公开(公告)号：CN109634062A

公开(公告)日：2019-04-16

申请号：CN201810794694.9

申请日：2018-07-18

Applicant: 上海应用技术大学

Inventor： 李以贵 ,  吕曈 ,  蔡金东 ,  王欢 ,  吴文渊 ,  何易德

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/2039 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/7055 ,  G03F7/70558

Abstract: 本发明属于半导体集成电路制造技术领域，更具体地，涉及一种基于整形X射线移动曝光的微台阶加工装置及方法。基于整形X射线移动曝光的微台阶加工装置，它包括同步辐射光光源、掩膜版、PMMA光刻胶板、移动工作台和曝光腔，所述掩膜版、PMMA光刻胶板、移动工作台设置在曝光腔内，PMMA光刻胶板固定设置在移动工作台上，掩膜版位于PMMA光刻胶板前方，所述同步辐射光光源位于曝光腔外，且设置在掩膜版前方，所述掩膜版上设有小孔，所述同步辐射光光源发射的X射线进入曝光腔区域，通过掩膜版上的小孔，得到整形好的X射线，对移动工作台的上PMMA光刻胶板进行曝光。通过控制整形X射线照射到光刻胶的时间，获得不同的曝光剂量，从而获得不同深度的台阶式结构。