公开(公告)号：CN119108250A

公开(公告)日：2024-12-10

申请号：CN202410737403.8

申请日：2024-06-07

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 赵重熙 ,  赵润济 ,  金觥乐 ,  朴钟赫

IPC: H01J37/09 ,  H01J37/02 ,  H01J37/28

Abstract: 一种半导体制造装置包括：电子束源，其被配置为发射电子束；多个会聚透镜，其设置在载物台与电子束源之间，在载物台上安放包括结构的物体；物镜，其设置在多个会聚透镜与载物台之间；光圈，其设置在多个会聚透镜之间；以及控制器，其被配置为获取根据物镜与物体之间的工作距离的多个原始图像，从多个原始图像获取指示结构的图案图像，获取指示电子束在物体上的分布的多个核心图像，获取指示结构在多个原始图像中的相对位置的多个位置矢量，以及基于指示根据工作距离的多个位置矢量的运动的运动矢量调整光圈的位置。

公开(公告)号：CN118016561A

公开(公告)日：2024-05-10

申请号：CN202311473692.7

申请日：2023-11-07

Applicant: 细美事有限公司 ,  三星电子株式会社

Inventor： 金珉贞 ,  韩真儿 ,  金俙焕 ,  洪榕焄 ,  金京肃 ,  朴钟赫 ,  朴珍炯 ,  郑大赫 ,  车知勋

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/306

Abstract: 一种用于处理衬底的装置和方法可以降低化学溶液中的处理副产物的浓度。该装置包括：衬底旋转设备，其被配置成以旋转方式旋转安置的衬底；化学溶液供应设备，其被配置成向衬底供应化学溶液；化学溶液排放管线，其被配置成将已经历处理的化学溶液排放到外部；化学溶液循环管线，其被配置成将已经历处理的化学溶液循环到化学溶液供应设备；以及排放化学溶液选择设备，其被配置成通过化学溶液排放管线将包含第一数量的处理副产物的化学溶液排放到外部，并且通过化学溶液循环管线使包含第二数量的处理副产物的化学溶液循环，其中第一数量的处理副产物大于第二数量的处理副产物。

公开(公告)号：CN109256579A

公开(公告)日：2019-01-22

申请号：CN201711393071.2

申请日：2017-12-21

Applicant: 三星电子株式会社 ,  三星SDI株式会社

Inventor： 姜景元 ,  金贤重 ,  严泰民 ,  崔溶元 ,  朴京一 ,  朴钟赫 ,  吴大植 ,  尹熙烈 ,  秦尚映

IPC: H01M10/04

Abstract: 根据本发明实施例的电池制造系统包括：多个模块化设备；多个物流接口；以及移送装置，用于向多个物流接口分别移送材料或对多个物流接口分别排出的产品进行移送。多个物流接口分别配备于多个模块化设备中，并将由移送装置移送的材料分别提供到多个模块化设备中，多个模块化设备分别排出产品。多个模块化设备包括：第一模块化设备，通过执行第一焊接工程而形成第一产品；第二模块化设备，通过对第一产品执行折叠工程而形成第一电池芯；第三模块化设备，执行将第一电池芯插入到管内的插入工程；第四模块化设备，通过对已插入第一电池芯的管执行第二焊接工程而制造管式电池；以及第五模块化设备，执行对管式电池进行检查的检查工程。

公开(公告)号：CN117810105A

公开(公告)日：2024-04-02

申请号：CN202311192706.8

申请日：2023-09-15

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴钟赫 ,  金觥乐 ,  金智雄 ,  朴惠绿 ,  王諪炫 ,  李明俊 ,  赵润济 ,  赵重熙 ,  黄允

IPC: H01L21/66 ,  G01D21/02

Abstract: 一种基板分析系统，包括：装载锁定模块，其被配置为装载或卸载其上形成有图案层的基板；研磨模块，其被配置为形成研磨表面，图案层的至少一部分从研磨表面被去除；深度测量模块，其被配置为测量形成在研磨表面上的分析区域的研磨深度；成像模块，其被配置为捕获分析区域的二维图像；以及控制模块，当研磨深度比设置的目标深度浅时，控制模块控制基板循环通过研磨模块、深度测量模块和成像模块，其中，研磨模块根据基于离子束的强度图接收的扫描轮廓来调整离子束的路径，使得离子束在研磨区域中水平地移动。