-
公开(公告)号：CN100562606C
公开(公告)日：2009-11-25
申请号：CN200510096646.5
申请日：2005-08-31
Applicant: 三洋电机株式会社
Abstract: 本发明提供利用电解法有效地生成可以用于上下水道或食品等的清洗杀菌处理或半导体设备制造工序等中的清洗处理等的臭氧水的臭氧发生用电极以及该臭氧发生用电极的制造方法。在构成臭氧发生用电极(1)的导电性基体(2)的表面，形成覆盖铂等贵金属或贵金属氧化物的中间层(3)，在该中间层(3)的表面又形成由电介质形成的表面层(4)，在该表面层上具有孔。
-
公开(公告)号：CN1534797A
公开(公告)日：2004-10-06
申请号：CN200410031622.7
申请日：2004-03-31
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: H01L29/78 , H01L21/336 , H01L21/335
CPC classification number: H01L29/0847 , H01L21/823412 , H01L21/823418 , H01L21/823807 , H01L21/823814 , H01L29/665 , H01L29/6659 , H01L29/7833
Abstract: 本发明提供一种提高动作速度的同时能抑制临界电压的变动的半导体装置。该半导体装置中，将氟导入到跨越第一导电型半导体区域和第二导电型的源极/漏极区域的接合界面的区域、栅极绝缘膜与沟道区域的至少中央区域的以及栅极绝缘膜、和侧壁绝缘膜中的至少一种之中。
-
公开(公告)号：CN1920101A
公开(公告)日：2007-02-28
申请号：CN200610110984.4
申请日：2006-08-11
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: C25B11/0405 , C02F1/46109 , C02F1/4672 , C02F2001/46142 , C25B1/13 , C25B11/03
Abstract: 本发明提供一种可以利用低电流密度下的水的电解高效率地生成臭氧水的电解用电极。本发明的电解用电极(1)由基体(2)、形成于该基体(2)的表面并含有电介质的表面层(4)构成，在该表面层(4)中，形成有从该表面层(4)的表面连续地延伸至内部的孔(10)，从该孔(10)到基体(2)的表面的最接近的部位的距离被设为大于0而在2000nm以下。
-
公开(公告)号：CN1896319A
公开(公告)日：2007-01-17
申请号：CN200610093019.0
申请日：2006-06-02
Applicant: 三洋电机株式会社
Abstract: 本发明提供能够利用低电流密度下的水的电解以高效率生成臭氧水的电解用电极及使用了该电极的过硫酸溶解水生成方法。本发明的臭氧生成用电极(1)由基体(2)、形成于该基体(2)的表面并含有电介质的表面层(4)构成，该表面层(4)的厚度被制成大于0而小于等于2000nm。特别是，基体(2)由导电性材料构成，并且构成表面层(4)的电介质由氧化钽或氧化铝构成，利用低电流密度下的电解质溶液的电解处理，以高效率地生成臭氧。
-
公开(公告)号：CN101205089B
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN200710199866.X
申请日：2007-12-14
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: D06F39/006 , Y02B40/56
Abstract: 本发明提供一种清洗装置中的水再利用方法及具备该功能的洗涤机，其特征在于，在清洗装置中容易从含有界面活性剂的被处理水中去除处理界面活性剂，由此实现水的再利用，进而仅通过电解质溶液的通水即可容易地再生吸附材料。上述方法包括：界面活性剂吸附处理工序，其利用作为阴离子交换体的水滑石或作为阳离子交换体的沸石对洗涤机W中使用的含有界面活性剂的清洗水及漂洗水等被处理水中的界面活性剂吸附并进行去除处理；和水再利用工序，其在洗涤机W中使用经该界面活性剂吸附处理工序处理的被处理水。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101260536A
公开(公告)日：2008-09-10
申请号：CN200810083465.2
申请日：2008-03-07
Applicant: 三洋电机株式会社
Abstract: 本发明提供可以通过在低电流密度下对常温的电解质溶液(例如水)的电解来高效率地生成臭氧的电解用电极及使用了它的电解组件。本发明的电解用电极(1)是具备基体(2)、在该基体(2)的表面形成的表面层(5)的电解用电极，表面层(5)由无定形的绝缘体，例如无定形型的氧化钽、无定形型的氧化钨、无定形型的氧化铝的薄膜构成。
-
公开(公告)号：CN100596313C
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：CN200610110984.4
申请日：2006-08-11
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: C25B11/0405 , C02F1/46109 , C02F1/4672 , C02F2001/46142 , C25B1/13 , C25B11/03
Abstract: 本发明提供一种可以利用低电流密度下的水的电解高效率地生成臭氧水的电解用电极。本发明的电解用电极(1)由基体(2)、形成于该基体(2)的表面并含有电介质的表面层(4)构成，在该表面层(4)中，形成有从该表面层(4)的表面连续地延伸至内部的孔(10)，从该孔(10)到基体(2)的表面的最接近的部位的距离被设为大于0而在2000nm以下。
-
公开(公告)号：CN100459156C
公开(公告)日：2009-02-04
申请号：CN200410031622.7
申请日：2004-03-31
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: H01L29/78 , H01L21/336 , H01L21/335
CPC classification number: H01L29/0847 , H01L21/823412 , H01L21/823418 , H01L21/823807 , H01L21/823814 , H01L29/665 , H01L29/6659 , H01L29/7833
Abstract: 本发明提供一种提高动作速度的同时能抑制临界电压的变动的半导体装置。该半导体装置中，将氟导入到跨越第一导电型半导体区域和第二导电型的源极/漏极区域的接合界面的区域、栅极绝缘膜与沟道区域的至少中央区域的以及栅极绝缘膜、和侧壁绝缘膜中的至少一种之中。
-
公开(公告)号：CN101205089A
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：CN200710199866.X
申请日：2007-12-14
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: D06F39/006 , Y02B40/56
Abstract: 本发明提供一种清洗装置中的水再利用方法及具备该功能的洗涤机，其特征在于，在清洗装置中容易从含有界面活性剂的被处理水中去除处理界面活性剂，由此实现水的再利用，进而仅通过电解质溶液的通水即可容易地再生吸附材料。上述方法包括：界面活性剂吸附处理工序，其利用作为阴离子交换体的水滑石或作为阳离子交换体的沸石对洗涤机W中使用的含有界面活性剂的清洗水及漂洗水等被处理水中的界面活性剂吸附并进行去除处理；和水再利用工序，其在洗涤机W中使用经该界面活性剂吸附处理工序处理的被处理水。
-
公开(公告)号：CN101187039A
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN200710148758.X
申请日：2007-09-11
Applicant: 三洋电机株式会社
Abstract: 本发明提供一种电解用电极，其可以利用容易的制造方法获得，能够利用低电流密度下的水的电解，高效率地生成臭氧水，并且能够生成过氧化氢或具有强氧化力的OH自由基，本发明还提供使用了它的电解方法以及使用了它的电解装置。本发明的电解用电极(1)是具备基体(2)、在该基体(2)的表面构成的表面层(4)而成的电极，表面层(4)由锐钛矿型氧化钛构成。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
11
records
(took 0.021 seconds)
