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公开(公告)号：CN118625604A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202310226636.7
申请日：2023-03-09
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供了一种极紫外辐射发生装置及光刻设备，极紫外辐射发生装置包括腔体；靶材发生器；激光发生器，用于向靶材发射激光并产生带电粒子及极紫外光；设于腔体内的收集器镜，用于沿收集器镜的光轴收集并反射极紫外光；设于腔体内的若干电极板，相邻电极板之间形成有电场，利用电场约束带电粒子及利用电极板收集不同极性的带电粒子；以及，气控部件，用于产生氢自由基，其经过电极板与带电粒子反应形成气体并排出。本发明中，利用电场约束带电粒子的轨迹，使带电粒子被收集至电极板上，再利用氢自由基与带电粒子反应形成气体而排出，同时通入惰性气体在腔体内可形成稳定流场，以阻止带电粒子扩散至收集器镜，从而延长收集器镜的寿命。
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公开(公告)号：CN115220306A
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202110426406.6
申请日：2021-04-20
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供一种气浴装置和光刻机，通过在气浴装置的本体内设置对应进气口设置且朝向远离进气口方向延伸的分流板，以使得从进气口流入的气流能够经气流通道重新分配，以均匀的从出气口流出。而分流板远离进气口弯折设置，从而可以调整气流的流体直径和方向，有效防止了流经气流通道内的气流产生涡旋。同时，通过设置导流板，以延伸气流通道，并进一步的避免涡旋的产生。
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公开(公告)号：CN112748642B
公开(公告)日：2022-06-21
申请号：CN201911056713.9
申请日：2019-10-31
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明涉及光刻设备技术领域，公开一种导流均流装置。所述导流均流装置包括均流组件和导流组件，均流组件包括罩壳，罩壳安装于风机末端空间壁面上，导流组件设置于罩壳内，且罩壳的表面上开设有多个均流孔。风机出风从风机末端空间壁面流入罩壳内，并在导流组件的导流下，从多个均流孔中流出，使得该导流均流装置实现导流和均流的双重作用，保持风机末端静压腔压力和温度均匀，提高光路的均匀性，且提高换热效率，保护光刻设备中部件不受损坏，延长部件的使用寿命。本发明中的导流组件包括导流板，导流板角度可调地设置于风机末端空间壁面上，可以根据不同的工况调整导流板的角度，不需重新设计导流均流装置，提高了其适用性。
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公开(公告)号：CN110764368A
公开(公告)日：2020-02-07
申请号：CN201810844511.X
申请日：2018-07-27
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种物镜防污染装置，安装在物镜的镜头上，物镜防污染装置包括壳体和具有多个第一通气孔的第一通气板，壳体上开设有通光孔，第一通气板设置在壳体内，位于通光孔的周围并与壳体的外壳围绕形成吹气腔，吹气腔与壳体上的进气口连通，吹气腔具有两个吹气口，两个吹气口相对设置在通光孔两侧，且两个吹气口距离进气口的距离相同，第一通气板设置在吹气口处。上述的物镜防污染装置能够在物镜下方形成均匀稳定分布的正压腔，正压腔内保护气体分布均匀，不会出现部分区域无保护气体的现象，从而避免镜片局部污染以保证物镜透过率，能够有效保证光刻机的曝光精度。
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公开(公告)号：CN118274054A
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202211722848.6
申请日：2022-12-30
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： F16F7/00
摘要： 本发明提供了一种减振器及减振组件，减振器包括：第一端板及第二端板；依次交替堆叠的若干减振单元及若干间隔单元；沿第一方向设置的第一限位结构，可调连接第一端板及间隔单元，通过约束间隔单元相对第一限位结构的移动范围以调节减振器在第一方向的刚度；设于第二端板上的第二限位结构，且与至少部分减振单元及间隔单元相配合并沿第一方向相对移动，通过调节第二限位结构相对减振单元的配合长度以调节减振器在第二方向的刚度，并解耦减振器在第一方向及第二方向的刚度。本发明中，利用第一限位结构调节第一方向的刚度，利用第二限位结构调节第二方向的刚度并解耦第一方向及第二方向的刚度。
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公开(公告)号：CN108906787A
