复杂形状CVD金刚石/类金刚石复合涂层刀具制备方法

    公开(公告)号:CN102650053B

    公开(公告)日:2014-06-18

    申请号:CN201210124337.4

    申请日:2012-04-25

    摘要: 本发明公开了一种复杂形状CVD金刚石/类金刚石复合涂层刀具的制备方法。采用热丝CVD法在刀具表面沉积一层MCD薄膜,在沉积过程中采用负偏压产生离子轰击保证MCD薄膜具有光滑表面;随后继续沉积一层DLC薄膜,在初始阶段,用正负脉冲离子电源对涂覆了MCD薄膜的刀具表面进行离子轰击,以清除刀具表面的杂质,并去除涂层表面尖锐的晶粒棱角,增加涂层平整度,提高涂层表面活性,达到增强层间附着强度的效果。采用本发明的制备方法能够在具有复杂形状表面的整体式硬质合金刀具表面沉积获得具有优异膜-基附着强度、表面耐磨减摩及自润滑特性的CVD金刚石/类金刚石复合涂层,该复合涂层还具有内应力低、表面光滑平整、厚度均匀等特点。

    复杂形状CVD金刚石/类金刚石复合涂层刀具制备方法

    公开(公告)号:CN102650053A

    公开(公告)日:2012-08-29

    申请号:CN201210124337.4

    申请日:2012-04-25

    摘要: 本发明公开了一种复杂形状CVD金刚石/类金刚石复合涂层刀具的制备方法。采用热丝CVD法在刀具表面沉积一层MCD薄膜,在沉积过程中采用负偏压产生离子轰击保证MCD薄膜具有光滑表面;随后继续沉积一层DLC薄膜,在初始阶段,用正负脉冲离子电源对涂覆了MCD薄膜的刀具表面进行离子轰击,以清除刀具表面的杂质,并去除涂层表面尖锐的晶粒棱角,增加涂层平整度,提高涂层表面活性,达到增强层间附着强度的效果。采用本发明的制备方法能够在具有复杂形状表面的整体式硬质合金刀具表面沉积获得具有优异膜-基附着强度、表面耐磨减摩及自润滑特性的CVD金刚石/类金刚石复合涂层,该复合涂层还具有内应力低、表面光滑平整、厚度均匀等特点。

    特大孔径内孔金刚石平坦化涂层的制备方法

    公开(公告)号:CN102140627A

    公开(公告)日:2011-08-03

    申请号:CN201110028847.7

    申请日:2011-01-27

    IPC分类号: C23C16/27 C23C16/44

    摘要: 一种金刚石涂层技术领域的特大孔径内孔金刚石平坦化涂层的制备方法,采用热丝化学气相沉积法在拉拔模的內孔表面依次进行直流正向偏流沉积、直流反向偏流沉积、直流还原沉积和优化沉积处理,得到特大孔径内孔金刚石平坦化涂层。本发明用三相整流的直流电源来替代单相交流电源,从而解決了大功率供电的三相平衡问题,同时既能保证金刚石涂层的质量,又能提高涂层的表面平整度,减少涂层抛光工作量,提高涂层模具的合格率和可靠性。

    碳化硅陶瓷和金刚石复合拉拔模具制备方法

    公开(公告)号:CN101318839A

    公开(公告)日:2008-12-10

    申请号:CN200810040138.9

    申请日:2008-07-03

    IPC分类号: C04B41/85 B21C3/00

    摘要: 本发明涉及一种镀覆技术领域的碳化硅陶瓷和金刚石复合拉拔模具制备方法,以碳化硅陶瓷为衬底,进行多次常规金刚石涂层沉积→等离子体抛光→纳米金刚石涂层沉积→机械抛光,使陶瓷模具原先内孔表面缺陷砂眼消失,在CVD金刚石沉积-抛光循环过程,采用常规金刚石涂层与纳米金刚石涂层相结合,等离子体抛光与机械抛光相结合,在沉积常规涂层与纳米涂层之间插入等离子体抛光,使生长纳米涂层后更适应机械抛光。本发明制备的模具可替代传统硬质合金产品,不仅能大幅度延长传统模具和器件的使用寿命,提高生产效率,显著改善相关产品的质量,有效节约原材料,且对于大幅度减少钨、钴资源的消耗,有效解决硬质合金行业面临资源危机意义重大。

    制备纳米金刚石薄膜的辅助栅极热丝化学气相沉积法

    公开(公告)号:CN1294293C

    公开(公告)日:2007-01-10

    申请号:CN200410067571.3

    申请日:2004-10-28

    IPC分类号: C23C16/503 C23C16/27

    摘要: 一种镀覆技术领域的制备纳米金刚石薄膜的辅助栅极热丝化学气相沉积法,在热丝CVD沉积金刚石薄膜的基础上,增加一种辅助栅极,辅助栅极在热丝沉积初期,先行沉积一层金刚石薄膜,然后在栅极和热丝之间加上直流偏压,栅极为负,栅极表面的金刚石薄膜即发射电子而形成直流放电,其中正离子将轰击栅极,被轰击下来的金刚石原子和原子集团将溅落到衬底上,成为金刚石形核和生长驱动点,溅射对衬底上金刚石的高密度形核和二次形核起了关键作用,衬底表面沉积得到纳米金刚石薄膜。本发明能达到极高的形核密度,同时在生长过程中有很高的二次形核速率,能生长得到纳米级的金刚石薄膜,沉积后薄膜无须研磨抛光就能达到较高的光洁度,满足使用要求。

    在复杂形状刀具上制备金刚石薄膜的化学气相沉积方法

    公开(公告)号:CN1818131A

    公开(公告)日:2006-08-16

    申请号:CN200610024508.0

    申请日:2006-03-09

    摘要: 一种镀覆技术领域的在复杂形状刀具上制备金刚石薄膜的化学气相沉积方法,在热丝CVD沉积金刚石薄膜的基础上,采用螺旋形热丝结构进行复杂形状刀具金刚石涂层的沉积,将复杂形状刀具竖直放入螺旋形热丝结构的内部,其轴心和螺旋形热丝结构的中心相重合,在沉积过程中,复杂形状刀具自身通过设备工作台绕其轴心旋转,采用螺旋形热丝结构保证了复杂形状刀具各部分与热丝之间的距离均匀,使复杂形状刀具周围的碳源基团浓度均匀相等,从而保证涂层的均匀性,同时衬底自身的旋转也有效地增强衬底表面薄膜的均匀性。本发明能够有效保证复杂形状刀具表面金刚石薄膜的均匀性,同时形核速率高,生长速率快,沉积后的金刚石薄膜均匀而且质量良好。