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公开(公告)号：CN1749354B
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200510106764.X
申请日：2005-08-25
CPC classification number: C09K13/06
Abstract: 一种用于除去铟氧化物层的蚀刻剂，包括主氧化剂硫酸，诸如H3PO4、HNO3、CH3COOH、HClO4、H2O2和混合物A的辅助氧化剂，含有铵-基材料的蚀刻抑制剂，及水，其中所述混合物A由过一硫酸钾(2KHSO5)、硫酸氢钾(KHSO4)和硫酸钾(K2SO4)按5∶3∶2的比例混合得到。这种蚀刻剂可以除去铟氧化物层需要去除的部分，而不破坏光刻胶图案或铟氧化物层下面的各层。
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公开(公告)号：CN1749354A
公开(公告)日：2006-03-22
申请号：CN200510106764.X
申请日：2005-08-25
CPC classification number: C09K13/06
Abstract: 一种用于除去铟氧化物层的蚀刻剂，包括主氧化剂硫酸，诸如H3PO4、HNO3、CH3COOH、HClO4、H2O2和混合物A的辅助氧化剂，含有铵－基材料的蚀刻抑制剂及水，其中所述混合物A由过一硫酸钾(2KHSO5)、硫酸氢钾(KHSO4)和硫酸钾(K2SO4)按5∶3∶2的比例混合得到。这种蚀刻剂可以除去铟氧化物层需要去除的部分，而不破坏光刻胶图案或铟氧化物层下面的各层。
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公开(公告)号：CN1725074A
公开(公告)日：2006-01-25
申请号：CN200510083347.8
申请日：2005-07-12
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/1333 , B05B3/00
Abstract: 本发明公开了一种基板处理设备及使用其的基板处理方法，该基板处理设备包括处理溶液分配器、传送单元和控制器，处理溶液分配器在基板上提供处理溶液，传送单元传送基板，而控制器控制传送单元使得基板以倾斜状态被传送。相对于平行于基板的传送方向延伸的轴旋转基板使其向侧向倾斜。该旋转可以以交替方式在两个方向进行。该设备可以不考虑基板的尺寸而用于均匀地处理基板。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1821872A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200610006210.7
申请日：2006-01-23
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/76838 , C23F1/20 , C23F1/26 , H01L21/32134 , H01L21/76841 , H01L23/53223 , H01L27/12 , H01L27/124 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供含有60至75重量％的磷酸(H3PO4)、0.5至15重量％的硝酸(HNO3)、2至15重量％的乙酸(CH3COOH)和0.1至15重量％的硝酸铝(Al(NO3)3)的抗蚀剂组合物。
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公开(公告)号：CN101615576A
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：CN200910160136.8
申请日：2005-07-12
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H01L21/6708 , B05B13/0221
Abstract: 本发明公开了一种基板处理设备及使用其的基板处理方法，该基板处理设备包括处理溶液分配器、传送单元和控制器，处理溶液分配器在基板上提供处理溶液，传送单元传送基板，而控制器控制传送单元使得基板以倾斜状态被传送。相对于平行于基板的传送方向延伸的轴旋转基板使其向侧向倾斜。该旋转可以以交替方式在两个相反方向进行。该设备可以不考虑基板的尺寸而用于均匀地处理基板。
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公开(公告)号：CN100543537C
公开(公告)日：2009-09-23
申请号：CN200510083347.8
申请日：2005-07-12
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/1333 , B05B3/00
Abstract: 本发明公开了一种基板处理设备及使用其的基板处理方法，该基板处理设备包括处理溶液分配器、传送单元和控制器，处理溶液分配器在基板上提供处理溶液，传送单元传送基板，而控制器控制传送单元使得基板以倾斜状态被传送。相对于平行于基板的传送方向延伸的轴旋转基板使其向侧向倾斜。该旋转可以以交替方式在两个相反方向进行。该设备可以不考虑基板的尺寸而用于均匀地处理基板。
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公开(公告)号：CN101615576B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200910160136.8
申请日：2005-07-12
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H01L21/6708 , B05B13/0221
Abstract: 本发明公开了一种基板处理设备及使用其的基板处理方法，该基板处理设备包括处理溶液分配器、传送单元和控制器，处理溶液分配器在基板上提供处理溶液，传送单元传送基板，而控制器控制传送单元使得基板以倾斜状态被传送。相对于平行于基板的传送方向延伸的轴旋转基板使其向侧向倾斜。该旋转可以以交替方式在两个相反方向进行。该设备可以不考虑基板的尺寸而用于均匀地处理基板。
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公开(公告)号：CN1821872B
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200610006210.7
申请日：2006-01-23
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/76838 , C23F1/20 , C23F1/26 , H01L21/32134 , H01L21/76841 , H01L23/53223 , H01L27/12 , H01L27/124 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供含有60至75重量％的磷酸(H3PO4)、0.5至15重量％的硝酸(HNO3)、2至15重量％的乙酸(CH3COOH)和0.1至15重量％的硝酸铝(Al(NO3)3)的蚀刻剂组合物。
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