公开(公告)号：CN102683243A

公开(公告)日：2012-09-19

申请号：CN201210059156.8

申请日：2012-03-05

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社 ,  大日本网屏制造株式会社

Inventor： 东友之 ,  山田健二 ,  荒木浩之 ,  安藤幸嗣

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  B08B3/08

CPC classification number: H01L21/67075 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67167 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，具有：第一处理室以及第二处理室；在所述第一处理室保持基板的第一基板保持单元；向所述第一基板保持单元所保持的基板供给含有蚀刻成分和增稠剂的药液的药液供给单元；在所述基板保持有所述药液的状态下，将该基板从所述第一处理室搬运到所述第二处理室的基板搬运单元；以及在所述第二处理室，对保持有所述药液的多张基板进行保持的第二基板保持单元。

公开(公告)号：CN100592475C

公开(公告)日：2010-02-24

申请号：CN200680051270.9

申请日：2006-01-17

Applicant: 大日本网屏制造株式会社

Inventor： 荒木浩之 ,  德利宪太郎

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67028 ,  H01L21/67034

Abstract: 本发明公开一种基板处理装置以及基板处理方法，通过从基板表面良好地排除冲洗液，能够抑制或者防止产生基板表面上的条状的颗粒。该基板处理装置具有基板倾斜机构，所述基板倾斜机构使保持基板的基板保持机构上的基板倾斜。在向基板上供给冲洗液而形成液块之后，通过基板倾斜机构，使基板倾斜微小角度。这样，液块不发生破裂，并且在基板的上表面上不残留微小液滴而向下方落下。此后，基板返回水平姿势，使基板干燥。

公开(公告)号：CN103364478A

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：CN201310055320.2

申请日：2013-02-21

Applicant: 大日本网屏制造株式会社

Inventor： 高桥朋宏 ,  荒木浩之

IPC: G01N27/60 ,  G01N1/28

Abstract: 本发明的基板处理装置，包括：循环路，包括贮存磷酸水溶液的处理槽、输送磷酸水溶液的循环泵、对磷酸水溶液进行加热的循环用加热器、对磷酸水溶液进行过滤的过滤器，使从处理槽排出的磷酸水溶液依次流过循环泵、循环用加热器、过滤器，并且使磷酸水溶液从过滤器返回上述处理槽中；分支管，在循环用加热器与过滤器之间从循环路分支，从循环路中提取磷酸水溶液；浓度测定部，与分支管相连通连接，通过电位差测定法测定磷酸水溶液中的硅浓度。

公开(公告)号：CN101361169A

公开(公告)日：2009-02-04

申请号：CN200680051270.9

申请日：2006-01-17

Applicant: 大日本网屏制造株式会社

Inventor： 荒木浩之 ,  德利宪太郎

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67028 ,  H01L21/67034

Abstract: 本发明公开一种基板处理装置以及基板处理方法，通过从基板表面良好地排除冲洗液，能够抑制或者防止产生基板表面上的条状的颗粒。该基板处理装置具有基板倾斜机构，所述基板倾斜机构使保持基板的基板保持机构上的基板倾斜。在向基板上供给冲洗液而形成液块之后，通过基板倾斜机构，使基板倾斜微小角度。这样，液块不发生破裂，并且在基板的上表面上不残留微小液滴而向下方落下。此后，基板返回水平姿势，使基板干燥。

公开(公告)号：CN102683243B

公开(公告)日：2016-01-06

申请号：CN201210059156.8

申请日：2012-03-05

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社 ,  斯克林集团公司

Inventor： 东友之 ,  山田健二 ,  荒木浩之 ,  安藤幸嗣

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  B08B3/08

CPC classification number: H01L21/67075 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67167 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，具有：第一处理室以及第二处理室；在所述第一处理室保持基板的第一基板保持单元；向所述第一基板保持单元所保持的基板供给含有蚀刻成分和增稠剂的药液的药液供给单元；在所述基板保持有所述药液的状态下，将该基板从所述第一处理室搬运到所述第二处理室的基板搬运单元；以及在所述第二处理室，对保持有所述药液的多张基板进行保持的第二基板保持单元。