公开(公告)日：2018-11-30
申请号：CN201810713065.9
申请日：2018-06-29
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种工艺处理装置，涉及液晶显示器和半导体设备的制造工艺技术领域，包括形成对物料进行加工的腔体的壳体，所述壳体设置有物料传输出入口和第一抽排口，所述第一抽排口连接有抽排装置；还包括与所述壳体连接的气密封管路，所述气密封管路包括第一通道和第二通道，第一通道一端与所述物料传输出入口连接，另一端与所述第一抽排口连接；第二通道一端与所述壳体内部连通，另一端与所述第一通道中间连通。本发明通过工艺处理装置中添加气密封管路解决工艺处理装置在壳体内对物料进行加工过程中，有害气体及热量从物料传输出入口泄漏出去污染环境的问题。
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公开(公告)号：CN112748642A
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN201911056713.9
申请日：2019-10-31
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明涉及光刻设备技术领域，公开一种导流均流装置。所述导流均流装置包括均流组件和导流组件，均流组件包括罩壳，罩壳安装于风机末端空间壁面上，导流组件设置于罩壳内，且罩壳的表面上开设有多个均流孔。风机出风从风机末端空间壁面流入罩壳内，并在导流组件的导流下，从多个均流孔中流出，使得该导流均流装置实现导流和均流的双重作用，保持风机末端静压腔压力和温度均匀，提高光路的均匀性，且提高换热效率，保护光刻设备中部件不受损坏，延长部件的使用寿命。本发明中的导流组件包括导流板，导流板角度可调地设置于风机末端空间壁面上，可以根据不同的工况调整导流板的角度，不需重新设计导流均流装置，提高了其适用性。
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公开(公告)号：CN116074994A
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN202111275975.1
申请日：2021-10-29
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： H05B1/00
摘要： 本发明公开了一种隔热结构及光配向设备，属于半导体技术领域。一种隔热结构包括隔热本体和防变形气冷槽，隔热本体包括受热面，所述受热面用于朝向发热件；防变形气冷槽设置于所述隔热本体内且与所述隔热本体的侧壁面贯通，所述防变形气冷槽的槽口与所述受热面贯通。开设防变形气冷槽，不仅能起到降温功能，同时槽口处用于接收受热面受热膨胀的形变量，即使受热面受热膨胀，隔热本体整体的热变形也较小，提高了光配向设备整体结构的稳定性。
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公开(公告)号：CN115533403A
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN202110736714.9
申请日：2021-06-30
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： B23K37/04
摘要： 本发明公开了一种张网焊接设备及金属掩模姿态调整方法，张网焊接设备包括：张网装置和掩模姿态调整装置；张网装置将金属掩模版拉伸至设定位置，并将金属掩模版放置在金属框架上；掩模姿态调整装置用于调整金属掩模版在拉伸张紧过程中的位置偏差和姿态偏差；掩模姿态调整装置包括Y向运动机构、Z向运动机构、Rz调整机构和RxRy调整机构；RxRy调整机构来调节Rx向偏差；Z向调整机构和RxRy调整机构用于调节Ry向偏差；Rz调整机构用于调节Rz向偏差；张网装置和Rz调整机构用于调节φz姿态偏差；Rz调整机构和Y向调整机构用于调节Sx姿态偏差；Rz调整机构用于调节Sz姿态偏差。本发明提供的技术方案，可对金属掩模姿态进行精准调整，提高显示面板的蒸镀精度。
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公开(公告)号：CN214896201U
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN202121471377.7
申请日：2021-06-30
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本实用新型属于光刻技术领域，尤其涉及一种光刻设备，包括温控系统，所述温控系统包括由下至上依次设置的制冷单元、接水盘、换热器及风机，所述制冷单元与所述换热器循环连通并用于向所述换热器供给低温介质，所述接水盘用于承接从所述换热器表面滴落的冷凝水，所述接水盘包括盘体，所述盘体包括底板，所述底板的周缘向上弯折形成有弯折边，所述底板凹设形成有集水槽，所述集水槽的槽底开设有排水口，所述排水口处设置有排水管。本实用新型公开的光刻设备，能够提高光刻设备的运行安全性和运行可靠性。
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