漂洗和干燥半导体晶片的设备和方法

    公开(公告)号:CN100492596C

    公开(公告)日:2009-05-27

    申请号:CN200510064903.7

    申请日:2005-04-08

    Inventor: 金洪奭

    Abstract: 用于漂洗和干燥半导体晶片的设备包括漂洗浴槽、干燥浴槽和干燥室。漂洗浴槽和干燥浴槽通过浴槽隧道单元连接,防止在被从漂洗浴槽传送到干燥浴槽的同时半导体晶片暴露于空气。因此,防止在半导体晶片上形成水印。用于漂洗和干燥半导体晶片的方法包括在漂洗浴槽中漂洗晶片,通过隧道单元将晶片传送到干燥浴槽,防止半导体晶片暴露于空气,以及在干燥浴槽中处理晶片之后,将晶片传送到干燥室。

    磁存储器件及其操作和制造方法

    公开(公告)号:CN1750168A

    公开(公告)日:2006-03-22

    申请号:CN200510092762.X

    申请日:2005-08-23

    CPC classification number: H01L27/228 H01L43/08 H01L43/12

    Abstract: 本发明提供一种磁存储器件和操作该磁存储器件的方法,该磁存储器件具有一致翻转特性并且能够由低电流翻转。该磁存储器件包括具有圆柱形状和共轴形成的元件的MTJ(磁性隧道结)层。该MTJ层包括:被施加写电流的导电层、共轴形成在该导电层周围的绝缘层、以及形成在该绝缘层周围的材料层,该材料层与该导电层共轴并且具有多个磁层。该材料层至少包括沿该导电层顺序堆叠的下磁层、隧穿层和上磁层。

    图像形成装置、移动装置和打印控制方法

    公开(公告)号:CN105282357A

    公开(公告)日:2016-01-27

    申请号:CN201510288936.3

    申请日:2015-05-29

    Inventor: 金洪奭 金容任

    Abstract: 提供了一种图像形成装置。所述图像形成装置包括与图像形成相关的多个功能单元;控制单元,配置为当在执行使用功能单元中的第一和第二功能单元之一的第一任务时检测到对使用第一和第二功能单元之一的第二任务的执行命令时,控制所述功能单元同时执行第一任务和第二任务;以及通信接口单元,配置为向与所述图像形成装置相连的其它装置发送第二任务所需的数据,以便将所述数据临时存储在所述其它装置的存储库中。

    磁存储器件及其操作和制造方法

    公开(公告)号:CN1750168B

    公开(公告)日:2012-05-16

    申请号:CN200510092762.X

    申请日:2005-08-23

    CPC classification number: H01L27/228 H01L43/08 H01L43/12

    Abstract: 本发明提供一种磁存储器件和操作该磁存储器件的方法,该磁存储器件具有一致翻转特性并且能够由低电流翻转。该磁存储器件包括具有圆柱形状和共轴形成的元件的MTJ(磁性隧道结)层。该MTJ层包括:被施加写电流的导电层、共轴形成在该导电层周围的绝缘层、以及形成在该绝缘层周围的材料层,该材料层与该导电层共轴并且具有多个磁层。该材料层至少包括沿该导电层顺序堆叠的下磁层、隧穿层和上磁层。当写电流施加到导电层时,在上磁层中感应闭合磁场并且上磁层的磁矩沿该闭合磁场排列。

    漂洗和干燥半导体晶片的设备和方法

    公开(公告)号:CN1684232A

    公开(公告)日:2005-10-19

    申请号:CN200510064903.7

    申请日:2005-04-08

    Inventor: 金洪奭

    Abstract: 用于漂洗和干燥半导体晶片的设备包括漂洗浴槽、干燥浴槽和干燥室。漂洗浴槽和干燥浴槽通过浴槽隧道单元连接,防止在被从漂洗浴槽传送到干燥浴槽的同时半导体晶片暴露于空气。因此,防止在半导体晶片上形成水印。用于漂洗和干燥半导体晶片的方法包括在漂洗浴槽中漂洗晶片,通过隧道单元将晶片传送到干燥浴槽,防止半导体晶片暴露于空气,以及在干燥浴槽中处理晶片之后,将晶片传送到干燥室。

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