公开(公告)号：CN109891281A

公开(公告)日：2019-06-14

申请号：CN201780067779.0

申请日：2017-09-18

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 沈大燮 ,  林亨泰 ,  赵成昕 ,  朴世铉 ,  吴釜根

IPC: G02B5/30 ,  G02B1/14 ,  G02B1/04 ,  G02B1/11

Abstract: 提供了一种用于液晶显示装置的观看者侧偏振板和包括其的液晶显示装置，该偏振板包括偏振器以及形成在偏振器的光出射表面上的保护膜，其中保护膜包括依次层叠在偏振器上的第一底漆层、保护膜基质、第二底漆层和涂层，第一保护膜满足式1的关系，并且在式2中，保护膜基质在550nm的波长下具有500nm或更小的面内相位差。

公开(公告)号：CN111033323A

公开(公告)日：2020-04-17

申请号：CN201880055849.5

申请日：2018-08-06

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 赵成昕 ,  闵景俊 ,  韩智映 ,  金旻成 ,  朴世铉 ,  吴釜根 ,  郑伍溶

IPC: G02B5/02 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1335 ,  C08L25/04

Abstract: 本发明揭示一种改善对比率的光学膜、一种包含所述光学膜的偏光板以及一种包含所述偏光板的液晶显示装置。改善对比率的光学膜包含：保护层；以及形成于保护层上的图案化层。图案化层包含形成于其一个表面上的图案化部分，且图案化部分包含压花光学图案及安置于相邻压花光学图案之间的扁平区段。压花光学图案具有约55°至约90°的底角(θ)且图案化部分满足式1。改善对比率的光学膜还包含直接毗连图案化层的一个表面的间隙填充层。(式1与本说明书中所定义的相同)。

公开(公告)号：CN109923165A

公开(公告)日：2019-06-21

申请号：CN201680090468.1

申请日：2016-12-27

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴世铉 ,  林亨泰 ,  赵成昕 ,  闵庆晙 ,  吴釜根

IPC: C08K5/5398 ,  C08F290/06 ,  C08F20/34 ,  C08F2/44 ,  C08J5/18 ,  G02F1/1335 ,  G02B1/11 ,  G02B5/30

Abstract: 本发明提供一种用于防反射膜的组合物，由其形成的防反射膜，包含其的偏光板，以及包含其的光学显示装置，所述组合物含有化学式1的化合物、UV可固化化合物、防静电剂和引发剂。

公开(公告)号：CN112652519B

公开(公告)日：2025-04-01

申请号：CN202011057384.2

申请日：2020-09-30

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金容兑 ,  吴釜根 ,  朴景铃 ,  成太根 ,  任相均 ,  林雪熙 ,  田桓承

IPC: H01L21/02 ,  C23C16/455 ,  C23C16/44 ,  C23C16/40

Abstract: 本发明公开一种用于沉积薄膜的组合物，包含含有锶、钡或其组合的有机金属化合物和至少一个由化学式1表示的含非共用电子对的化合物；一种使用用于沉积薄膜的组合物制造薄膜的方法；以及一种由用于沉积薄膜的组合物制造的薄膜；以及一种包含薄膜的半导体装置。在式1中，R1到R3的定义如本说明书中所描述。[化学式1]R1R2R3N

公开(公告)号：CN111033323B

公开(公告)日：2022-08-16

申请号：CN201880055849.5

申请日：2018-08-06

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 赵成昕 ,  闵景俊 ,  韩智映 ,  金旻成 ,  朴世铉 ,  吴釜根 ,  郑伍溶

IPC: G02B5/02 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1335 ,  C08L25/04

Abstract: 本发明揭示一种改善对比率的光学膜、一种包含所述光学膜的偏光板以及一种包含所述偏光板的液晶显示装置。改善对比率的光学膜包含：保护层；以及形成于保护层上的图案化层。图案化层包含形成于其一个表面上的图案化部分，且图案化部分包含压花光学图案及安置于相邻压花光学图案之间的扁平区段。压花光学图案具有约55°至约90°的底角且图案化部分满足式1。改善对比率的光学膜还包含直接毗连图案化层的一个表面的间隙填充层。式1与本说明书中所定义的相同。

