-
公开(公告)号：CN105390557B
公开(公告)日：2020-02-04
申请号：CN201510511537.9
申请日：2015-08-19
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 饭田启之
IPC: H01L31/032 , H01L31/18
Abstract: 本发明提供可以在大型基板上形成均匀的膜厚及良好的膜质的涂布膜的涂布液及其制造方法。本发明的涂布液是太阳能电池的光吸收层的形成中所用的涂布液，将选自第11族金属、第12族金属、第13族金属、第14族金属、第15族元素、第11族金属化合物、第12族金属化合物、第13族金属化合物、第14族金属化合物及含有第15族元素的化合物中的至少1种的单体或化合物在水的存在下溶解于溶媒中而得到反应液，向所述反应液中添加3质量％以上的选自烷撑二醇烷基醚、烷撑二醇烷基醚乙酸酯及烷撑二醇二乙酸酯中的至少1种的添加剂而成。
-
公开(公告)号：CN101016415B
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：CN200710006374.4
申请日：2007-02-01
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08L83/04 , C09D183/04 , C08K5/17 , G02B1/10
CPC classification number: C08F283/12 , C08G77/08 , C08G77/12 , C08K5/19 , C08L51/085 , C08L83/04 , C09D151/085 , C09D183/02 , C09D183/04 , C08L2666/02
Abstract: 本发明提供一种可以形成固体摄像器的透镜的保护膜、光波导路等光学部件中的低折射率层的低折射率二氧化硅类涂膜形成用组合物。该低折射率二氧化硅类涂膜形成用组合物含有硅氧烷聚合物和烷基季胺。作为上述硅氧烷聚合物，优选使用由(1)所表示的至少一种硅烷化合物的水解产物和/或部分缩合产物，RnSiX4-n (1)(式中，R独立地表示氢原子或1价有机基团，X表示水解性基团，n表示0～2的整数，并且多个R可以相同，也可以不同)。
-
公开(公告)号：CN100382252C
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200510103745.1
申请日：2005-09-09
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: H01L21/312 , C08L83/04
Abstract: 一种二氧化硅系被膜形成用涂布液，含有(A)使烷基三烷氧基硅烷发生水解反应而得到的反应产物或者(A’)使由烷基三烷氧基硅烷和三烷氧基硅烷组成的硅烷化合物发生水解反应而得到的反应产物、和(B)选自聚亚烷基二醇及其末端烷基化物的一种以上。本发明提供了可以形成介电常数低而且不易发生由剥离液造成的膜减少和介电常数的上升的二氧化硅系被膜的二氧化硅系被膜形成用涂布液。
-
公开(公告)号：CN101016415A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200710006374.4
申请日：2007-02-01
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08L83/04 , C09D183/04 , C08K5/17 , G02B1/10
CPC classification number: C08F283/12 , C08G77/08 , C08G77/12 , C08K5/19 , C08L51/085 , C08L83/04 , C09D151/085 , C09D183/02 , C09D183/04 , C08L2666/02
Abstract: 本发明提供一种可以形成固体摄像器的透镜的保护膜、光波导路等光学部件中的低折射率层的低折射率二氧化硅类涂膜形成用组合物。该低折射率二氧化硅类涂膜形成用组合物含有硅氧烷聚合物和烷基季胺。作为上述硅氧烷聚合物，优选使用由(1)所表示的至少一种硅烷化合物的水解产物和/或部分缩合产物，RnSiX4－n(1)(式中，R独立地表示氢原子或1价有机基团，X表示水解性基团，n表示0～2的整数，并且多个R可以相同，也可以不同)。
-
公开(公告)号：CN105308760B
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201480031441.6
申请日：2014-05-09
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: H01L31/18 , H01L31/0749 , H01L21/02 , H01L31/0392
CPC classification number: H01L31/18 , H01L21/02557 , H01L21/0256 , H01L21/02568 , H01L21/02628 , H01L31/03923 , H01L31/0749 , Y02E10/541 , Y02P70/521
Abstract: 一种用于形成太阳能电池的光吸收层的络合物及其溶液的制造方法，所述制造方法包括混合如下物质得到反应液的步骤：选自于由第11族金属、第12族金属、第13族金属、第14族金属、第15族元素、第11族金属化合物、第12族金属化合物、第13族金属化合物、第14族金属化合物和含第15族元素的化合物组成的组中的至少一种单体或化合物；选自于由含巯基的有机化合物、硫化物、多硫化物、含硫代羰基的有机化合物、含硫的杂环式化合物、含硒氢基的有机化合物、硒化物、多硒化物、含硒代羰基的有机化合物和含硒的杂环式化合物组成的组中的至少一种含硫族元素的有机化合物；路易斯碱性无机化合物；和第16族元素。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107078181B
