发明公开
CN115220306A 气浴装置及光刻机
审中-实审
- 专利标题： 气浴装置及光刻机
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申请号： CN202110426406.6申请日： 2021-04-20
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公开(公告)号： CN115220306A公开(公告)日： 2022-10-21
- 发明人: 程斌斌 , 张洪博 , 王伟伟 , 赵建军 , 颜小龙
- 申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- 申请人地址： 上海市浦东新区张东路1525号
- 专利权人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- 当前专利权人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- 当前专利权人地址： 上海市浦东新区张东路1525号
- 代理机构： 上海思捷知识产权代理有限公司
- 代理商 郑星
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
本发明提供一种气浴装置和光刻机，通过在气浴装置的本体内设置对应进气口设置且朝向远离进气口方向延伸的分流板，以使得从进气口流入的气流能够经气流通道重新分配，以均匀的从出气口流出。而分流板远离进气口弯折设置，从而可以调整气流的流体直径和方向，有效防止了流经气流通道内的气流产生涡旋。同时，通过设置导流板，以延伸气流通道，并进一步的避免涡旋的产生。
IPC分类:
