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公开(公告)号：CN118352230A
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN202310078601.3
申请日：2023-01-16
申请人： 上海新微技术研发中心有限公司
IPC分类号： H01L21/306 , H01L21/308
摘要： 本发明提供一种接触孔刻蚀方法，包括步骤：S1：提供具有待刻蚀的接触孔的基底，基于接触孔的尺寸和采用的湿法刻蚀的刻蚀速率得到完成接触孔刻蚀所需的目标刻蚀时间；S2：进行接触孔湿法刻蚀，本步骤的刻蚀时间小于目标刻蚀时间；S3：对接触孔区域进行冷却以及去除接触孔区域的刻蚀药液；S4：重复步骤S2和S3若干次，直至总刻蚀时间达到目标刻蚀时间，由此得到所需尺寸的接触孔。本发明通过分步刻蚀将狭小空间的高温药液置换出来，同时对基底进行降温，可以有效减少侧向腐蚀，可以更好地控制接触孔的形貌，有助于改善后续接触孔的填充，提高器件性能。
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公开(公告)号：CN118507344A
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202310126833.1
申请日：2023-02-16
申请人： 上海新微技术研发中心有限公司
IPC分类号： H01L21/3213 , H01L21/768 , G03F7/32 , G03F7/36
摘要： 本发明提供一种金属电极及其制备方法，该金属电极的制备方法包括以下步骤：提供一衬底，并形成覆盖衬底上表面的隔离介质层；图案化隔离介质层，以形成贯穿隔离介质层的开口；形成填充开口并覆盖隔离介质层上表面的黏附层，并于黏附层上表面形成阻挡层及导电层，以得到金属电极膜层结构；提供一包括前置反应剂、缓冲剂及至少两种主刻蚀剂的电极刻蚀剂，于导电层的上表面形成图案化的光刻胶层；基于图案化的光刻胶层刻蚀金属电极膜层结构，且仅采用电极刻蚀剂对金属电极膜层结构进行刻蚀。本发明通过对电极刻蚀剂的改进，使改进后的电极刻蚀剂中包括多种主刻蚀剂，利用前置反应剂与每种主刻蚀剂的结合同步刻蚀金属电极膜层结构，简化了工艺步骤。
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公开(公告)号：CN118507381A
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202310126912.2
申请日：2023-02-16
申请人： 上海新微技术研发中心有限公司
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/306 , H01L21/66
摘要： 本发明提供一种湿法刻蚀系统及湿法刻蚀终点判断方法，该湿法刻蚀系统包括循环模块、晶圆处理系统、中央控制系统及厂务系统，其中，循环模块包括循环槽及设有离子浓度检测装置和循环泵的第一管路；晶圆处理系统包括设有温度检测装置的晶圆处理单元及储液槽，晶圆处理单元通过第二、三管路分别与循环槽及储液槽连通，第二管路上设有温度控制器及第一副产物检测装置，第三管路上设有第二副产物检测装置；中央控制系统实时收集并处理各模块及系统的反馈信息，基于处理结果发出相应控制指令，厂务系统用于配制刻蚀剂及补液。本发明通过离子浓度检测装置及第一、二副产物检测装置与中央控制系统和厂务系统的结合，保证刻蚀的品质，且刻蚀终点判断方便。
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公开(公告)号：CN219301808U
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202320148099.4
申请日：2023-01-16
申请人： 上海新微技术研发中心有限公司
摘要： 本实用新型提供一种非制冷红外探测器，包括：基底、反射镜、导电吸气剂锚柱、微桥及热敏电阻；基底内设置有读出电路，所述导电吸气剂锚柱与读出电路电连接，所述微桥架设于导电吸气剂锚柱上，所述热敏电阻位于微桥背离导电吸气剂锚柱的表面，所述反射镜位于微桥、基底和导电吸气剂锚柱围成的谐振腔内。本申请经改善的结构设计，将导电吸气剂锚柱设置于探测器内，使其成为探测器结构的一部分，能够在不额外增加探测器尺寸的情况下，充分发挥吸气剂功能，有助于探测器的小型化。同时，导电吸气剂锚柱不仅能支撑微桥，由此使微桥悬空形成光学谐振腔，而且能起到连接热敏电阻和读出电路的导电作用，有助于提高探测器性能。
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