公开(公告)号：CN109923165B

公开(公告)日：2021-02-19

申请号：CN201680090468.1

申请日：2016-12-27

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴世铉 ,  林亨泰 ,  赵成昕 ,  闵庆晙 ,  吴釜根

IPC: C08K5/5398 ,  C08F290/06 ,  C08F20/34 ,  C08F2/44 ,  C08J5/18 ,  G02F1/1335 ,  G02B1/111 ,  G02B5/30

Abstract: 本发明提供一种用于防反射膜的组合物，由其形成的防反射膜，包含其的偏光板，以及包含其的光学显示装置，所述组合物含有化学式1的化合物、UV可固化化合物、防静电剂和引发剂。

公开(公告)号：CN119439627A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202410958943.9

申请日：2024-07-17

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 徐也隐 ,  金智敏 ,  李旻映 ,  姜恩美 ,  成太根 ,  禹昌秀 ,  张水民 ,  吴釜根 ,  李忠宪

IPC: G03F7/16

Abstract: 公开一种形成图案的方法，所述方法包括：在基板上涂覆含金属的抗蚀剂组合物；进行包括干燥和加热的热处理以在基板上形成含金属的抗蚀剂层；使用经图案化的掩模对含金属的抗蚀剂层进行曝光；以及进行包括涂覆显影剂组合物以移除未曝光区的显影从而形成抗蚀剂图案，其中通过利用旋涂机以约100rpm到约1,500rpm的速度涂覆含金属的抗蚀剂组合物达约60秒到约120秒来实行对含金属的抗蚀剂组合物的涂覆，所述加热在约90℃到约200℃的温度下实行约30秒到约120秒，通过辐照极紫外光、波长为约5nm到约50nm的光、或所述极紫外光与所述光的组合来实行对含金属的抗蚀剂层的曝光。

公开(公告)号：CN117389111A

公开(公告)日：2024-01-12

申请号：CN202310577519.5

申请日：2023-05-22

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 韩承 ,  任相均 ,  李旻映 ,  金智敏 ,  徐也隐 ,  吴釜根

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明公开一种包含第一有机金属化合物、第二有机金属化合物以及溶剂的半导体光刻胶组合物和一种使用其形成图案的方法。半导体光刻胶组合物可在维持线边缘粗糙度的同时提供具有改进的敏感性的光刻胶图案。

公开(公告)号：CN113087747A

公开(公告)日：2021-07-09

申请号：CN202011416809.4

申请日：2020-12-07

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 任相均 ,  朴景铃 ,  金容兑 ,  成太根 ,  吴釜根 ,  林雪熙

IPC: C07F17/00 ,  C07F3/00 ,  C23C16/40 ,  H01L27/28

Abstract: 公开一种由化学式1表示的有机金属化合物、一种用于沉积包含有机金属化合物的薄膜的组合物、一种使用用于沉积薄膜的组合物制造薄膜的方法、一种由用于沉积薄膜的组合物制造的有机金属化合物薄膜以及一种包含薄膜的半导体装置。所述有机金属化合物在室温下呈液态且呈现低粘度和极佳挥发性。在化学式1中，M和A的定义如本说明书中所描述。[化学式1]M(A)2。

公开(公告)号：CN112652519A

公开(公告)日：2021-04-13

申请号：CN202011057384.2

申请日：2020-09-30

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金容兑 ,  吴釜根 ,  朴景铃 ,  成太根 ,  任相均 ,  林雪熙 ,  田桓承

IPC: H01L21/02 ,  C23C16/455 ,  C23C16/44 ,  C23C16/40

Abstract: 本发明公开一种用于沉积薄膜的组合物，包含含有锶、钡或其组合的有机金属化合物和至少一个由化学式1表示的含非共用电子对的化合物；一种使用用于沉积薄膜的组合物制造薄膜的方法；以及一种由用于沉积薄膜的组合物制造的薄膜；以及一种包含薄膜的半导体装置。在式1中，R1到R3的定义如本说明书中所描述。[化学式1]R1R2R3N。