掩模和采用该掩模的沉积装置

    公开(公告)号:CN101168834B

    公开(公告)日:2010-09-01

    申请号:CN200710126812.0

    申请日:2007-06-27

    Inventor: 金兑承

    CPC classification number: H01L51/0011 C23C14/042 H01L51/56

    Abstract: 本发明公开了一种掩模和采用该掩模的沉积装置。掩模的一个实施例用于在具有多个子像素区的基底上沉积薄膜。该掩模包括具有多个第一开口的第一区域,每个第一开口与多个子像素区中的一个对应。该掩模还包括具有多个第二开口的第二区域,每个第二开口与多个子像素区中的至少两个对应。第二区域位于第一区域的两侧。

    固定薄膜溅射用衬底的装置及用此装置来固定衬底的方法

    公开(公告)号:CN100587996C

    公开(公告)日:2010-02-03

    申请号:CN03142457.0

    申请日:2003-06-02

    CPC classification number: C23C14/042 C23C14/50

    Abstract: 一种用于固定薄膜溅射用衬底的装置,包括掩膜、掩膜压板、磁体和驱动单元。具有图案的掩膜位于衬底下方,以便在衬底上形成图案。掩膜压板位于衬底之上并以预定的压力朝向衬底背面运动并与之接触。磁体位于掩膜压板的上方并朝向掩膜压板运动,从而可通过磁体的磁力而使掩膜紧密地粘附在衬底上。驱动单元施加驱动力以移动磁体。当掩膜压板下降时,掩膜压板紧密地粘附在衬底上。之后,磁体朝向衬底背面下降,衬底由掩膜压板支撑。衬底下方的掩膜通过磁体的磁力而紧密地粘附在衬底的正面上。因此,由于衬底被多级式地支撑,掩膜在衬底下方的对齐不会发生错位。

    用于有机电致发光装置的薄层真空蒸发的掩模框组件

    公开(公告)号:CN100464440C

    公开(公告)日:2009-02-25

    申请号:CN03147213.3

    申请日:2003-06-03

    Inventor: 姜敞皓 金兑承

    CPC classification number: C23C14/042 H01L51/56

    Abstract: 提供了一种用于有机电致发光装置的薄层真空蒸发的掩模框组件,所述掩模框组件能减小因掩模图案尺寸增大所致的蒸发图案中的扭曲,便于蒸发图案的总间距的调节,和防止在不理想的位置发生蒸发。掩模框组件包括具有开口的框和由至少两个单位掩模元件组成的掩模。每个单位掩模元件的两端都固定到框上。单位掩模元件包括单位掩模图案,并在预定的宽度上彼此重叠,形成单个的掩模图案块。每个单位掩模元件在重叠部分中有凹陷的壁,从而使掩模的厚度在单位掩模元件之间的重叠处保持恒定。

    有机电致发光装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN1414819B

    公开(公告)日:2010-12-15

    申请号:CN02129822.X

    申请日:2002-08-15

    CPC classification number: H01L51/5237 H01L27/3281 H01L51/524

    Abstract: 一种有机电致发光装置及其制造方法。所述有机电致发光装置包括:一个透明衬底,一个第一电极层,它包括一系列在衬底的顶面上以预定图案形成并连接到衬底的相对边缘的第一电极垫部分的第一电极线;在第一电极线上作为预定图案形成的一个有机层;包括一系列在其上形成有第一电极线和有机层的衬底上形成的第二电极线的一个第二电极层,作为要从第一电极线绝缘的和连接到衬底的其他两个边缘的第二电极垫部分的预定图案;一个使用密封剂粘接到衬底上的盖,用以密封它的内部密封空间内的有机层;和一个阻挡部分,它阻挡密封剂在衬底上向密封空间内或外流动。

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