公开(公告)号：CN106483778B

公开(公告)日：2018-03-30

申请号：CN201510551168.6

申请日：2015-08-31

申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司

发明人： 李运峰

IPC分类号： G03F9/00

CPC分类号： G03F9/7084 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/709 ,  G03F9/00 ,  G03F9/7007 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7034 ,  G03F9/7088 ,  H01L21/682

摘要： 本发明提供了一种基于相对位置测量的对准系统、双工件台系统及测量系统，其中，基于相对位置测量的对准系统包括：主框架、对准传感器、光强信号采集处理模块、反射镜、工件台、位于工件台上的硅片上的对准标记、位置采集模块、及对准操作与管理模块。位置采集模块同时采集从工件台及反射镜获取的位置数据，而所述反射镜位于所述对准传感器上，即，同时采集所述对准传感器与所述工件台的位置数据，通过处理可得到所述工件台相对于所述对准传感器无振动时的相对位置。即，可得到所述对准传感器相对振幅为零时对准标记的对准位置，从而避免了所述对准传感器的震动的影响，提高了对准重复精度。