公开(公告)号：CN103187340A

公开(公告)日：2013-07-03

申请号：CN201210555069.1

申请日：2012-12-19

Applicant: 大日本网屏制造株式会社

Inventor： 藤原直澄 ,  宫胜彦 ,  加藤雅彦 ,  德利宪太郎

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  B08B7/00

CPC classification number: B08B3/04 ,  B08B7/0092 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67109

Abstract: 本发明涉及基板处理装置以及基板处理方法。在基板处理装置（1）中，通过从第一液体供给部（31）向基板（9）的上表面（91）供给的纯水的过冷却液在上表面（91）上形成液膜，通过来自冻结部（4）的冷却气体冷却该液膜来形成冻结膜。通过过冷却液形成的液膜的温度比纯水的凝固点低，处于容易冻结的状态。因此，被冻结部（4）冷却了时，能够缩短冻结液膜所需的时间。另外，与利用温度比凝固点高的纯水形成液膜的情况相比，即使来自冻结部（4）的冷却气体的温度变高，也能够迅速地冻结液膜。因此，能够简化从冷却气体供给源向冷却气体喷嘴（41）供给冷却气体的配管等绝热设备。结果，能够抑制冻结液膜所需的冷却成本。

公开(公告)号：CN101361169A

公开(公告)日：2009-02-04

申请号：CN200680051270.9

申请日：2006-01-17

Applicant: 大日本网屏制造株式会社

Inventor： 荒木浩之 ,  德利宪太郎

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67028 ,  H01L21/67034

Abstract: 本发明公开一种基板处理装置以及基板处理方法，通过从基板表面良好地排除冲洗液，能够抑制或者防止产生基板表面上的条状的颗粒。该基板处理装置具有基板倾斜机构，所述基板倾斜机构使保持基板的基板保持机构上的基板倾斜。在向基板上供给冲洗液而形成液块之后，通过基板倾斜机构，使基板倾斜微小角度。这样，液块不发生破裂，并且在基板的上表面上不残留微小液滴而向下方落下。此后，基板返回水平姿势，使基板干燥。

公开(公告)号：CN100592475C

公开(公告)日：2010-02-24

申请号：CN200680051270.9

申请日：2006-01-17

Applicant: 大日本网屏制造株式会社

Inventor： 荒木浩之 ,  德利宪太郎

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67028 ,  H01L21/67034

Abstract: 本发明公开一种基板处理装置以及基板处理方法，通过从基板表面良好地排除冲洗液，能够抑制或者防止产生基板表面上的条状的颗粒。该基板处理装置具有基板倾斜机构，所述基板倾斜机构使保持基板的基板保持机构上的基板倾斜。在向基板上供给冲洗液而形成液块之后，通过基板倾斜机构，使基板倾斜微小角度。这样，液块不发生破裂，并且在基板的上表面上不残留微小液滴而向下方落下。此后，基板返回水平姿势，使基板干燥。