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公开(公告)号：CN1879054A
公开(公告)日：2006-12-13
申请号：CN200480033271.1
申请日：2004-09-16
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/136
Abstract: 本发明涉及一种薄膜晶体管阵列面板、液晶显示器及其制造方法。用于LCD的薄膜晶体管阵列面板用于以独立方式驱动各个像素的电路板。本发明提供了像素电极和把栅极线和数据线的扩展部分连接到外部电路的接触辅助，它们具有包括IZO层和ITO层的双层结构。ITO层设置在IZO层上。在本发明中，像素电极形成为具有IZO层和ITO层的双层以避免在总体测试过程中布线被ITO蚀刻剂破坏并防止探针上的异物堆积。在本发明中，可以仅接触辅助形成为具有IZO层和ITO层的双层，以防止在总体测试过程中探针上的异物堆积。由于减小了ITO的消耗，降低了制造成本。
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公开(公告)号：CN1790612A
公开(公告)日：2006-06-21
申请号：CN200510115825.9
申请日：2005-11-09
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/20 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H01L21/311 , H01L21/3205 , H01L21/3213 , G05B19/048 , C23C14/22 , C23C16/44 , C23F4/00 , H01J37/32 , G02F1/1368
CPC classification number: F04D29/701 , C23C16/4412 , F04D17/168 , F04D19/04
Abstract: 本发明提供了一种真空压产生装置及具有该真空压产生装置的薄膜形成装置。真空压产生装置包括真空压产生单元及稳定化模块。真空压产生单元排出工序区域流体以在工序区域形成真空。稳定化模块置于工序区域及真空压产生单元之间，为了提高工序区域的真空均匀性，其具有流体通过的至少两个弯曲的流体通道。工序区域内流体通过弯曲的流体通道排出，以提高工序区域内的真空均匀性。
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公开(公告)号：CN1758124A
公开(公告)日：2006-04-12
申请号：CN200510108073.3
申请日：2005-09-29
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/1368
CPC classification number: H01L29/458 , G02F1/136227 , H01L27/1244 , H01L27/1248
Abstract: 本发明提供了一种钝化层组件以及具有该钝化层组件的显示基板。钝化层组件位于具有薄膜组件的基板上，并且保护薄膜组件。钝化层组件包括第一钝化层和第二钝化层。第一钝化层与薄膜组件接触。第一钝化层具有与蚀刻剂相关的第一蚀刻率。第二钝化层在第一钝化层上。第二钝化层具有与蚀刻剂相关且高于第一蚀刻率的第二蚀刻率。钝化层组件降低显示装置的故障率。
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公开(公告)号：CN1514038A
公开(公告)日：2004-07-21
申请号：CN200310114708.1
申请日：2003-12-26
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: C23C14/34
CPC classification number: H01J37/3423 , C23C14/048 , C23C14/3407
Abstract: 本发明公开了溅射用靶、溅射装置及溅射方法，溅射导体靶包括：中心部分；围绕中心部分并且比中心部分厚的边缘部分；以及位于中心部分和边缘部分之间的倾斜部分，倾斜部分与垂直于边缘部分顶表面的方向形成大约30°－70°的角。
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公开(公告)号：CN100590499C
公开(公告)日：2010-02-17
申请号：CN200480033271.1
申请日：2004-09-16
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/136
Abstract: 本发明涉及一种薄膜晶体管阵列面板、液晶显示器及其制造方法。用于LCD的薄膜晶体管阵列面板用于以独立方式驱动各个像素的电路板。本发明提供了像素电极和把栅极线和数据线的扩展部分连接到外部电路的接触辅助，它们具有包括IZO层和ITO层的双层结构。ITO层设置在IZO层上。在本发明中，像素电极形成为具有IZO层和ITO层的双层以避免在总体测试过程中布线被ITO蚀刻剂破坏并防止探针上的异物堆积。在本发明中，可以仅接触辅助形成为具有IZO层和ITO层的双层，以防止在总体测试过程中探针上的异物堆积。由于减小了ITO的消耗，降低了制造成本。
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