集成电路装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110767654B

    公开(公告)日:2023-10-13

    申请号:CN201910370476.7

    申请日:2019-05-06

    Abstract: 提供了一种集成电路装置,所述集成电路装置包括:基底;鳍型有源区,从基底突出;栅极线,与鳍型有源区交叉并覆盖鳍型有源区的顶表面和侧壁;栅极绝缘盖层,覆盖栅极线;源区/漏区,在鳍型有源区上位于栅极线的侧面处;第一导电塞,连接到源区/漏区;硬掩模层,覆盖第一导电塞中;以及第二导电塞,位于第一导电塞之间,第二导电塞通过穿过栅极绝缘盖层连接到栅极线,并且具有比每个第一导电塞的顶表面高的顶表面,其中,硬掩模层从第一导电塞朝向第二导电塞突出,使得硬掩模层的一部分从第一导电塞的边缘悬突。

    集成电路装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110767654A

    公开(公告)日:2020-02-07

    申请号:CN201910370476.7

    申请日:2019-05-06

    Abstract: 提供了一种集成电路装置,所述集成电路装置包括:基底;鳍型有源区,从基底突出;栅极线,与鳍型有源区交叉并覆盖鳍型有源区的顶表面和侧壁;栅极绝缘盖层,覆盖栅极线;源区/漏区,在鳍型有源区上位于栅极线的侧面处;第一导电塞,连接到源区/漏区;硬掩模层,覆盖第一导电塞中;以及第二导电塞,位于第一导电塞之间,第二导电塞通过穿过栅极绝缘盖层连接到栅极线,并且具有比每个第一导电塞的顶表面高的顶表面,其中,硬掩模层从第一导电塞朝向第二导电塞突出,使得硬掩模层的一部分从第一导电塞的边缘悬突。

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