应的阻抗的反方向阻抗。配置控制部，向阻抗设定部提供关于反方向阻抗设定值的控制信号。

公开(公告)号：CN101160014B

公开(公告)日：2011-12-28

申请号：CN200710182349.1

申请日：2003-07-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 山泽阳平 ,  岩田学 ,  舆水地盐 ,  樋口文彦 ,  清水昭贵 ,  山下朝夫 ,  岩间信浩 ,  东浦勉 ,  张东胜 ,  中谷理子 ,  村上范和

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/00 ,  H01L21/02

Abstract: 一种使用等离子体来对被处理基板实施等离子体处理的装置，包含在处理室内相互对向的第一及第二电极。在第一和第二电极间，形成激励并等离子体化处理气体的RF电场。RF电源经匹配电路连接于第一及第二电极，提供RF电力。匹配电路自动进行输入阻抗相对RF电力的匹配。可变阻抗设定部经布线连接于在与等离子体电耦合的规定部件上。阻抗设定部设定作为与从等离子体输入规定部件的RF分量对应的阻抗的反方向阻抗。配置控制部，向阻抗设定部提供关于反方向阻抗设定值的控制信号。

公开(公告)号：CN100355038C

公开(公告)日：2007-12-12

申请号：CN03146681.8

申请日：2003-07-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 山泽阳平 ,  岩田学 ,  舆水地盐 ,  樋口文彦 ,  清水昭贵 ,  山下朝夫 ,  岩间信浩 ,  东浦勉 ,  张东胜 ,  中谷理子 ,  村上范和

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/00 ,  H05H1/00

CPC classification number: H01J37/32174 ,  H01J37/321

Abstract: 一种使用等离子体来对被处理基板实施等离子体处理的装置，包含在处理室内相互对向的第一及第二电极。在第一和第二电极间，形成激励并等离子体化处理气体的RF电场。RF电源经匹配电路连接于第一及第二电极，提供RF电力。匹配电路自动进行输入阻抗相对RF电力的匹配。可变阻抗设定部经布线连接于在与等离子体电耦合的规定部件上。阻抗设定部设定作为与从等离子体输入规定部件的RF分量对应的阻抗的反方向阻抗。配置控制部，向阻抗设定部提供关于反方向阻抗设定值的控制信号。