公开(公告)号：CN1167106C

公开(公告)日：2004-09-15

申请号：CN99803006.6

申请日：1999-11-12

Applicant: 三菱电机株式会社 ,  岛田理化工业株式会社

Inventor： 大家泉 ,  野田清治 ,  宫本诚 ,  葛本昌树 ,  大森雅司 ,  片冈辰雄

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/42

CPC classification number: H01L21/67075 ,  G03F7/42 ,  G03F7/422 ,  G03F7/423 ,  G03F7/428

Abstract: 提供了在减少材料消耗并降低通风设施成本的同时高效率且对环境无害地去除光刻胶膜的方法及其装置。去除覆在衬底表面上的光刻胶膜的方法包括：在密闭系统中，使带有光刻胶膜的衬底表面接触光刻胶膜去除溶液；在光刻胶膜去除溶液的液面附近使臭氧以气相和/或混入溶液的状态存在；改变衬底表面与溶液液面之间的相对位置以便从衬底上除去光刻胶膜或使之分解；其中，在衬底底边从位于溶液液面上方的一个位置到衬底顶边位于溶液液面下方的另一个位置之间的范围内，连续或断续地改变相对位置。用于上述方法的装置。

公开(公告)号：CN1291347A

公开(公告)日：2001-04-11

申请号：CN99803006.6

申请日：1999-11-12

Applicant: 三菱电机株式会社 ,  岛田理化工业株式会社

Inventor： 大家泉 ,  野田清治 ,  宫本诚 ,  葛本昌树 ,  大森雅司 ,  片冈辰雄

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/42

CPC classification number: H01L21/67075 ,  G03F7/42 ,  G03F7/422 ,  G03F7/423 ,  G03F7/428

Abstract: 提供了在减少材料消耗并降低通风设施成本的同时高效率且对环境无害地去除光刻胶膜的方法及其装置。去除覆在衬底表面上的光刻胶膜的方法包括:在密闭系统中,使带有光刻胶膜的衬底表面接触光刻胶膜去除溶液;在光刻胶膜去除溶液的液面附近使臭氧以气相和/或混入溶液的状态存在;改变衬底表面与溶液液面之间的相对位置以便从衬底上除去光刻胶膜或使之分解;其中,在衬底底边从位于溶液液面上方的一个位置到衬底顶边位于溶液液面下方的另一个位置之间的范围内,连续或断续地改变相对位置。用于上述方法的装置。