公开(公告)日：2018-11-30
申请号：CN201580053269.9
申请日：2015-10-27
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: H01L31/0749 , H01L31/18 , C01G15/00
CPC classification number: C09D5/32 , C01B19/007 , C01G15/006 , C09D1/00 , C09D5/24 , C09D7/20 , H01L21/02568 , H01L21/02628 , H01L31/022425 , H01L31/0322 , H01L31/0326 , H01L31/0749 , H01L31/18 , H01L31/1864 , Y02E10/541
Abstract: 本发明涉及均匀系涂布液，其为用于形成太阳能电池的光吸收层的均匀系涂布液，所述均匀系涂布液含有选自由第11族金属、第13族金属、第11族金属化合物及第13族金属化合物组成的组中的至少1种金属或金属化合物、路易斯碱溶剂及路易斯酸。
-
公开(公告)号：CN1763140A
公开(公告)日：2006-04-26
申请号：CN200510103745.1
申请日：2005-09-09
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C09D183/04 , H01L21/312
Abstract: 一种二氧化硅系被膜形成用涂布液，含有(A)使烷基三烷氧基硅烷发生水解反应而得到的反应产物或者(A’)使由烷基三烷氧基硅烷和三烷氧基硅烷组成的硅烷化合物发生水解反应而得到的反应产物、和(B)选自聚亚烷基二醇及其末端烷基化物的一种以上。本发明提供了可以形成介电常数低而且不易发生由剥离液造成的膜减少和介电常数的上升的二氧化硅系被膜的二氧化硅系被膜形成用涂布液。
-
公开(公告)号：CN107078181A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580053269.9
申请日：2015-10-27
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: H01L31/0749 , H01L31/18 , C01G15/00
CPC classification number: C09D5/32 , C01B19/007 , C01G15/006 , C09D1/00 , C09D5/24 , C09D7/20 , H01L21/02568 , H01L21/02628 , H01L31/022425 , H01L31/0322 , H01L31/0326 , H01L31/0749 , H01L31/18 , H01L31/1864 , Y02E10/541
Abstract: 本发明涉及均匀系涂布液，其为用于形成太阳能电池的光吸收层的均匀系涂布液，所述均匀系涂布液含有选自由第11族金属、第13族金属、第11族金属化合物及第13族金属化合物组成的组中的至少1种金属或金属化合物、路易斯碱溶剂及路易斯酸。
-
公开(公告)号：CN105390557A
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201510511537.9
申请日：2015-08-19
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 饭田启之
IPC: H01L31/032 , H01L31/18
Abstract: 本发明提供可以在大型基板上形成均匀的膜厚及良好的膜质的涂布膜的涂布液及其制造方法。本发明的涂布液是太阳能电池的光吸收层的形成中所用的涂布液，将选自第11族金属、第12族金属、第13族金属、第14族金属、第15族元素、第11族金属化合物、第12族金属化合物、第13族金属化合物、第14族金属化合物及含有第15族元素的化合物中的至少1种的单体或化合物在水的存在下溶解于溶媒中而得到反应液，向所述反应液中添加3质量％以上的选自烷撑二醇烷基醚、烷撑二醇烷基醚乙酸酯及烷撑二醇二乙酸酯中的至少1种的添加剂而成。
-
公开(公告)号：CN105308760A
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201480031441.6
申请日：2014-05-09
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: H01L31/0749 , H01L21/368 , H01L31/072 , H01L31/18
CPC classification number: H01L31/18 , H01L21/02557 , H01L21/0256 , H01L21/02568 , H01L21/02628 , H01L31/03923 , H01L31/0749 , Y02E10/541 , Y02P70/521
Abstract: 一种用于形成太阳能电池的光吸收层的络合物及其溶液的制造方法，所述制造方法包括混合如下物质得到反应液的步骤：选自于由第11族金属、第12族金属、第13族金属、第14族金属、第15族元素、第11族金属化合物、第12族金属化合物、第13族金属化合物、第14族金属化合物和含第15族元素的化合物组成的组中的至少一种单体或化合物；选自于由含巯基的有机化合物、硫化物、多硫化物、含硫代羰基的有机化合物、含硫的杂环式化合物、含硒氢基的有机化合物、硒化物、多硒化物、含硒代羰基的有机化合物和含硒的杂环式化合物组成的组中的至少一种含硫族元素的有机化合物；路易斯碱性无机化合物；和第16族元素。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
12
records
(took 0.027 seconds)
