-
公开(公告)号：CN111032191B
公开(公告)日：2023-01-20
申请号：CN201880054160.0
申请日：2018-08-03
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社纳米膜技术
Abstract: 本发明提供在气体分离膜的两面的压力差为1个大气压以下那样的平稳条件下，能良好地分离混合气体中的微量成分的气体分离方法，和在该气体分离方法中适宜使用的气体分离膜。在使用气体分离膜、从包含浓度为1000质量ppm以下的特定的气体(A)的混合气体中使气体(A)选择性透过的气体分离方法中，通过使用膜厚为1μm以下的极薄的气体分离膜，从而在气体分离膜的两面的压力差为1个大气压以下那样的平稳条件下，良好地分离气体(A)。
-
公开(公告)号：CN107649010A
公开(公告)日：2018-02-02
申请号：CN201710591602.2
申请日：2017-07-19
Applicant: 株式会社纳米膜技术 , 东京应化工业株式会社
CPC classification number: B01D71/44 , B01D53/228 , B01D67/0083 , B01D67/0093 , B01D71/70 , B01D2323/30 , C08G77/16 , C08G77/18 , C08G77/20 , C08G77/398 , C08G77/58 , C08L43/04 , B01D67/0002
Abstract: 本发明涉及透气膜。本发明提供具有通式(I)表示的部分结构或下述通式(II)表示的部分结构的透气膜、用于制造该透气膜的组合物、及该透气膜的制造方法。式中，R1及R2各自独立地为氢原子、碳原子数1～6的烷基、碳原子数2～6的链烯基、碳原子数1～6的烷氧基、碳原子数2～6的链烯基氧基、芳基、或芳基氧基，M1、M2及M3各自独立地为金属原子，m1为整数，n1、n2及n3各自独立地为1～3的整数，＊表示连接键。
-
公开(公告)号：CN111032191A
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201880054160.0
申请日：2018-08-03
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社纳米膜技术
Abstract: 本发明提供在气体分离膜的两面的压力差为1个大气压以下那样的平稳条件下，能良好地分离混合气体中的微量成分的气体分离方法，和在该气体分离方法中适宜使用的气体分离膜。在使用气体分离膜、从包含浓度为1000质量ppm以下的特定的气体(A)的混合气体中使气体(A)选择性透过的气体分离方法中，通过使用膜厚为1μm以下的极薄的气体分离膜，从而在气体分离膜的两面的压力差为1个大气压以下那样的平稳条件下，良好地分离气体(A)。
-
公开(公告)号：CN101248390A
公开(公告)日：2008-08-20
申请号：CN200680009936.4
申请日：2006-03-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0397 , H01L24/11 , H01L24/13 , H01L2224/1146 , H01L2224/1147 , H01L2224/131 , H01L2224/13144 , H01L2224/13147 , H01L2224/13155 , H01L2224/81192 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01013 , H01L2924/01019 , H01L2924/01024 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/01057 , H01L2924/01073 , H01L2924/01074 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/014 , H01L2924/15747 , H01L2924/15788 , H01L2924/3025 , H05K3/0076 , H05K3/0079 , H05K3/3452 , H01L2924/00014 , H01L2924/00
Abstract: 这种正性光致抗蚀剂组合物是用于曝光到具有选自g－射线、h－射线和i－射线中的一种或多种波长的光的正性光致抗蚀剂组合物，该组合物包括：(A)在活性射线或辐射的辐照下产生酸的化合物，和(B)树脂，所述的树脂在碱中的溶解性通过酸的作用得到提高，其中所述组分(A)包含在阳离子部分具有萘环的鎓盐(A1)。
-
公开(公告)号：CN108885397A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201780021452.X
申请日：2017-03-23
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 先崎尊博
