半导体装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1238562A

    公开(公告)日:1999-12-15

    申请号:CN99102103.7

    申请日:1999-02-08

    CPC classification number: H01L27/1108

    Abstract: 在硅衬底1上形成的存取晶体管A1的漏区是n-、n+型漏区6a、8a,源区是n-、n+型源区6b、8b。驱动晶体管的源区是n-、n++型源区6c、10,漏区是n-、n+型漏区6b、8b。将n++型源区10形成得比n+型漏区8b深。由此,可得到能抑制制造成本的上升并能谋求静态噪声容限的提高的半导体装置。

    具备静态随机存取存储器的半导体装置

    公开(公告)号:CN1179417C

    公开(公告)日:2004-12-08

    申请号:CN99102103.7

    申请日:1999-02-08

    CPC classification number: H01L27/1108

    Abstract: 在硅衬底1上形成的存取晶体管A1的漏区是n-、n+型漏区6a、8a,源区是n-、n+型源区6b、8b。驱动晶体管的源区是n-、n++型源区6c、10,漏区是n-、n+型漏区6b、8b。将n++型源区10形成得比n+型漏区8b深。由此,可得到能抑制制造成本的上升并能谋求静态噪声容限的提高的半导体装置。

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