公开(公告)号：CN111872851B

公开(公告)日：2024-02-06

申请号：CN201911316149.X

申请日：2019-12-19

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 韩昇澈 ,  李龙熙 ,  严泰民 ,  权炳昊 ,  李根泽

IPC: B24B53/017 ,  B24B37/10

Abstract: 提供了一种化学机械抛光(CMP)装置的修整器和一种包括该修整器的CMP装置。所述修整器包括：盘，所述盘用于对所述CMP装置的抛光垫进行修整；驱动器，所述驱动器用于使所述盘旋转；升降器，所述升降器用于升降所述驱动器；臂，所述臂用于使所述升降器旋转；以及连接器，所述连接器用于将所述驱动器连接到所述升降器，所述驱动器相对于所述升降器是可倾斜的。

公开(公告)号：CN110605657A

公开(公告)日：2019-12-24

申请号：CN201910079571.1

申请日：2019-01-28

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李龙熙 ,  韩昇澈 ,  李羲宽 ,  徐钟辉

IPC: B24B37/00 ,  B24B37/34

Abstract: 提供了调节器和包括该调节器的化学机械抛光(CMP)设备。所述化学机械抛光设备(CMP)的调节器包括：调节部件，对抛光垫进行抛光；臂，使调节部件旋转；以及柔性连接器，使调节部件与臂连接，柔性连接器是可移动的以使调节部件关于臂相对移动。

公开(公告)号：CN111872851A

公开(公告)日：2020-11-03

申请号：CN201911316149.X

申请日：2019-12-19

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 韩昇澈 ,  李龙熙 ,  严泰民 ,  权炳昊 ,  李根泽

IPC: B24B53/017 ,  B24B37/10

Abstract: 提供了一种化学机械抛光(CMP)装置的修整器和一种包括该修整器的CMP装置。所述修整器包括：盘，所述盘用于对所述CMP装置的抛光垫进行修整；驱动器，所述驱动器用于使所述盘旋转；升降器，所述升降器用于升降所述驱动器；臂，所述臂用于使所述升降器旋转；以及连接器，所述连接器用于将所述驱动器连接到所述升降器，所述驱动器相对于所述升降器是可倾斜的。

公开(公告)号：CN110605657B

公开(公告)日：2023-05-16

申请号：CN201910079571.1

申请日：2019-01-28

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李龙熙 ,  韩昇澈 ,  李羲宽 ,  徐钟辉

IPC: B24B37/00 ,  B24B37/34

Abstract: 提供了调节器和包括该调节器的化学机械抛光(CMP)设备。所述化学机械抛光设备(CMP)的调节器包括：调节部件，对抛光垫进行抛光；臂，使调节部件旋转；以及柔性连接器，使调节部件与臂连接，柔性连接器是可移动的以使调节部件关于臂相对移动。