Abstract: 本发明提供：能进行被处理物的表面的良好的亲水化或疏水化、能在被处理物上形成表面处理效果高的区域、和表面处理效果低的区域的表面处理方法；以及可在该表面处理方法中合适地使用的表面处理液。在对已被实施了曝光及烘烤的由感光性表面处理液形成的涂布膜进行清洗、形成膜厚10nm以下的具有表面改性功能的薄膜的表面处理方法中，在感光性表面处理液中含有(A)树脂、(B)光产酸剂、和(C)溶剂，作为(A)树脂，使用具有作为选自由羟基、氰基、及羧基组成的组中的1种以上的基团的官能团I、和作为官能团I以外的亲水性基团或疏水性基团的官能团II的树脂，并且，作为(B)光产酸剂，使用通过光的作用而产生pKa为1以下的强酸的化合物。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114829537B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202080087385.3
申请日：2020-11-26
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 先崎尊博
IPC: C09K3/00 , C09D5/00 , C08F226/00 , C09D201/02 , C09D7/61
Abstract: 本发明提供一种即使表面处理后的物品暴露于各种药剂，亲水化的效果也难以随时间降低的表面处理液与使用该表面处理液的亲水化处理方法。表面处理液包含树脂(A)与溶剂(S)，树脂(A)包含源自甜菜碱单体的结构单元(a1)，该甜菜碱单体包含具有乙烯性不饱和双键的基团、阳离子性基团与阴离子性基团且不包含酯键及酰胺键。阳离子性基团优选为季氮阳离子基团，阴离子性基团优选为磺酸阴离子基团、膦酸阴离子基团或羧酸阴离子基团。
-
公开(公告)号：CN116897399A
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202280016045.0
申请日：2022-03-01
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 国立大学法人东北大学
IPC: H01F1/28
Abstract: 具有磁致伸缩特性的组合物，其含有(P)成分：包含聚合性基团的化合物、(M)成分：粉末状的磁致伸缩材料、和(R)成分：自由基聚合引发剂。
-
公开(公告)号：CN116096505B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202180051739.3
申请日：2021-07-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C09K3/00 , C09D157/12 , C09D157/00 , C08F226/04 , B05D7/24
Abstract: 本发明提供带来针对表面处理对象物即被处理体的表面处理效果的成分的密合性良好、并且容易获得所期望的表面处理效果的表面处理液、和使用该表面处理液的表面处理方法。使用下述表面处理液，其包含树脂(A)和溶剂(S)，树脂(A)包含来自具有亲水性基团和烯键式不饱和双键的化合物的结构单元(a1)、以及来自具有含氮杂环基、烯键式不饱和双键、和特定种类的极性基团的化合物的结构单元(a2)。
-
公开(公告)号：CN116157212A
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202180051820.1
申请日：2021-07-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 先崎尊博
IPC: B05D5/00
Abstract: 本发明提供表面处理液和使用该表面处理液的亲水化处理方法，所述表面处理液能够在表面处理对象物即被处理体的表面形成良好地密合的亲水性的树脂被膜，并且即使经表面处理的物品暴露于各种药剂，表面处理的效果也不易经时性地降低。使用下述表面处理液，其包含聚合性化合物(A)、热聚合引发剂(B)和溶剂(S)，聚合性化合物(A)包含：含有具有烯键式不饱和双键的基团、阳离子性基团和阴离子性基团的甜菜碱单体(a1)；和，含有具有烯键式不饱和双键的基团和水解性甲硅烷基的含不饱和基团的硅化合物(a2)、以及/或者含有具有烯键式不饱和双键的基团和选自氨基、羧基、巯基、羟基及氰基的极性基团的极性聚合性化合物(a3)。
-
公开(公告)号：CN116096505A
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN202180051739.3
申请日：2021-07-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: B05D7/24
Abstract: 本发明提供带来针对表面处理对象物即被处理体的表面处理效果的成分的密合性良好、并且容易获得所期望的表面处理效果的表面处理液、和使用该表面处理液的表面处理方法。使用下述表面处理液，其包含树脂(A)和溶剂(S)，树脂(A)包含来自具有亲水性基团和烯键式不饱和双键的化合物的结构单元(a1)、以及来自具有含氮杂环基、烯键式不饱和双键、和特定种类的极性基团的化合物的结构单元(a2)。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
12
records
(took 0.03 seconds)
