-
公开(公告)号：CN1514038A
公开(公告)日：2004-07-21
申请号：CN200310114708.1
申请日：2003-12-26
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: C23C14/34
CPC classification number: H01J37/3423 , C23C14/048 , C23C14/3407
Abstract: 本发明公开了溅射用靶、溅射装置及溅射方法，溅射导体靶包括：中心部分；围绕中心部分并且比中心部分厚的边缘部分；以及位于中心部分和边缘部分之间的倾斜部分，倾斜部分与垂直于边缘部分顶表面的方向形成大约30°－70°的角。
Search Results
1
records
(took 0.014 seconds)
筛选
AND
AND
过滤
NOT
NOT
Scan to Join
