一种稀土石榴石单晶的制备方法

    公开(公告)号:CN110820045B

    公开(公告)日:2021-11-05

    申请号:CN201911268308.3

    申请日:2019-12-11

    Abstract: 本发明公开了一种稀土石榴石单晶的制备方法,包括以下步骤:根据晶体分子式Y(2.9‑x)RexBi0.1Fe5O12,其中x=0.2~0.4,准确称量原料、混合、烧结、研磨得到多晶料;向多晶料中加入PbO复合助熔剂,球磨、压块;清洗籽晶;晶体生长,将籽晶缓慢浸入接近过饱和的高温溶液,短暂生长,随后提离液面,完成初次生长;根据理论计算消耗量补充溶质,使其再次达到过饱和,重复上述步骤,进行晶体的二次生长;多次重复上述步骤得到目标晶体。本发明采用生长‑补充溶质‑再生长‑再补充溶质多次循环的方式进行晶体生长,实现晶体生长与质量的精准控制,得到表面光滑、无开裂的稀土石榴石单晶;通过多层增厚法制备的稀土石榴石单晶厚度可达100μm以上,满足磁光、微波器件应用。

    一种稀土石榴石单晶的制备方法

    公开(公告)号:CN110820045A

    公开(公告)日:2020-02-21

    申请号:CN201911268308.3

    申请日:2019-12-11

    Abstract: 本发明公开了一种稀土石榴石单晶的制备方法,包括以下步骤:根据晶体分子式Y(2.9-x)RexBi0.1Fe5O12,其中x=0.2~0.4,准确称量原料、混合、烧结、研磨得到多晶料;向多晶料中加入PbO复合助熔剂,球磨、压块;清洗籽晶;晶体生长,将籽晶缓慢浸入接近过饱和的高温溶液,短暂生长,随后提离液面,完成初次生长;根据理论计算消耗量补充溶质,使其再次达到过饱和,重复上述步骤,进行晶体的二次生长;多次重复上述步骤得到目标晶体。本发明采用生长-补充溶质-再生长-再补充溶质多次循环的方式进行晶体生长,实现晶体生长与质量的精准控制,得到表面光滑、无开裂的稀土石榴石单晶;通过多层增厚法制备的稀土石榴石单晶厚度可达100μm以上,满足磁光、微波器件应用。

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