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公开(公告)号：CN114054964B
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202010764691.8
申请日：2020-07-31
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： B23K26/362 , B23K26/70 , G03F7/20
摘要： 本发明的一种镜片保护装置和光刻机，其中，镜片保护装置通过在第一保护结构和镜片之间设有第二保护结构，并使第二保护结构输出的第二保护气体中的惰性气体的比例大于第一保护结构输出的第一保护气体中惰性气体的比例。如此，通过在镜片与第一保护气膜之间形成有第二保护气膜，且使第二保护气膜比第一保护气膜更纯净，则在第一保护结构输出的第一保护气体朝向镜片方向扩散时，第二保护气膜可有效的阻挡第一保护气体扩散至镜片，以防止第一保护气体在扩散过程中造成镜片的污染。
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公开(公告)号：CN115220306A
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202110426406.6
申请日：2021-04-20
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供一种气浴装置和光刻机，通过在气浴装置的本体内设置对应进气口设置且朝向远离进气口方向延伸的分流板，以使得从进气口流入的气流能够经气流通道重新分配，以均匀的从出气口流出。而分流板远离进气口弯折设置，从而可以调整气流的流体直径和方向，有效防止了流经气流通道内的气流产生涡旋。同时，通过设置导流板，以延伸气流通道，并进一步的避免涡旋的产生。
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公开(公告)号：CN114967352A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202110220311.9
申请日：2021-02-26
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开了一种防污装置，属于光刻技术领域。防污装置能够置于待光刻件与物镜之间，具体包括：防污本体，呈环形结构，防污本体具有沿第一方向间隔设置的第一侧和第二侧，且第一侧相对于第二侧更靠近待光刻件；防污本体的第一侧与待光刻件之间为间隙配合；透光件，防污本体的中心形成有中空的透光部，透光件封闭透光部，物镜的光通过透光件透射至待光刻件上；抽排组件，包括开设于防污本体的第一侧的多个抽风孔和设于防污本体内部的抽排通道，抽风孔与抽排通道相连通，待光刻件周围的污染物依次经由抽风孔和抽排通道被抽至外界。本发明的防污装置能够有效隔离镜片与待光刻件，同时进行污染物的抽离，提升防污效果。
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公开(公告)号：CN116841125A
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202210295567.0
申请日：2022-03-23
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供了一种光路稳定控制装置及光刻机，所述光路稳定控制装置包括：入风口、挡风板、导流格栅以及多孔组件；其中，所述入风口用于通入压缩气体；所述挡风板用于把气体分为两路，第一路气体通过所述导流格栅，第二路气体通过所述多孔组件；所述导流格栅用于均匀化所述第一路气体以对干涉仪进行散热；所述多孔组件用于均匀化所述第二路气体以维持干涉仪光路的压力稳定。本发明提供的光路稳定控制装置提高了干涉仪光路的稳定性，并且解决了干涉仪自身发热导致的测量偏差，从而提升了干涉仪的测量精度。
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公开(公告)号：CN115145122A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202110351718.5
申请日：2021-03-31
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开了一种物镜防污染装置，属于光刻技术领域。物镜防污染装置包括：进气本体，进气本体的内部设置有进气流道，进气本体的底面开设容纳槽，进气流道设于容纳槽的外周；挡板本体，挡板本体置于容纳槽内，且挡板本体的顶面与容纳槽的槽底间隔设置；挡板本体的顶面开设有第一出气流道，挡板本体的中心贯通形成有上宽下窄的第二出气流道，第一出气流道环绕第二出气流道的外周设置，并与进气流道相连通。本发明能够在装置内部形成稳定且均匀的气帘保护层，起到较佳的防污染效果。
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公开(公告)号：CN114054964A
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202010764691.8
申请日：2020-07-31
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： B23K26/362 , B23K26/70 , G03F7/20
摘要： 本发明的一种镜片保护装置和光刻机，其中，镜片保护装置通过在第一保护结构和镜片之间设有第二保护结构，并使第二保护结构输出的第二保护气体中的惰性气体的比例大于第一保护结构输出的第一保护气体中惰性气体的比例。如此，通过在镜片与第一保护气膜之间形成有第二保护气膜，且使第二保护气膜比第一保护气膜更纯净，则在第一保护结构输出的第一保护气体朝向镜片方向扩散时，第二保护气膜可有效的阻挡第一保护气体扩散至镜片，以防止第一保护气体在扩散过程中造成镜片的污染。
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公开(公告)号：CN116736640A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202210195403.0
申请日：2022-03-01
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开了一种防污染保护装置、物镜和光刻机，属于半导体技术领域。该防污染保护装置包括视场挡板和环形主体结构，气流经过进气口依次通过第一环形通道和第二环形通道，从第二环形通道进入容纳腔后的气流最终从视场窗口排出，在容纳腔内形成保护镜头不被污染的气层，从而使光束穿过镜头后可经过容纳腔和视场窗口投射到工件上，由于在第二环形通道和第一环形通道内匀化处理，使出气流更大匀化，避免局部产生涡旋形成污染物滞留区域；还可以有效抵御侧向风扰动。
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